[發(fā)明專利]一種六氟化硫濃度的雙光路激光測量裝置及測量方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910111670.X | 申請日: | 2009-05-06 |
| 公開(公告)號: | CN101609043A | 公開(公告)日: | 2009-12-23 |
| 發(fā)明(設計)人: | 蘇偉達;蔡聲鎮(zhèn);吳允平;盧宇;吳進營;李汪彪;關健;陳錦凱;吳燕;林霞 | 申請(專利權)人: | 福建師范大學 |
| 主分類號: | G01N21/39 | 分類號: | G01N21/39;G02B7/182;G02B7/00 |
| 代理公司: | 福州元創(chuàng)專利商標代理有限公司 | 代理人: | 蔡學俊 |
| 地址: | 350007福建省福州市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 六氟化硫 濃度 雙光路 激光 測量 裝置 測量方法 | ||
1、一種六氟化硫濃度的雙光路激光測量裝置及測量方法,其特征是:
裝置由CO2激光器、原始功率測量光強探測器、空氣輸送泵、SF6氣體濃度測量光強探測器、氣體分析室、光學全反射鏡片器B、光學半波鏡片器、光學全反射鏡片器A構成,CO2激光器發(fā)出的激光光束通過光學全反射鏡片器B、光學半波鏡片器、光學全反射鏡片器A將器件相連;
測量時,CO2激光器發(fā)出的激光光束,經(jīng)過光學全反射鏡片器B全反射后,進入光學半波鏡片器,半波鏡片器將激光器射出的光束分為兩束,一束到達原始功率測量光強探測器,作為激光器發(fā)射的原始功率測量,另一束到達SF6氣體濃度測量光強探測器,作為SF6氣體濃度測量。
2、按照權利要求1所述的六氟化硫濃度的雙光路激光測量裝置及測量方法,其特征是所述的光學全反射鏡片器B內有光學全反射鏡片B,與CO2激光器發(fā)出的入射激光光束呈45°設置。
3、按照權利要求1所述的六氟化硫濃度的雙光路激光測量裝置及測量方法,其特征是所述的光學全反射鏡片器A內有光學全反射鏡片A,與入射激光光束呈45°設置。
4、按照權利要求1所述的六氟化硫濃度的雙光路激光測量裝置及測量方法,其特征是所述的光學半波鏡片器內有半波鏡片,與入射激光光束呈45°設置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于福建師范大學,未經(jīng)福建師范大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910111670.X/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:視頻重放裝備
- 下一篇:分發(fā)器具及其制造方法





