[發明專利]液體噴射頭、液體噴射裝置、以及執行器

無效

• 申請號: 200910129560.6
• 申請日: 2009-03-26
• 公開（公告）號: CN101544116A
• 公開（公告）日: 2009-09-30
• 發明（設計）人: 島田勝人
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: B41J2/14
• 分類號: B41J2/14
• 代理公司: 北京東方億思知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 柳春雷;南 霆

1.一種液體噴射頭，包括流路形成基板和壓電元件，所述流路形成基板并列設置有多個分別與噴射液滴的噴嘴連通的壓力產生室，所述壓電元件包括間隔著振動板而設置在所述流路形成基板的一個面側的下電極、壓電體層、上電極，所述壓電體層的端面由傾斜面構成，該傾斜面以其下電極側的端部比上電極側的端部更靠外側的方式傾斜，

構成各個壓電元件的所述下電極以比所述壓力產生室的寬度窄的寬度形成，并且所述壓電體層以比所述下電極的寬度寬的寬度形成，所述下電極的端面被所述壓電體層覆蓋，

所述振動板的最表層由絕緣體膜構成，所述絕緣體膜由氧化鈦形成，所述下電極的最表層由取向控制層構成，所述取向控制層由鎳酸鑭形成，

并且，所述取向控制層和至少該取向控制層上的所述壓電體層由鈣鈦礦結構的結晶形成，并且晶面方向沿(110)優先取向。

2.如權利要求1所述的液體噴射頭，其中，

在所述振動板與所述壓電體層之間形成有金屬層，所述金屬層不與所述下電極連續，所述金屬層的最表層的至少一部分由所述取向控制層構成。

3.如權利要求1或2所述的液體噴射頭，其中，

所述壓電體層的晶體結構為菱形晶系、四方晶系或單斜晶系。

4.如權利要求1至3中任一項所述的液體噴射頭，其中，

至少所述取向控制層上的所述壓電體層由柱狀結晶形成。

5.如權利要求1至4中任一項所述的液體噴射頭，其中，

所述絕緣體膜上的所述壓電體層由柱狀結晶形成。

6.如權利要求1至5中任一項所述的液體噴射頭，其中，

被所述壓電體層覆蓋的所述下電極的端面為傾斜面，該傾斜面以其振動板側的端部比壓電體層側的端部更靠外側的方式傾斜。

7.如權利要求1至6中任一項所述的液體噴射頭，其中，

所述下電極在所述取向控制層的下層具有導電層，所述導電層由電阻率比所述取向控制層低的材料形成。

8.如權利要求7所述的液體噴射頭，其中，

所述導電層被所述取向控制層覆蓋。

9.如權利要求7或8所述的液體噴射頭，其中，

所述導電層由金屬材料、金屬材料的氧化物或它們的合金形成。

10.如權利要求9所述的液體噴射頭，其中，

所述金屬材料包括選自以下組中的至少一種，所述組包括銅、鋁、鎢、鉑、銥、釕、銀、鎳、鋨、鉬、銠、鈦、鎂、鈷。

11.如權利要求1至10中任一項所述的液體噴射頭，其中，

所述壓電體層的主要成分為鋯鈦酸鉛。

12.如權利要求1至11中任一項所述的液體噴射頭，其中，

所述壓電體層的端面被具有耐濕性的保護膜覆蓋。

13.如權利要求1至12中任一項所述的液體噴射頭，其中，

所述壓電體層的端面被所述上電極覆蓋。

14.如權利要求13所述的液體噴射頭，其中，

所述下電極與所述壓力產生室相對應地獨立設置并構成所述壓電元件的專用電極，所述上電極在所述壓力產生室的并列設置方向上跨所述壓力產生室連續地設置并構成所述壓電元件的共用電極。

15.一種液體噴射裝置，具有權利要求1至14中任一項所述的液體噴射頭。

16.一種執行器，包括振動板和壓電元件，所述振動板設置在基板的一個面側，所述壓電元件包括設置在所述振動板上的下電極、壓電體層、上電極，所述壓電體層的端面由傾斜面構成，該傾斜面以其下電極側的端部比上電極側的端部更靠外側的方式傾斜，

所述壓電體層以比所述下電極的寬度寬的寬度形成，所述下電極的端面被所述壓電體層覆蓋，

所述振動板的最表層由絕緣體膜構成，所述絕緣體膜由氧化鈦形成，所述下電極的最表層由取向控制層構成，所述取向控制層由鎳酸鑭形成，

并且，所述取向控制層和至少該取向控制層上的所述壓電體層由鈣鈦礦結構的結晶形成，并且晶面方向沿(110)優先取向。

17.如權利要求16所述的執行器，其中，

在所述振動板與所述壓電體層之間形成有金屬層，所述金屬層與所述下電極相獨立，所述金屬層的最表層由所述取向控制層構成。