[發(fā)明專利]光學(xué)薄膜及其制造方法、以及具有該光學(xué)薄膜的偏振片和圖像顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910132925.0
• 申請(qǐng)日: 2009-03-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101551473A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-10-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 矢內(nèi)雄二郎;佐佐田泰行
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G02B1/04
• 分類號(hào): G02B1/04;G02B5/30;B32B7/02;B32B37/12;G02F1/1335;B29C55/04
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 陳建全

1.一種光學(xué)薄膜，其包含由纖維素酰化物類聚合物組合物形成的第1 區(qū)域和配置在該第1區(qū)域內(nèi)部的第2區(qū)域，其中，所述第2區(qū)域?yàn)榫哂行? 狀各向異性的氣泡，所述第1區(qū)域中聚合物的分子主鏈的平均取向方向與 所述第2區(qū)域的長(zhǎng)軸的平均方向不同，

并且所述光學(xué)薄膜在拉伸時(shí)的溫度為(Tg-20)～Tc℃、且拉伸倍率為 1～300％下進(jìn)行了拉伸，其中，Tg表示薄膜的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度，Tc表示薄 膜的結(jié)晶化溫度，Tg和Tc的單位為℃。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述第2區(qū)域的長(zhǎng)軸 平均長(zhǎng)與所述第2區(qū)域的薄膜面內(nèi)方向的短軸平均長(zhǎng)的比為1.1～30。

3.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述第2區(qū)域的 長(zhǎng)軸平均長(zhǎng)與所述第2區(qū)域的薄膜膜厚方向的短軸平均長(zhǎng)的比為30～300。

4.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述第1區(qū)域的 折射率n1比所述第2區(qū)域的折射率n2大0.01～1.00。

5.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述第2區(qū)域的 當(dāng)量球徑為0.02μm以上。

6.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述第2區(qū)域的 體積分率為20～70％。

7.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述第2區(qū)域在 膜厚方向具有密度分布。

8.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，霧度為15％以上。

9.權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其包含將由聚合物組 合物形成的、霧度為1％以下的薄膜在拉伸溫度為(Tg-20)～Tc℃、且拉 伸倍率為1～300％下進(jìn)行拉伸的工序，其中，Tg為薄膜的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度， 單位為℃；Tc為薄膜的結(jié)晶化溫度，單位為℃。

10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其特征在于，在所述拉 伸時(shí)，將施加于所述薄膜的沿拉伸方向的拉伸最大應(yīng)力控制到10Mpa～ 60Mpa。

11.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其特征在于，在所述拉 伸時(shí)，將薄膜的表面溫度與背面溫度間的溫度差控制到0.1度以上。

12.如權(quán)利要求10所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其特征在于，在所述 拉伸時(shí)，將薄膜的表面溫度與背面溫度間的溫度差控制到0.1度以上。

13.一種偏振片，其特征在于，具有至少一片權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng) 所述的光學(xué)薄膜。

14.一種圖像顯示裝置，其特征在于，具有至少一片權(quán)利要求1～8中 任一項(xiàng)所述的光學(xué)薄膜或權(quán)利要求13所述的偏振片。