[發明專利]微光學器件移動數字掩模制作方法

無效

• 申請號: 200910115611.X
• 申請日: 2009-06-29
• 公開（公告）號: CN101587292A
• 公開（公告）日: 2009-11-25
• 發明（設計）人: 高益慶;喻立霞;羅寧寧;陳敏;龔勇清;肖孟超;余秋香;葉青
• 申請（專利權）人: 南昌航空大學
• 主分類號: G03F1/00
• 分類號: G03F1/00;G03F7/20
• 代理公司: 南昌洪達專利事務所
• 代理人: 劉凌峰

1、一種微光學器件移動數字掩模制作方法，其特征是制作方法為：

(1)將微光學器件的相位分布函數轉換成移動數字掩模制作方法的掩模函數，通過移動數字掩模制作方法的掩模函數設計移動數字掩模圖形；

(2)根據曝光能量積累函數設定掩模圖形的運動速度及時間；

(3)通過實時掩模技術，對移動的移動數字掩模圖形進行累積曝光，從而得到具有原相位分布的微光學器件。

2、根據權利要求1所述的微光學器件移動數字掩模制作方法，其特征是所述的微光學器件的相位分布函數首先確定移動掩模圖形做水平、垂直或是旋轉運動，再將微光學器件的相位分布函數轉換成適合水平、垂直或是旋轉運動的移動數字掩模圖形。

3、根據權利要求1所述的微光學器件移動數字掩模制作方法，其特征是所述的曝光能量積累函數與入射光強、掩模函數、掩模移動速度及曝光時間相關，根據得到的掩模函數、入射光強及所需最終曝光累積函數確定掩模移動速度及曝光時間。

4、根據權利要求1所述的微光學器件移動數字掩模制作方法，其特征是所述的微光學器件的相位分布函數轉換成移動數字掩模制作方法的掩模函數的方法為：對于具有旋轉結構的微光學器件將其掩模函數轉化為極坐標的位相關系，對于適合水平及垂直運動的微光學器件計算出其掩模函數；在根據曝光能量積累函數設定掩模圖形的運動速度及時間即電尋址空間光調制器；利用計算機動畫技術讓掩膜圖形作一定速度的直線或是旋轉運動，最后通過實時掩模技術，對移動的移動數字掩模圖形進行累積曝光，從而得到具有原相位分布的微光學器件。