[發明專利]成像裝置

有效

• 申請號: 200910140137.6
• 申請日: 2009-07-08
• 公開（公告）號: CN101625539A
• 公開（公告）日: 2010-01-13
• 發明（設計）人: 岡野覺;平澤友康;中村均
• 申請（專利權）人: 株式會社理光
• 主分類號: G03G21/20
• 分類號: G03G21/20;G03G15/08
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 王 冉

1.一種成像裝置，該成像裝置包括使用冷卻劑冷卻成像部分的液冷型 冷卻系統，其中成像部分的溫度是通過成像操作得以升高，其特征在于，

所述液冷型冷卻系統包括：

吸熱構件，該吸熱構件布置成與所述成像部分熱接觸并具有所述冷卻 劑流過其中的流動通道；

入口側管道，該入口側管道被連接到所述吸熱構件中的流動通道的冷 卻劑入口側；

出口側管道，該出口側管道被連接到所述吸熱構件的流動通道的冷卻 劑出口側；

管子構件，該管子構件被連接在所述入口側管道和所述出口側管道之 間，用于形成循環通道以使所述冷卻劑循環流過所述吸熱構件中的流動通 道；

泵，該泵沿著所述管子構件布置在某一點處，用于使所述冷卻劑循 環；以及

散熱單元，該散熱單元沿著所述管子構件被布置在另一點處并被配置 成散去由所述冷卻劑經由所述吸熱構件從所述成像部分吸收的熱量，

其中被連接到所述吸熱構件的入口側管道和出口側管道經由接頭被連 接到所述管子構件；

其中所述接頭被布置在設置于所述成像部分和用于驅動或控制該成像 部分的電氣部件驅動部分之間的空間內；且

其中所述接頭被屏蔽構件包圍，該屏蔽構件被配置成將所述接頭部分 與所述成像部分和所述電氣部件驅動部分屏蔽。

2.如權利要求1的成像裝置，還包括布置在所述接頭之下的流體收集 構件。

3.如權利要求1的成像裝置，其中所述接頭以密封方式被所述屏蔽構 件包圍。

4.如權利要求3的成像裝置，其中吸濕劑設置在所述屏蔽構件內部。

5.如權利要求3或4的成像裝置，還包括布置在所述屏蔽構件之下的 排放管以及設置在所述排放管的端部的流體收集構件。

6.如權利要求1到4中任一項的成像裝置，還包括布置在所述接頭附 近的泄漏檢測傳感器。

7.如權利要求5的成像裝置，還包括布置在所述接頭附近的泄漏檢測 傳感器。