[發(fā)明專利]靜電充電部件、靜電充電裝置、處理盒以及成像裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910140448.2 | 申請日： | 2009-05-15 |
| 公開（公告）號： | CN101727045A | 公開（公告）日： | 2010-06-09 |
| 發(fā)明（設計）人： | 星尾拓郎;和田昇;竹本誠;一條長人;太田直己;井上憲治;三浦宏之;小野景子;星崎武敏;六反實 | 申請（專利權）人： | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號： | G03G15/02 | 分類號： | G03G15/02;G03G21/18;G03G15/01;G03G21/00 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 丁業(yè)平;張?zhí)焓?/td> |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 靜電 充電 部件 裝置 處理 以及 成像 | ||
1.一種靜電充電部件，包括：
基材；以及
含有多孔填料和N-烷氧基甲基化尼龍的最外層，該最外層的凝 膠率為至少約50％、并且其表面粗糙度Rz為約2μm至約20μm， 其中所述多孔填料為聚酰胺樹脂。
2.根據權利要求1所述的靜電充電部件，其中
所述最外層還含有選自由聚乙烯醇縮醛樹脂、聚酯樹脂、酚醛 樹脂、環(huán)氧樹脂、三聚氰胺樹脂和苯并胍胺樹脂組成的組中的至少一 種材料。
3.根據權利要求1所述的靜電充電部件，其中
所述N-烷氧基甲基化尼龍為N-甲氧基甲基化尼龍。
4.根據權利要求1所述的靜電充電部件，其中
所述最外層為通過使用酸性熱活化催化劑進行交聯反應而形成 的層。
5.一種靜電充電裝置，包括：
靜電充電部件，該靜電充電部件包括：
基材，以及
含有多孔填料和N-烷氧基甲基化尼龍的最外層，該最外層的凝 膠率為至少約50％、且其表面粗糙度Rz為約2μm至約20μm，其 中所述多孔填料為聚酰胺樹脂。
6.根據權利要求5所述的靜電充電裝置，還包括：
清潔部件，該清潔部件用于清潔所述靜電充電部件的表面。
7.根據權利要求6所述的靜電充電裝置，其中
所述清潔部件包括含有泡沫材料的彈性層。
8.一種處理盒，包括：
圖像保持部件；以及
靜電充電部件，該靜電充電部件對所述圖像保持部件進行靜電 充電，并且所述靜電充電部件包括：
基材，以及
含有多孔填料和N-烷氧基甲基化尼龍的最外層，該最外層的凝 膠率為至少約50％、且其表面粗糙度Rz為約2μm至約20μm，其 中所述多孔填料為聚酰胺樹脂。
9.根據權利要求8所述的處理盒，還包括：
清潔部件，該清潔部件用于清潔所述靜電充電部件的表面。
10.根據權利要求9所述的處理盒，其中
所述清潔部件包括含有泡沫材料的彈性層。
11.一種成像裝置，包括：
圖像保持部件；
靜電充電部件，該靜電充電部件對所述圖像保持部件進行靜電 充電，并且所述靜電充電部件包括：
基材，以及
含有多孔填料和N-烷氧基甲基化尼龍的最外層，該最外層的凝 膠率為至少約50％、且其表面粗糙度Rz為約2μm至約20μm，其 中所述多孔填料為聚酰胺樹脂；
潛像形成單元，該潛像形成單元在所述圖像保持部件的表面上 形成潛像；以及
顯影單元，該顯影單元利用調色劑對形成于所述圖像保持部件 的表面上的潛像進行顯影，以形成調色劑圖像。
12.根據權利要求11所述的成像裝置，還包括：
清潔部件，該清潔部件用于清潔所述靜電充電部件的表面。
13.根據權利要求12所述的成像裝置，其中
所述清潔部件包括含有泡沫材料的彈性層。
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