[發(fā)明專利]顯示器面板修補裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910127601.8 | 申請日: | 2009-03-10 |
| 公開(公告)號: | CN101833180A | 公開(公告)日: | 2010-09-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳秉宗;王正宇;田孝通 | 申請(專利權(quán))人: | 東捷科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G02F1/35;G02B27/09 |
| 代理公司: | 廣東國欣律師事務(wù)所 44221 | 代理人: | 李文 |
| 地址: | 中國臺灣臺南*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示器 面板 修補 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是與顯示器面板的修補技術(shù)有關(guān),特別是指一種顯示器面板修補裝置。
背景技術(shù)
液晶顯示器在制造的過程中,會經(jīng)歷半導(dǎo)體制程、黃光微影制程以及充填液晶的組立制程。由于制程步驟繁瑣且產(chǎn)品面積愈來愈大,因此有些制程的瑕疵造成產(chǎn)品發(fā)生所謂亮點的狀況是愈來愈多了。
液晶顯示器是靠特殊設(shè)計的電極,以外加電場的方式使位于電極間的液晶分子旋轉(zhuǎn),借以調(diào)節(jié)光的穿透率來達(dá)成顯示圖像的目的。而所謂的亮點即是液晶顯示器上明暗程度無法以電路控制的像素,且其永遠(yuǎn)為亮的情形。
我國公開第200615628號「液晶顯示裝置之缺陷像素修正方法及缺陷像素修正裝置」發(fā)明專利案,揭露了使用雷射振蕩器、衰減器、功率監(jiān)測器、攝影機(jī)、聚焦透鏡、背光源等等裝置或技術(shù),而可達(dá)到修正缺陷像素的功效。然而,該種方式雖然是使用雷射光來進(jìn)行修補,卻僅能使用在照射時間較常的熱加工程序上,其并不是照射時間較短的冷加工程序。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種顯示器面板修補裝置,其可適用于雷射修補的冷加工程序。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種顯示器面板修補裝置,其可有效的將亮點修正為暗點。
為了達(dá)成前述目的,依據(jù)本發(fā)明所提供的一種顯示器面板修補裝置,包含有:一雷射單元,用以產(chǎn)生雷射光;一衰減單元,由數(shù)個透鏡所組成,用以將雷射光加以衰減;一半反射鏡,用以反射雷射光以及透過其他光線;一聚焦單元,由至少一透鏡所組成,用以使光線聚焦;一監(jiān)視單元,具有取像功能;一背光源,發(fā)出光線通過該聚焦單元以及該半反射鏡而進(jìn)入該監(jiān)視單元以進(jìn)行取像;其特征在于,更包含有:一倍頻單元,由數(shù)個透鏡所組成,用以將雷射光的波長轉(zhuǎn)換為更短;其中,該雷射單元所發(fā)出的雷射光系通過該倍頻單元來轉(zhuǎn)換波長,再經(jīng)過該衰減單元加以衰減,再經(jīng)過該半反射鏡的反射而通過該聚焦單元向外照射。借此,可達(dá)到在冷加工程序中以雷射光進(jìn)行修補的功效。
附圖說明
圖1是本發(fā)明顯示器面板修補裝置一較佳實施例的架構(gòu)示意圖。
具體實施方式
為了詳細(xì)說明本發(fā)明的構(gòu)造及特點所在,茲舉以下較佳實施例并配合圖式說明如后,其中:
如圖1所示,本發(fā)明一較佳實施例所提供的一種顯示器面板修補裝置10,主要由一雷射單元11、一衰減單元21、一半反射鏡31、一聚焦單元41、一監(jiān)視單元51、一背光源61、以及一倍頻單元71所組成,其中:
該雷射單元11,用以產(chǎn)生飛秒雷射光,該雷射單元11所產(chǎn)生的雷射光的波長為700-1300nm(奈米),而脈沖寬度為10-13-10-15秒。
該衰減單元21,由數(shù)個透鏡所組成,主要具有一倍頻光的半波片22、以及一偏振分光器24,其組合用以將雷射光的倍頻光加以衰減。
該半反射鏡31,用以反射雷射光以及透過其他光線。
該聚焦單元41,由至少一透鏡所組成,本實施例中是由一凸透鏡所組成,用以使光線聚焦。
監(jiān)視單元51,具有取像功能,在本實施例中為一攝影機(jī)。
該背光源61,發(fā)出光線通過該聚焦單元41以及該半反射鏡31而進(jìn)入該監(jiān)視單元51以進(jìn)行取像。
該倍頻單元71,由數(shù)個透鏡所組成,主要具有一前聚焦透鏡72、一光學(xué)晶體74、以及一后聚焦透鏡76,該前聚焦透鏡72用以將雷射光束聚焦以增加強度,該光學(xué)晶體74則用以對光線進(jìn)行波長的轉(zhuǎn)換,該后聚焦透鏡76則用以將發(fā)散光束變?yōu)槠叫泄馐璐丝蓪⒗咨涔獾牟ㄩL轉(zhuǎn)換為更短。
其中,該雷射單元11所發(fā)出的雷射光是通過該倍頻單元71來轉(zhuǎn)換波長,再經(jīng)過該衰減單元21加以衰減,再經(jīng)過該半反射鏡31的反射而通過該聚焦單元41向外照射。
本實施例中更包含有:
一遮光器15,該雷射單元11所發(fā)出的雷射光先經(jīng)過該遮光器15,再進(jìn)入該倍頻單元71,該遮光器15用來遮斷/不遮斷雷射光,進(jìn)而替代為對雷射光的開關(guān)動作。
一光欄25,雷射光經(jīng)過該衰減單元21衰減后,即進(jìn)入該光欄25,之后才照射于該半反射鏡31;該光欄25用以調(diào)節(jié)雷射光的光束大小。
本實施例可利用一自動聚焦感測系統(tǒng)81以及一移動系統(tǒng)85來進(jìn)行自動對焦的動作。其中,該自動聚焦感測系統(tǒng)81用以偵測該監(jiān)視單元51所取得的影像的清晰度,并借由該移動系統(tǒng)85來調(diào)整整個裝置的高度,調(diào)整的高度即是使該監(jiān)視單元51所取得的影像最清晰的位置。
以下說明本發(fā)明的作動方式。
在操作前,先將待修補的顯示器面板99置于該聚焦單元41以及該背光源61之間。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





