[發明專利]校正裝置、校正方法以及控制裝置

無效

• 申請號: 200910130974.0
• 申請日: 2009-04-21
• 公開（公告）號: CN101564795A
• 公開（公告）日: 2009-10-28
• 發明（設計）人: 山崎隆一
• 申請（專利權）人: 奧林巴斯株式會社
• 主分類號: B23K26/00
• 分類號: B23K26/00;G01B11/02;H01L21/66
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 黃綸偉

1.一種校正裝置，其特征在于，該校正裝置具有：

缺陷檢測單元，其對檢查對象的基板上應該校正的缺陷進行檢測，識別上述缺陷的位置和范圍；

殘留缺陷檢測單元，其獲得與上述缺陷的上述范圍內的上述基板的高度有關的高度信息，根據上述高度信息判斷在對上述缺陷檢測單元檢測到的上述缺陷進行了校正之后，在上述缺陷的上述范圍的局部或者全部內是否還存在應該校正的殘留缺陷；

激光振蕩器，其輸出激光，當上述缺陷檢測單元檢測到上述缺陷時，該激光用于校正上述缺陷，當上述殘留缺陷檢測單元判斷為存在上述殘留缺陷時，該激光用于校正上述殘留缺陷；以及

二維空間光調制單元，其按照上述缺陷的上述位置和上述范圍對上述激光進行空間光調制，以使由上述激光振蕩器輸出的上述激光照射在由上述缺陷檢測單元檢測到的上述缺陷上，該二維空間光調制單元還對上述激光進行空間光調制，以使由上述激光振蕩器輸出的上述激光照射在上述基板上的上述殘留缺陷上。

2.根據權利要求1所述的校正裝置，其特征在于，上述缺陷檢測單元具有：

攝像單元，其拍攝上述基板；以及

圖像處理單元，其根據上述攝像單元拍攝上述基板而得到的圖像，檢測上述缺陷并識別上述缺陷的上述位置和上述范圍。

3.根據權利要求1所述的校正裝置，其特征在于，上述缺陷檢測單元具有：

物鏡，其具有平行于上述基板的高度方向的光軸，將來自光源的射出光照射到上述基板上；

相對移動單元，其使上述物鏡的對焦位置與上述基板之間的相對位置在上述物鏡的光軸方向上移動；

共焦光圈單元，其具有配置在與上述對焦位置共軛的位置上的光圈；

光檢測單元，其檢測通過上述物鏡照射到上述基板上后，被上述基板反射而通過了上述共焦光圈單元的上述光圈的光的強度；以及

凸部檢測單元，其根據由上述光檢測單元檢測出的上述光的上述強度按照上述相對移動單元進行的移動而變化的圖案，測定上述基板的高度，根據所測定的上述高度，將上述基板上的具有高度的凸部作為上述缺陷檢測出來。

4.根據權利要求3所述的校正裝置，其特征在于，上述缺陷檢測單元所具備的上述凸部檢測單元根據所測定的上述高度，將具有大于等于第1高度的高度的部分作為上述缺陷檢測出來，并且上述凸部檢測單元通過將具有大于等于第2高度的高度的部分作為上述殘留缺陷檢測出來而發揮上述殘留缺陷檢測單元的作用，其中該第2高度比上述第1高度高。

5.根據權利要求3所述的校正裝置，其特征在于，上述共焦光圈單元是具有使光通過的多個針孔的尼普科盤或具有使光通過的多個縫的狹縫盤。

6.根據權利要求1所述的校正裝置，其特征在于，上述缺陷檢測單元具有非接觸式高度測定單元，該非接觸式高度測定單元在不接觸上述基板的情況下測定上述基板的高度，并將上述基板上的具有高度的凸部作為上述缺陷檢測出來。

7.根據權利要求1所述的校正裝置，其特征在于，上述殘留缺陷檢測單元具有：

物鏡，其具有平行于上述基板的高度方向的光軸，將來自光源的射出光照射到上述基板上；

相對移動單元，其使上述物鏡的對焦位置與上述基板之間的相對位置在上述物鏡的光軸方向上移動；

共焦光圈單元，其具有配置在與上述對焦位置共軛的位置上的光圈；

光檢測單元，其檢測通過上述物鏡照射到上述基板上后，被上述基板反射而通過了上述共焦光圈單元的上述光圈的光的強度；以及

凸部檢測單元，其根據由上述光檢測單元檢測出的上述光的上述強度按照上述相對移動單元進行的移動而變化的圖案，測定上述基板的高度，并且該凸部檢測單元根據所測定的上述高度將上述基板上的具有高度的凸部作為上述殘留缺陷檢測出來。

8.根據權利要求7所述的校正裝置，其特征在于，上述殘留缺陷檢測單元根據上述缺陷檢測單元所檢測出的上述缺陷的上述范圍，限定對用于檢測上述殘留缺陷的高度進行測定的范圍。

9.根據權利要求7所述的校正裝置，其特征在于，上述共焦光圈單元是具有使光通過的多個針孔的尼普科盤或具有使光通過的多個縫的狹縫盤。

10.根據權利要求7所述的校正裝置，其特征在于，上述激光振蕩器按照上述凸部檢測單元所測定的上述高度，變更照射到上述基板上的上述殘留缺陷上的上述激光的輸出強度。