[發明專利]八水合偏硼酸鋰非線性光學晶體及其制備方法和用途有效
| 申請號: | 200910113384.7 | 申請日: | 2009-07-17 |
| 公開(公告)號: | CN101603203A | 公開(公告)日: | 2009-12-16 |
| 發明(設計)人: | 潘世烈;韓健;王智蓉 | 申請(專利權)人: | 中國科學院新疆理化技術研究所 |
| 主分類號: | C30B29/22 | 分類號: | C30B29/22;C30B7/00;C30B7/08;G02F1/355 |
| 代理公司: | 烏魯木齊中科新興專利事務所 | 代理人: | 張 莉 |
| 地址: | 830011新疆維吾爾*** | 國省代碼: | 新疆;65 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水合 硼酸 非線性 光學 晶體 及其 制備 方法 用途 | ||
技術領域
本發明涉及一種無機非線性光學晶體,屬于無機化學領域,也屬 于材料科學領域和光學領域。
背景技術
非線性光學晶體在許多領域,如激光技術、大氣監測、國防等方 面,都有著重要的應用價值。經過幾十年探索和研究,非線性光學晶 體材料取得了豐碩的成果,尤其是激光頻率轉換晶體的研究更為深 入,許多性能優異的非線性光學晶體已經在光學、通訊、醫療、軍事 等方面獲得廣泛應用。由于非線性光學晶體材料有如此重要的應用前 景,因而國內外關于非線性光學晶體材料的研究一直非常活躍。盡管 如此,非線性光學晶體的綜合性能仍然存在諸多不足,尋找和研究新 型非線性光學晶體材料仍然是當前一個非常重要的工作。
依據透光波段和適用范圍,非線性光學晶體材料可分為紫外光 區、可見光區和紅外光區非線性光學材料。
長期以來,尋找具有優良性質的紫外非線性光學材料一直是國內 外科學家所關注的熱點。研究最早的紫外波段的頻率轉換晶體是五硼 酸鉀(KB5O8·4H2O)晶體,雖然它的透過波段達真空紫外,但因其 倍頻系數甚小(僅為ADP晶體的1/10),所以在應用上受到很大限制。 自20世紀70年代末至80年代,科學家們相繼發現了一系列具有優良性 能的紫外非線性光學晶體,如BBO(β-偏硼酸鋇)、LBO(三硼酸鋰)、 KBBF(氟硼酸鈹鉀)等。雖然這些材料的晶體生長技術已日趨成熟, 但仍存在著明顯的不足之處:如晶體易潮解、生長周期長、層狀生長 習性嚴重及價格昂貴等。因此,尋找新的紫外非線性光學晶體材料仍 然是一個非常重要的工作。
在1897年,Le?Chatelier等人首次報道了八水合偏硼酸鋰 (LiBO2·8H2O)的結構,后來也有陸續報道,但是這些報道都尚未涉及 到晶體線性、非線性性能的測試研究以及其在非線性光學方面的應 用。要測試一種晶體的基本物理性能(包括非線性光學性能)需要該 晶體的尺寸達數毫米甚至厘米級的單晶,至今尚未見到有關制備大小 足以供物性測試用的LiBO2·8H2O單晶的報道,更無法在市場上購到 該晶體,另外也沒有關于LiBO2·8H2O單晶非線性光學性能測試結果 的報告或將LiBO2·8H2O單晶用于制作非線性光學器件的報道。
發明內容
本發明所要解決的問題是提供一種紫外吸收邊較低,透光波段較 寬,二階非線性光學系數較大,能夠實現相位匹配,容易制備且穩定 性較好的紫外非線性光學晶體材料及其制備方法和用途。
本發明提供的技術方案是:一種無機紫外非線性光學晶體材料, 其分子式為LiBO2·8H2O,晶體空間群為P3。
本發明的目的是為了彌補各類激光器發射激光波長的空白光譜 區,從而提供一種具有厘米級的大尺寸透明八水合偏硼酸鋰非線性光 學晶體;
本發明的另一目的是提供一種使用水溶液法操作簡便的制備大 尺寸八水合偏硼酸鋰非線性光學晶體的制備方法;
本發明的又一目的是提供大尺寸八水合偏硼酸鋰非線性光學晶 體的性能分析;
本發明的再一目的是提供大尺寸八水合偏硼酸鋰非線性光學器 件的用途。
本發明所述的一種具有厘米級的大尺寸八水合偏硼酸鋰非線性 光學晶體,該晶體分子式為:LiBO2·8H2O,屬于三方晶系,空間群為 P3,分子量為193.87,單胞參數為a=b=6.5534(5)c=6.1740(7)紫外吸收邊達190nm以下。
所述的大尺寸八水合偏硼酸鋰非線性光學晶體的制備方法,采用 水溶液法制備晶體,具體操作按下列步驟進行:
a、將LiOH或Li2O溶解在去離子水的容器中,加入H3BO3或 B2O3,然后將不完全溶解的物質在25-50℃下置于超聲波中處理 60min,使其充分混合溶解;
b、將步驟a中的溶液自然冷卻至室溫后,用膜封口并在膜上扎 若干個小孔或者直接將溶液體系敞口,在反應溫度25-50℃下靜置 3-30天;
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