[發(fā)明專(zhuān)利]實(shí)現(xiàn)金剛石膜球冠制備過(guò)程中基體均溫的裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910138097.1
• 申請(qǐng)日: 2008-06-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101580932A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-11-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 左敦穩(wěn);李多生;盧文壯;陳榮發(fā);孫業(yè)斌
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 南京航空航天大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/27
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/27;C23C16/52
• 代理公司: 南京天華專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 瞿網(wǎng)蘭

1.一種實(shí)現(xiàn)金剛石膜球冠制備過(guò)程中基體均溫的裝置，包括銅質(zhì)基座(6)，銅質(zhì)基座(6)的上表面與沉積基體(1)的下表面相接觸，所述的銅質(zhì)基座(6)為一中空的結(jié)構(gòu)，其中安裝有循環(huán)水分配體(2)，循環(huán)水分配體(2)上設(shè)有進(jìn)水孔(3)和出水孔(4)，在銅質(zhì)基座(6)和循環(huán)水分配體(2)之間形成有冷卻水腔(5)，冷卻水腔(5)的與沉積基體(1)相接觸的底壁或呈階梯結(jié)構(gòu)或呈球面結(jié)構(gòu)，且底壁的厚度分布與沉積基體上表面溫度分布成反比，即沉積基體上表面溫度越高的區(qū)域，其對(duì)應(yīng)處的壁厚越小，其特征是所述的冷卻水腔(5)的底壁設(shè)有五個(gè)等寬的圓環(huán)狀階梯，五個(gè)圓環(huán)狀階梯的高度分別為h1＝0.0004R+1.3563，h2＝-0.0001R²+0.0046R+1.8674，h3＝-0.0051R+2.8717，h4＝-0.0027R+3.9076，h5＝0.0001R²-0.0118R+5.1713，其中R為沉積體表面曲率半徑；沉積基體(1)的表面為上凸形，h1是指銅質(zhì)基座(6)底壁中心的第一臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離，h2是指緊鄰第一臺(tái)階面的第二臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離，h3是指緊鄰第二臺(tái)階面的第三臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離，h4是指緊鄰第三臺(tái)階面的第四臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離，h5是指緊鄰第四臺(tái)階面的第五臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離。

2.一種實(shí)現(xiàn)金剛石膜球冠制備過(guò)程中基體均溫的裝置，包括銅質(zhì)基座(6)，銅質(zhì)基座(6)的上表面與沉積基體(1)的下表面相接觸，所述的銅質(zhì)基座(6)為一中空的結(jié)構(gòu)，其中安裝有循環(huán)水分配體(2)，循環(huán)水分配體(2)上設(shè)有進(jìn)水孔(3)和出水孔(4)，在銅質(zhì)基座(6)和循環(huán)水分配體(2)之間形成有冷卻水腔(5)，冷卻水腔(5)的與沉積基體(1)相接觸的底壁或呈階梯結(jié)構(gòu)或呈球面結(jié)構(gòu)，且底壁的厚度分布與沉積基體上表面溫度分布成反比，即沉積基體上表面溫度越高的區(qū)域，其對(duì)應(yīng)處的壁厚越小，其特征是所述的冷卻水腔(5)的底壁設(shè)有五個(gè)等寬的圓環(huán)狀階梯，五個(gè)圓環(huán)狀階梯的高度分別為h1＝0.0004R+1.3563，h2＝-0.0001R²+0.0046R+1.8674，h3＝-0.0051R+2.8717，h4＝-0.0027R+3.9076，h5＝0.0001R²-0.0118R+5.1713，其中R為沉積體表面曲率半徑；沉積基體(1)的表面為下凹形，h1是指銅質(zhì)基座(6)底壁最外圓的第一臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離，h2是指緊鄰第一臺(tái)階面的第二臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離，h3是指緊鄰第二臺(tái)階面的第三臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離，h4是指緊鄰第三臺(tái)階面的第四臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離，h5是指緊鄰第四臺(tái)階面的第五臺(tái)階面離銅質(zhì)基座(6)上表面的距離。