[發明專利]感應加熱的熱處理烤箱有效
| 申請號: | 200910135329.8 | 申請日: | 2009-04-20 |
| 公開(公告)號: | CN101560651A | 公開(公告)日: | 2009-10-21 |
| 發明(設計)人: | B·德爾佩里耶;Y·博德里;O·珀蒂讓 | 申請(專利權)人: | 斯奈克瑪動力部件公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;C23C16/26 |
| 代理公司: | 北京戈程知識產權代理有限公司 | 代理人: | 程 偉;王錦陽 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 感應 加熱 熱處理 烤箱 | ||
1.一種熱處理烤箱(10),該烤箱包括裝載或處理區(30)、至少 一個氣體入口(22)、位于烤箱中所述氣體入口(22)和所述裝載或處 理區(30)之間的氣體預加熱腔(50)、至少包含圍繞所述預加熱腔(50) 和所述裝載或處理區(30)的側壁(12)的感受器、以及適用于通過 感應加熱所述側壁(12)的磁場繞組(18),其中所述感受器的側壁(12) 的位于預加熱腔(50)周圍的部分(121)具有至少兩個凹進(1210; 2210;3210),所述兩個凹進沿圓周彼此分開,從而在所述側壁的所述 部分中形成厚度減小的部分。
2.根據權利要求1所述的烤箱,其中位于所述預加熱腔(50)周 圍的所述感受器的側壁具有三個彼此均勻分開的凹進(1210)。
3.根據權利要求1所述的烤箱,其中所述凹進(1210;2210;3210) 在所述感受器的所述側壁的內周邊或外周邊上形成。
4.根據權利要求1所述的烤箱,其中所述凹進(1210;2210;3210) 彼此規則地分開。
5.根據權利要求1所述的烤箱,其中所述側壁的包含位于所述凹 進(1210;2210;3210)處的部分具有減小的厚度,該厚度在所述側 壁的厚度的其余部分的30%到60%的范圍內。
6.根據權利要求1所述的烤箱,其中所述凹進(1210;2210;3210) 的高度小于所述預加熱腔的高度。
7.根據權利要求1所述的烤箱,其中所述凹進(1210;2210;3210) 的寬度至少為15cm。
8.根據權利要求1所述的烤箱,其中所述感受器的所述側壁至少 由圍繞所述裝載區(30;330)的頂套管(122;322)和圍繞所述預加 熱腔(50;350)的底套管(121;321)組成,所述底套管包含所述凹 進(1210;3210)。
9.根據權利要求8所述的烤箱,其中所述底套管(121)形成所 述預加熱腔(50)的所述側壁,以及其中所述底套管包含用于支撐所 述預加熱腔(50)的頂板(60)的側翼(121a)。
10.根據權利要求1所述的烤箱,其中所述感受器的所述側壁(12; 312)由石墨制成。
11.根據權利要求1所述的烤箱,其中在所述凹進中填充電絕緣 材料。
12.根據權利要求11所述的烤箱,其中所述材料也是熱絕緣的。
13.根據權利要求1所述的烤箱,其中所述磁場繞組連接到頻率 在50Hz到1000Hz范圍內的交流電壓發生器。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





