[發明專利]處理裝置

有效

• 申請號: 200910129866.1
• 申請日: 2009-03-30
• 公開（公告）號: CN101786797A
• 公開（公告）日: 2010-07-28
• 發明（設計）人: 池田均;菊池正志;小川正浩;岡山智彥
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: C03C17/06
• 分類號: C03C17/06;C03C17/09
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 史雁鳴

1.一種處理裝置，其特征在于，其具有真空腔，該真空腔具備： 腔本體，該腔本體由具有貫通孔的塊狀的多個腔部件構成，上述貫通 孔形成為可將基板插入，在鄰接的腔部件的至少一個上，沿與另一個 抵接的面的上述貫通孔的開口部的整個周圍連續設置槽，各腔部件在 夾著安裝于上述槽中的密封部件、分別緊靠的狀態下被固定，該腔本 體具有由多個貫通孔構成的處理空間；壁面部件，該壁面部件密封上 述處理空間的一個開口；蓋部件，該蓋部件能開閉地塞住上述處理空 間的另一個開口，

在各處理空間中具有用輻射熱加熱上述基板的加熱裝置和分別設 置在該加熱裝置的上下、與上述加熱裝置相對向地支持各基板的一對 基板支持部件，

上述一對基板支持部件分別由棒狀的基座部件和立設在該基座部 件上的多個基板支持銷構成，一個基板支持部件固定在上述加熱裝置 的上面，另一基板支持部件設在上述處理空間的底面，

所述基座部件在其長度方向的多處具有能折彎的鉸鏈部。

2.如權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述加熱裝置和 由各基板支持部件支持的各基板的距離相等。

3.如權利要求1或2所述的處理裝置，其特征在于，上述加熱裝 置具有作為加熱源的護套加熱器。

4.如權利要求1或2所述的處理裝置，其特征在于，在上述加熱 裝置的表面形成含有提高輻射效率的材料的覆蓋膜。

5.如權利要求1或2所述的處理裝置，其特征在于，在上述加熱 裝置的表面設置由提高輻射效率的材料形成的覆蓋板。