[發明專利]共軛二烯系聚合物、共軛二烯系聚合物組合物以及共軛二烯系聚合物的制造方法

有效

• 申請號: 200910132521.1
• 申請日: 2009-03-31
• 公開（公告）號: CN101550206A
• 公開（公告）日: 2009-10-07
• 發明（設計）人: 大島真弓;藤井徹
• 申請（專利權）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: C08F8/42
• 分類號: C08F8/42;C08F36/04;C08L47/00;C08J3/24
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 熊玉蘭;李平英

1.共軛二烯系聚合物，其特征在于，具有基于共軛二烯的結構單元， 聚合物鏈的兩末端具有下式(I)表示的基團，

式(I)中，R¹表示氫原子、碳原子數為1～20的烴基、碳原子數為1～ 20的取代烴基，X¹、X²以及X³各自獨立，表示下式(II)表示的基團、 羥基、烴基或取代烴基，X¹、X²以及X³的至少一個為下式(II)表示的 基團或羥基，

式(II)中，R²以及R³各自獨立，表示碳原子數為1～6的烴基、碳原子 數為1～6的取代烴基、甲硅烷基或取代甲硅烷基，R²以及R³可鍵合并與 N原子一起形成環結構，

其中，該共軛二烯系聚合物通過具有下述工序A、B以及C的制造方 法獲得，

工序A：使碳原子數2～20的有機堿金屬化合物催化劑與下式(III) 表示的硅化合物在烴溶劑中接觸，制備該有機堿金屬化合物催化劑和該硅 化合物的反應物的工序，

工序B：通過使工序A中制備的反應物與含有共軛二烯的單體在烴 溶劑中接觸，使該單體聚合，制備在聚合物鏈末端具有有機堿金屬化合物 催化劑來源的堿金屬的聚合物的工序，

工序C：通過使工序B中制備的聚合物與下式(III)表示的硅化合物 在烴溶劑中接觸，在該聚合物的具有有機堿金屬化合物催化劑來源的堿金 屬的聚合物鏈末端，使下式(III)表示的硅化合物反應的工序，

式中，X⁴、X⁵以及X⁶各自獨立，表示下式(II)表示的基團、烴基或取 代烴基，X⁴、X⁵以及X⁶的至少一個為下式(II)表示的基團，

式中，R²以及R³各自獨立，表示碳原子數為1～6的烴基、碳原子數為1～ 6的取代烴基、甲硅烷基或取代甲硅烷基，R²以及R³可鍵合并與N原子 一起形成環結構。

2.如權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其特征在于，式(II) 的R²以及R³各自獨立，為甲基、乙基、正丙基或正丁基。

3.如權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其特征在于，式(I)的 X¹、X²以及X³中的2個為式(II)表示的基團或羥基。

4.如權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其特征在于，共軛二烯 系聚合物的乙烯基鍵合量，以基于共軛二烯的結構單元的含量為100摩爾 ％，為20～70摩爾％。

5.如權利要求1所述的共軛二烯系聚合物，其特征在于，共軛二烯 系聚合物的分子量分布為1～2。

6.共軛二烯系聚合物組合物，其特征在于，配合權利要求1～5中任 一項所述的共軛二烯系聚合物和填充劑而成。

7.如權利要求6所述的共軛二烯系聚合物組合物，其特征在于，相 對于共軛二烯系聚合物的配合量100重量份，填充劑的配合量為10～150 重量份。