[發明專利]用于直寫晶片的系統和方法

在審

• 申請號: 200910136076.6
• 申請日: 2009-04-27
• 公開（公告）號: CN101566802A
• 公開（公告）日: 2009-10-28
• 發明（設計）人: 林本堅;陳政宏;林世杰;高蔡勝
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市德恒律師事務所
• 代理人: 馬佑平;馬鐵良

1、一種直寫(DW)曝光系統，包括：

載物臺，用于支撐襯底，并配置為在曝光期間沿軸掃描所述襯底；

數據處理模塊，用于處理構圖數據并生成所述構圖數據相關的指令；以及

曝光模塊，包括：

多個光束，其聚焦于襯底使得所述光束覆蓋的寬度大于所述曝光系統的區域尺寸的寬度，所述寬度的方向不同于所述軸；以及

光束控制器，其在所述襯底沿所述軸被掃描時根據所述指令控制所述多個光束。

2、根據權利要求1所述的系統，其中所述區域尺寸包括在投影成像系統中透鏡能夠將圖像從光掩模完全投影到晶片上的最大曝光面積。

3、根據權利要求1所述的系統，其中所述光束可以基本上覆蓋所述襯底的寬度或大約所述襯底的一半寬度。

4、根據權利要求1所述的系統，其中所述多個光束中的每個選自包括電子束、離子束和光子束的集合中的一個類型。

5、根據權利要求1所述的系統，其中所述襯底包括形成在其上的記錄介質。

6、根據權利要求1所述的系統，還包括：

多條光纖，用于將由所述數據處理單元生成的指令傳輸到曝光單元，所述指令通過光信號傳輸；

轉換器，用于將所述光信號轉換為相應的電信號；以及

開關電路，用于接收所述電信號并將所述電信號分發到所述光束控制器。

7、根據權利要求6所述的系統，還包括：

編碼器，用于將所述指令編碼以通過所述多條光纖傳輸；以及

解碼器，用于解碼所述指令以輸入到所述開關電路中。

8、一種用于直寫襯底的方法，所述方法包括：

提供襯底，所述襯底具有形成在其上的記錄介質；

生成相關于形成在所述襯底之上的構圖的指令；

沿軸掃描所述襯底；

提供多個光束，其覆蓋的寬度大于曝光系統的區域尺寸的寬度，所述寬度的方向不同于所述軸；以及

在所述襯底沿所述軸被掃描時根據所述指令控制所述多個光束，以使所述記錄介質被所述多個光束曝光。

9、根據權利要求8所述的方法，其中所述多個光束基本覆蓋所述襯底的寬度，其中所述掃描沿軸的一個方向進行以曝光所述整個襯底。

10、根據權利要求8所述的方法，其中所述多個光束覆蓋大約所述襯底寬度的一半。

11、根據權利要求8所述的方法，其中所述區域尺寸包括在投影成像系統中透鏡能夠將圖像從光掩模完全投影到所述晶片的最大曝光面積。

12、根據權利要求8所述的方法，

其中所述指令包括一組區域間光束阻止指令；

包括并行分發所述區域間光束阻止指令組到至少兩個區域；

其中所述控制多個光束包括根據所述指令組控制所述多個光束的第一部分以對所述至少兩個區域中的一個寫構圖，以及根據所述相同的指令組控制所述多個光束的第二部分以對所述至少兩個區域中的另外一個寫構圖。

13、根據權利要求8所述的方法，

其中所述指令包括區域內光束阻止指令；

包括編碼所述區域內光束阻止指令用于多條光纖的共享；以及

包括解碼將要分發到所述多個光束以覆蓋至少兩個區域中的每一個的所述編碼的指令，所述至少兩個區域在曝光期間同時被寫入構圖。

14、一種直寫掃描曝光設備，所述設備包括：

載物臺，用于保護襯底，并能夠掃描所述襯底，所述襯底具有形成在其上的記錄介質；

數據處理部分，用于生成相關于形成在所述襯底之上的構圖的光束阻止指令；

多光束部分，其聚焦在所述記錄介質上；

光束阻止部分，用于在所述襯底被掃描時根據所述光束阻止指令控制所述多光束部分；以及

多個載體，用于將所述光束阻止指令從數據處理部分攜帶到所述光束阻止部分；

其中所述光束阻止指令被并行發送以使至少兩個區域被多光束部分同時寫在所述記錄介質上以在所述至少兩個區域上形成構圖。

15、根據權利要求14所述的設備，還包括：

編碼器，用于編碼所述光束阻止指令用于被載體傳輸；以及

解碼器，用于解碼所述載體上的所述編碼的光束阻止指令，

其中所述編碼的指令包括區域內光束阻止指令。