[發(fā)明專利]具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910132205.4 | 申請日: | 2009-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN101877378A | 公開(公告)日: | 2010-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姚久琳;蘇英陽;楊雅蘭 | 申請(專利權(quán))人: | 晶元光電股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L31/18;H01L31/00;H01L31/0216 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陶鳳波 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 透明 粘結(jié) 結(jié)構(gòu) 光電 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一種具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,包含:
提供第一半導(dǎo)體疊層具有第一表面與第二表面,其中該第一半導(dǎo)體疊層至少包含第一有源層;
提供支持基板;
形成第一透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)于該第一半導(dǎo)體疊層的該第一表面之下,其中該第一透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的表面含有氫氧鍵或氫鍵;以及
提供第一連接步驟,該第一連接步驟包含以該第一透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)連接該第一半導(dǎo)體疊層與該支持基板。
2.如權(quán)利要求1所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,其中該第一透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)包含:
第一透明粘結(jié)層,形成于該第一半導(dǎo)體疊層與該支持基板之間;以及
第二透明粘結(jié)層,形成于該第一透明粘結(jié)層與該第一半導(dǎo)體疊層之間,
其中該第一透明粘結(jié)層及該第二透明粘結(jié)層二者至少其一的表面含有氫氧鍵或氫鍵。
3.如權(quán)利要求1所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,在提供該第一連接步驟之后,還包含:
提供第二半導(dǎo)體疊層,其中該第二半導(dǎo)體疊層至少包含第二有源層;
形成第二透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)于該第二半導(dǎo)體疊層之下,其中該第二透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的表面含有氫氧鍵或氫鍵;以及
提供第二連接步驟,該第二連接步驟包含以該第二透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)連接該第一半導(dǎo)體疊層與該第二半導(dǎo)體疊層。
4.如權(quán)利要求3所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,其中該第二透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)包含:
第三透明粘結(jié)層,形成于該第一半導(dǎo)體疊層與該第二半導(dǎo)體疊層之間;以及
第四透明粘結(jié)層,形成于該第三透明粘結(jié)層與該第二半導(dǎo)體疊層之間,
其中該第三透明粘結(jié)層及該第四透明粘結(jié)層二者至少其一的表面含有氫氧鍵或氫鍵。
5.如權(quán)利要求1、2、3或4所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,其中形成該第一透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)、該第二透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)、該第一透明粘結(jié)層、該第二透明粘結(jié)層、該第三透明粘結(jié)層或該第四透明粘結(jié)層的方法包含選自電子束蒸鍍、濺鍍法、旋涂、物理氣相沉積法、化學(xué)氣相沉積法、氣相外延法、液相外延法、分子束外延法、有機金屬化學(xué)氣相沉積法、有機金屬氣相沉積法、等離子體增強化學(xué)氣相沉積與熱蒸鍍所構(gòu)成的群組的一種或多種的方法。
6.如權(quán)利要求4所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,在提供該第二連接步驟之前,還包含:
平坦化該第三透明粘結(jié)層或該第四透明粘結(jié)層的表面;以及
以活化劑處理該第三透明粘結(jié)層或該第四透明粘結(jié)層被平坦化的表面。
7.如權(quán)利要求2所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,在提供該第一連接步驟之前,還包含:
平坦化該第一透明粘結(jié)層或該第二透明粘結(jié)層的表面;以及
以活化劑處理該第一透明粘結(jié)層或該第二透明粘結(jié)層被平坦化的表面。
8.如權(quán)利要求6或7所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,其中平坦化該第一透明粘結(jié)層、該第二透明粘結(jié)層、該第三透明粘結(jié)層或該第四透明粘結(jié)層的表面的方法包含化學(xué)機械拋光法。
9.如權(quán)利要求6或7所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,其中以該活化劑處理該第一透明粘結(jié)層、該第二透明粘結(jié)層、該第三透明粘結(jié)層或該第四透明粘結(jié)層被平坦化的表面的方式包含選自浸泡、涂布與等離子體處理所構(gòu)成的群組的一種或多種的方法。
10.如權(quán)利要求6或7所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,其中以該活化劑處理該第一透明粘結(jié)層、該第二透明粘結(jié)層、該第三透明粘結(jié)層或該第四透明粘結(jié)層被平坦化的表面所需的時間不少于1分鐘。
11.如權(quán)利要求1、2、3或4所述的具有透明粘結(jié)結(jié)構(gòu)的光電元件的制造方法,其中該第一連接步驟或該第二連接步驟包含選自所需的環(huán)境溫度介于200℃~700℃、所需的環(huán)境壓力介于3kg/cm2~25kg/cm2與所需的時間不少于2小時所構(gòu)成的群組的一種或多種的操作條件。
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