[發明專利]蝕刻液調合裝置及蝕刻液濃度測定裝置

有效

• 申請號: 200910133196.0
• 申請日: 2009-04-15
• 公開（公告）號: CN101567309A
• 公開（公告）日: 2009-10-28
• 發明（設計）人: 中川俊元;佐藤壽邦
• 申請（專利權）人: 株式會社平間理化研究所
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/66;C23F1/08
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李貴亮

1.一種蝕刻液調合裝置，其具備：調合鋁膜用蝕刻液的調合槽；與 所述調合槽連接的管路；向所述管路輸送所述蝕刻液或所述蝕刻液的調合 中使用的液體的泵，所述蝕刻液調合裝置通過所述管路與蝕刻裝置連接， 其特征在于，所述蝕刻液調合裝置具備：

硝酸濃度檢測及液體補給機構，其基于通過利用電導率計檢測用純水 稀釋所述調合槽內的蝕刻液而形成的稀釋液的電導率而得到的所述蝕刻 液的硝酸濃度、或通過利用吸光光度計檢測所述蝕刻液的吸光度而得到的 所述蝕刻液的硝酸濃度，向所述調合槽補給單一酸原液、混酸原液或純水 的至少一種；

水分濃度檢測及液體補給機構，其基于通過利用吸光光度計檢測所述 蝕刻液的吸光度而得到的所述蝕刻液的水分濃度，向所述調合槽補給單一 酸原液、混酸原液或純水的至少一種；

磷酸濃度檢測及液體補給機構，其基于通過利用吸光光度計檢測所述 蝕刻液的吸光度而得到的所述蝕刻液的磷酸濃度或通過利用密度計檢測 所述蝕刻液的密度而得到的所述蝕刻液的磷酸濃度，向所述調合槽補給單 一酸原液、混酸原液或純水的至少一種。

2.根據權利要求1所述的蝕刻液調合裝置，其中，

所述蝕刻液為含有磷酸和硝酸的水溶液。

3.根據權利要求2所述的蝕刻液調合裝置，其中，

所述蝕刻液是還含有有機酸、鹽酸、硫酸、高氯酸的至少一種的水溶 液。

4.根據權利要求3所述的蝕刻液調合裝置，其中，

所述有機酸為醋酸或丙二酸。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的蝕刻液調合裝置，其中，

所述蝕刻液調合裝置采用連續調合方式。

6.一種蝕刻液調合裝置，其具備：調合鋁膜用蝕刻液的調合槽；與 所述調合槽連接的管路；向所述管路輸送所述蝕刻液或所述蝕刻液的調合 中使用的液體的泵，所述蝕刻液調合裝置通過所述管路與蝕刻裝置連接， 其特征在于，所述蝕刻液調合裝置具備：

檢測用純水稀釋所述調合槽內的蝕刻液而形成的稀釋液的電導率的 電導率計或檢測所述蝕刻液的硝酸濃度的吸光光度計；

檢測所述蝕刻液的水分濃度的吸光光度計；

檢測所述蝕刻液的磷酸濃度的吸光光度計或密度計；

成分濃度運算機構，其根據檢測硝酸濃度的所述電導率計的電導率值 或檢測硝酸濃度的所述吸光光度計的吸光度值、檢測水分濃度的所述吸光 光度計的吸光度值和檢測磷酸濃度的所述吸光光度計的吸光度值或檢測 磷酸濃度的所述密度計的密度值，利用多變量解析法來運算所述蝕刻液的 成分濃度；

液體補給機構，其向所述調合槽中補給單一酸原液、混酸原液及純水 的至少一種。

7.根據權利要求6所述的蝕刻液調合裝置，其中，

所述蝕刻液為含有磷酸和硝酸的水溶液。

8.根據權利要求7所述的蝕刻液調合裝置，其中，

所述蝕刻液是還含有有機酸、鹽酸、硫酸、高氯酸的至少一種的水溶 液。

9.根據權利要求8所述的蝕刻液調合裝置，其中，

所述有機酸為醋酸或丙二酸。

10.根據權利要求6～9中任一項所述的蝕刻液調合裝置，其中，

所述蝕刻液調合裝置采用連續調合方式。

11.一種蝕刻液濃度測定裝置，其特征在于，具備：

檢測用純水稀釋鋁膜用蝕刻液而形成的稀釋液的電導率的電導率計 或檢測所述蝕刻液的硝酸濃度的吸光光度計；

檢測所述蝕刻液的水分濃度的吸光光度計；

檢測所述蝕刻液的磷酸濃度的吸光光度計或密度計；

成分濃度運算機構，其根據檢測電導率的所述電導率計的電導率值或 檢測硝酸濃度的所述吸光光度計的吸光度值、檢測水分濃度的所述吸光光 度計的吸光度值和檢測磷酸濃度的所述吸光光度計的吸光度值或檢測磷 酸濃度的所述密度計的密度值，利用多變量解析法來運算所述蝕刻液的成 分濃度。

12.根據權利要求11所述的蝕刻液濃度測定裝置，其中，

檢測所述蝕刻液的硝酸濃度的吸光光度計為使用了紫外線區域的波 長的紫外吸光光度計。