[發明專利]一種耐高溫、超親水聚苯乙烯多孔膜材料及其制備方法

無效

• 申請號: 200910111115.7
• 申請日: 2009-02-25
• 公開（公告）號: CN101497704A
• 公開（公告）日: 2009-08-05
• 發明（設計）人: 李磊;陳財康;張愛娟
• 申請（專利權）人: 廈門大學
• 主分類號: C08J9/28
• 分類號: C08J9/28;C08J5/18;C08L25/06;C08L25/08;C08L53/00
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所
• 代理人: 馬應森

技術領域

本發明涉及一種高聚物膜材料，尤其是涉及一種耐高溫、超親水聚苯乙烯多孔膜材料及其制備方法。

背景技術

多孔膜的類型涵蓋廣泛，由于高度有序多孔高聚物薄膜在分離[1.R.E.Kersting，Syntheticpolymer?membrane，Wiley，New?York，1985]、組織工程[2.V.P.Shastri，I.Martin?and?R.Langer，Proc.Natl.Acad.Sci.U.S.A.，2000，97，1970；3.T.Nishikawa，J.Nishida，R.Ookura，S.I.Nishimura，S.Wada，T.Karino?and?M.Shimomura，Mater.Sci.Eng.，C，Biomim.Mater.，Sens.Syst.，1999，8-9，495]、光子晶體[4.M.Imada，S.Noda，A.Chutinan，T.Tokuda，M.Murata，G.Sasaki，Appl.Phys.Lett.，1999，75，316]、微電子[5.M.Imada，S.Noda，A.Chutinan，T.Tokuda，M.Murata?and?G.Sasaki，Appl.Phys.Lett.，1999，75，316]、催化[6.A.Boker，Y.Lin，K.Chiapperini，R.Horowitz，M.Thompson，V.Carreon，T.Xu，C.Abetz，H.Skaff，A.D.Dinsmore，T.Emrick，T.P.Russell，Nat.Mater.，2004，3，302]和光掩模[7.J.E.G.J.Wijnhoven?and?W.L.Vos，Science，1998，281，802]等領域的潛在應用，已經引起了高度的關注。很多制備高度有序結構薄膜的方法已經被公開，包括刻蝕[8.P.T.Tanev，M.Chibwe?and?T.J.Pinnavaia，Nature，1994，368，321]或軟刻蝕[9.J.C.McDonald，D.C.Duffy，J.R.Anderson，D.T.Chiu，H.Wu，O.J.A.Schueller?and?G.M.Whitesides，Electrophoresis，2000，21，27；10.J.A.Rogers，K.E.Paul，R.J.Jackmann?and?G.M.Whitesides，Appl.Phys.Lett.，1997，70，2658；11.T.W.Odom，J.C.Love，D.B.Wolfe，K.E.Pauland?G.M.Whitesides，Langmuir，2000，18，5314]、膠狀晶體[12.B.T.Holland，C.F.Blanford?andA.Stein，Science，1985，281，538；13.K.M.Kulinowski，P.Jiang，H.Vaswani?and?V.L.Colvin，Adv.Mater.，2000，12，833；14.S.H.Park?and?Y.Xia，Chem.Mater.，1998，10，1745]、乳液[15.A.Irnhof?and?D.J.Pine，Nature，1997，389，94]、自組裝共聚物[16.S.A.Jenekhe?and?X.Chen，Science，1999，283，372；17.M.Lee，M.H.Park，N.K.Oh，W.C.Zin，H.T.Jung?and?D.K.Yoon，Angew.Chem.Int.Ed.，2004，43，6466]和微相分離嵌段共聚物[18.T.Thurn～Albrecht，R.Steiner，J.DeRouchey，C.M.Stafford，E.Huang，M.Bal，M.Tuominen，C.J.Hawker?and?T.P.Russell，Adv.Mater.，2000，12，787；19.M.Templin，A.Frank，C.A.Du，A.Leist，A.Zhang，R.Ulrich，V.Schalder?and?U.Wiesner，Science，1997，278，1795；20.A.S.Zalusky，R.Olayo～Valles，J.H.Wolfand?M.A.Hillmyer，J.Am.Chem.Soc.，2002，124，12761]等。最近，Francois等人[21.G.Widawski，M.Rawieso?and?B.Francois，Nature，1994，369，397]發展了一種制備有序多孔膜的簡單方法，即所謂的呼吸圖法.在這項技術中，疏水的高聚物溶液在基質上揮發。在高濕度的環境下，氣化冷卻促進液滴凝聚在氣/液界面上.這些液滴陷入溶液表面，并且被穩定.在表面對流和熱毛細管力的作用下，冷凝的液滴在彼此凝聚之前通過自組裝有序分散在高聚物溶液中.隨著溶劑揮發，高聚物包圍在液滴的周圍.最后，溶劑和水揮發完后，蜂窩狀孔將留在高聚物膜上。