[發明專利]多色調光掩模及其制造方法、以及圖案轉印方法

有效

• 申請號: 200910129752.7
• 申請日: 2009-03-26
• 公開（公告）號: CN101546116A
• 公開（公告）日: 2009-09-30
• 發明（設計）人: 山口昇;三好將之
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G03F1/00
• 分類號: G03F1/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 黃綸偉

1.一種液晶顯示裝置制造用多色調光掩模，其在透明基板上分別形 成有遮光膜以及透過曝光光的一部分的半透光膜，并通過對各個膜實施 規定的構圖而形成包含遮光部、透過曝光光的一部分的多個半透光部以 及透光部的轉印圖案，該液晶顯示裝置制造用多色調光掩模的特征在于，

通過對所述多個半透光部中被選擇的部分的半透光膜進行與其他部 分不同的表面改質處理，使所述多個半透光部的、針對包含i線～g線的 波段的曝光光的透過率面內分布范圍為2％以內。

2.根據權利要求1所述的液晶顯示裝置制造用多色調光掩模，其特 征在于，

所述半透光膜由含有金屬硅化物的材料構成。

3.根據權利要求2所述的液晶顯示裝置制造用多色調光掩模，其特 征在于，

所述半透光膜由不含有氮的材料構成。

4.一種液晶顯示裝置制造用多色調光掩模的制造方法，其準備在透 明基板上形成有遮光膜和透過曝光光的一部分的半透光膜的光掩模坯 體，并通過對各個膜實施規定的構圖而形成包含遮光部、透過曝光光的 一部分的多個半透光部以及透光部的轉印圖案，其特征在于，該液晶顯 示裝置制造用多色調光掩模的制造方法包括以下工序：

圖案形成工序，分別對所述半透光膜和所述遮光膜實施基于蝕刻的 構圖，形成所述轉印圖案；以及

表面改質工序，通過對所述轉印圖案所包含的所述多個半透光部中 被選擇的部分的半透光膜進行與其他部分不同的表面改質處理，減小所 述轉印圖案中存在的半透光部的、針對包含i線～g線的波段的曝光光條 件的透過率面內分布范圍。

5.根據權利要求4所述的液晶顯示裝置制造用多色調光掩模的制造 方法，其特征在于，

所述表面改質工序包括提高所述半透光膜的耐藥性的處理。

6.根據權利要求4所述的液晶顯示裝置制造用多色調光掩模的制造 方法，其特征在于，

所述表面改質處理包括對所述轉印圖案中的半透光部中被選擇的部 分照射規定能量的處理。

7.根據權利要求4所述的液晶顯示裝置制造用多色調光掩模的制造 方法，其特征在于，

所述表面改質處理包括對所述轉印圖案中的半透光部中被選擇的部 分實施加熱的處理。

8.根據權利要求4所述的液晶顯示裝置制造用多色調光掩模的制造 方法，其特征在于，

該制造方法在所述圖案形成工序后，具有測定所述多個半透光部的 透過率的工序，在所述表面改質工序中，根據所述測定結果進行所述表 面改質處理。

9.根據權利要求8所述的液晶顯示裝置制造用多色調光掩模的制造 方法，其特征在于，

所述表面改質工序使所述半透光部的透過率的面內分布為2％以下。

10.一種圖案轉印方法，其特征在于，

使用權利要求1～3中任一項所述的多色調光掩模、并照射曝光機的 曝光光，來將所述多色調光掩模的轉印圖案轉印到被加工層上。

11.一種圖案轉印方法，該圖案轉印方法的特征在于，

使用通過權利要求4～權利要求9中任一項所述的制造方法制成的 多色調光掩模、并照射曝光機的曝光光，來將所述多色調光掩模的轉印 圖案轉印到被加工層上。

12.根據權利要求11所述的圖案轉印方法，其特征在于，

使用包含i線～g線的波段的曝光光來作為所述曝光光。