[發明專利]光學拾取設備以及記錄再生裝置無效
| 申請號: | 200910118328.2 | 申請日: | 2009-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN101521028A | 公開(公告)日: | 2009-09-02 |
| 發明(設計)人: | 中沖有克;齊藤公博 | 申請(專利權)人: | 索尼株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/09 | 分類號: | G11B7/09;G11B7/135;G11B7/125 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 | 代理人: | 雒運樸;李 偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 拾取 設備 以及 記錄 再生 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及采用近場光對信息記錄介質進行信息的記錄以及再生 的至少一方的光學拾取設備以及記錄再生裝置。
背景技術
近年來,在光盤、磁盤、光存儲卡等信息記錄介質中,為了達成高 記錄密度以及高分辨率,使用了近場(near?field)光的記錄再生方式 引人注目。近場光就是在光照射側的物體與照射對象側的物體之間隔在 某距離以下時從光照射側的物體的界面漏出的光,也被稱之為消減波。
作為對信息記錄介質照射近場光來進行記錄再生的辦法,以往人們 提出各種各樣的辦法。例如,人們提出采用固態浸沒透鏡(SIL:Solid Immersion?Lens)、固態浸沒反射鏡(SIM:Solid?Immersion?Mirror)、 波導構造體等的記錄再生方法(例如,參照專利文獻1、非專利文獻1)。 在對于可高密度記錄的信息記錄介質采用了數值孔徑NA超過1的SIL 等近場光照射部的記錄再生方式中,使透鏡與信息記錄介質表面的距離 接近至消減波產生的程度來進行記錄再生。
作為采用近場光來進行記錄再生的高記錄密度的信息記錄介質,例 如提出相變記錄型的光記錄介質及再生專用型的光記錄介質等(例如, 參照非專利文獻2以及3)。相變記錄型的光記錄介質具有例如在玻璃或 聚碳酸酯(PC)等組成的基板上將Al等組成的反射膜、SiO2等組成的 電介質層、GeSbTe等組成的相變材料層以及SiO2等組成的電介質層按 這一順序依次進行了層疊的構造。另外,再生專用型的光記錄介質具有 例如在玻璃或PC等組成且形成了與記錄信息相對應的凹凸坑的基板 上,將Al等組成的反射層進行了層疊的構造。進而,在上述光記錄介 質以外,作為采用近場光來進行記錄再生的信息記錄介質,例如光磁記 錄方式的記錄介質、光輔助磁記錄方式的磁記錄介質等也得以研究。
另外,人們提出如下報告,這就是在采用SIL等近場光照射部的情 況下,希望透鏡的光射出側端面與光記錄介質表面之間的距離、所謂間 隙在進行照射的光的波長的10分之1以下(例如,參照非專利文獻4)。 因此,精度良好地控制間隙的技術、使SIL等接近并與信息記錄介質相 對地行走時抑制兩者沖撞用的時間差控制(skew?control)的技術等得 以種種探討(例如,參照專利文獻2以及3)。
進而,以往,在上述的信息記錄介質的記錄再生裝置以外,人們還 提出例如采用了SIL等的曝光裝置等(例如,參照專利文獻4)。在專 利文獻4中也提出精度良好地控制間隙的技術,在該光學系統中進行調 整以使得間隙檢測用激光被聚光于SIL的前端面。
[專利文獻1]日本專利公開特開平5-189796號公報
[非專利文獻1]I.Ichimura?et?al.,“Near-Field?Phase-Change Optical?Recording?of?1.36?Numerical?Aperture”,Japanese?Journal?of Applied?Physics,Vol.39,pp.962-967(2000)
[非專利文獻2]M.Shinoda?et?al.,“High?Density?Near-Field?Optical Disc?Recording”,Digest?of?ISOM2004,We-E-03
[非專利文獻3]M.Furuki?et?al.,“Progress?in?Electron?Beam Mastering?of?100Gb/inch2?Density?Disc”,Japanese?Journal?of?Applied Physics?Vol.43,pp.5044-5046(2004)
[非專利文獻4]K.Saito?et?al.,“A?Simulation?of?Magneto-Optical Signals?in?Near-Field?Recording”,Japanese?Journal?of?Applied?Physics, Vol.38,pp.6743-6749(1999)
[專利文獻2]日本專利公開特開2001-76358號公報
[專利文獻3]日本專利公開特開2006-344351號公報
[專利文獻4]日本專利公開特開2003-257052號公報
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