[發明專利]光盤裝置以及電子設備無效
| 申請號: | 200910133526.6 | 申請日: | 2009-04-10 |
| 公開(公告)號: | CN101572097A | 公開(公告)日: | 2009-11-04 |
| 發明(設計)人: | 藤本貴行;伊部誠;濱家誠二;原田望;淺野晉矢;山內良明 | 申請(專利權)人: | 株式會社日立制作所;日立樂金資料儲存股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/00 | 分類號: | G11B7/00;G11B33/12;G11B33/14 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 曲 瑞 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光盤 裝置 以及 電子設備 | ||
技術領域
本發明涉及使作為信息記錄介質的盤旋轉而進行數據的記錄以及再現的光盤裝置以及電子設備。
背景技術
光盤裝置是指,在使作為數據記錄介質的圓盤狀的盤旋轉的狀態下,對盤面進行數據的記錄、或者再現記錄在盤面中的數據的數據存儲裝置。
在該光盤裝置中,具備被用作用于記錄數據的信號寫入單元以及用于再現數據的信號讀取單元的半導體激光元件、激光受光部等的電子部件(光學頭)被稱為光拾取器或被簡稱為拾取器。
另外,作為成為數據記錄介質的盤,例如可以舉出CD-ROM(Compact?Disk?Read?Only?Memory,高密度只讀存儲器盤)、CD-R(Compact?Disk?Recordable,高密度可寫盤)、CD-RW(CompactDisk?ReWritable,高密度可改寫盤)、DVD-ROM(Digital?VersatileDisk?Read?Only?Memory,數字通用只讀存儲器盤)、DVD-R(DigitalVersatile?Disk?Recordable,僅可寫入一次的追加型DVD)、DVD-RW(可改寫型DVD的一個規格)、DVD-RAM(Digital?Versatile?DiskRandom?Access?Memory,數字通用隨機存取存儲器盤)、DVD+R(追加型DVD的規格)、DVD+RW(可改寫的DVD的一個規格)、BD-ROM(Blu-ray(注冊商標)Disc?Read?Only?Memory,藍光只讀存儲器盤)、BD-R(Blu-ray(注冊商標)Disc?Recordable,藍光可寫盤)、BD-RE(Blu-ray(注冊商標)Disc?Rewritable,藍光可改寫盤)等。
一般,光盤裝置被搭載于具備進行對光盤裝置的訪問控制以及運?算處理等的中央運算處理裝置(CPU:Central?Processing?Unit)的電子設備、例如個人計算機等中。在該搭載的電子設備為臺式個人計算機的情況下,光盤裝置一般被稱為半高(half?height)型光盤裝置,另一方面在搭載于筆記本型個人計算機(便攜用個人計算機)中的情況下,一般被稱為細長型光盤裝置。另外,半高是指,內置驅動器的厚度為大約1.6英寸(4.1cm)。
當前,在光盤裝置中,要求對數據存儲容量進一步大容量化。
因此,需要使盤記錄層成為多層化,但為了應對多層記錄,與一層記錄相比,需要使半導體激光的光輸出進一步增大。其結果,激光元件的溫度急劇上升,從而元件壽命降低、各種結構要素劣化等,于是光盤裝置的質量降低的問題變得顯著。
特別地,在細長型光盤裝置的情況下,與半高型光盤裝置相比框體容積變小而成為高密度安裝,所以與半高型光盤裝置相比激光元件被置于高溫氣氛中。另外,對于激光元件的溫度,在光拾取器移動到盤最外周位置時,由于隨著激光元件的工作時間的長期化、激光元件的發生熱通過盤旋轉的空氣流而停滯于盤最外周位置等,而呈現最高值,所以更需要高效地對此時的從激光元件發生的熱進行散熱。
作為其對策,例如,在專利文獻1以及專利文獻2中,提出了如下方法:在細長型光盤裝置中,在光拾取器的支撐板、即裝飾板的盤最外周附近處設置通風孔,從而利用由與盤旋轉相伴的空氣回旋發生的通過通風孔的空氣流,使光拾取器散熱。
專利文獻1:日本特開平11-25667號公報(第0012~0014段、圖1、圖2等)
專利文獻2:日本特開2005-100561號公報(第0043段、圖2、圖6、圖8等)
發明內容
但是,光盤裝置的激光元件的安裝位置根據每個光拾取器而不同,而且,在上述多層記錄中,無法如一層記錄的程度那樣大幅提高?盤轉速。因此,如專利文獻1以及專利文獻2公開那樣,通過僅在裝飾板中設置通風孔,對于安裝位置根據每個光拾取器而不同的激光元件,無法通過局部地增加激光元件周圍的空氣流的流速來促進激光元件的散熱,無法解決由于發生的熱而引起的質量降低的問題。
因此,為了針對安裝位置根據每個光拾取器而不同的激光元件促進激光元件的散熱,需要用于在光拾取器移動到激光元件溫度示出最高值的盤最外周位置時,將通過盤的旋轉而發生的空氣流局部地引導至激光元件的周圍的新的結構。
特別,由于無法大幅提高盤旋轉速度,所以在激光輸出比一層記錄高的多層記錄中,還需要使該激光元件周圍的空氣流的流速增加的新結構。
這樣,在光盤裝置中,存在激光元件溫度上升,從而激光元件壽命降低,光盤裝置的性能劣化這樣的應解決的技術課題。
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