[發(fā)明專利]彩色濾光基板及其制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910111101.5
• 申請日: 2009-02-20
• 公開（公告）號: CN101493599A
• 公開（公告）日: 2009-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃俊鳴;邱獻(xiàn)清
• 申請（專利權(quán)）人: 福建華映顯示科技有限公司;中華映管股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G03F7/00
• 代理公司: 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 翁素華

【技術(shù)領(lǐng)域】

本發(fā)明是關(guān)于一種液晶顯示裝置中的零組件，特別指彩色濾光基板及其制造方法。

【背景技術(shù)】

彩色濾光片(Color?Filter)是液晶顯示裝置中最重要的關(guān)鍵性零組件的一，其質(zhì)量的好壞對液晶顯示裝置的色彩表現(xiàn)具有決定性的影響。傳統(tǒng)的在基板上制作彩色濾光片的方法雖有多種，但以顏料分散法為主流，也即利用彩色光阻涂布于玻璃，再經(jīng)軟烤、曝光、顯影、硬烤等制程重復(fù)制作而成，但此方法對于顏料的利用率極低，且其制程復(fù)雜，不易降低成本。為解決上述問題，噴墨印刷(Ink-jet?Printing)法問世，噴墨印刷法以一噴墨制程，將RGB三原色顏料直接注入遮光圖案層(Black?Matrix，BM)所構(gòu)成的開口中，以完成顏料的涂布，此法可增加彩色光阻的使用率、減少無塵室空間并簡化制程，所以比傳統(tǒng)彩色濾光片的制造方法更具成本競爭力。

請參考圖1至圖4，圖1至圖4為現(xiàn)有制作一彩色濾光基板的方法示意圖。首先，提供一基板12，例如透明玻璃基板，然后形成一遮光層14，該遮光層14設(shè)置在該基板12的表面。然后，利用一光罩16來對遮光層14進(jìn)行一曝光制程，用來將遮光層14圖案化。接著，如圖2所示，進(jìn)行一顯影制程，用來移除未被圖案化的遮光層14，以形成一遮光圖案層18與復(fù)數(shù)個開口20。然后，如圖3所示，利用一噴墨(Ink-jet)制程，分別將具有紅色漿料、綠色漿料以及藍(lán)色漿料的彩色濾光層22噴涂在相對應(yīng)的各開口20中。然后，如圖4所示，在遮光圖案層18的表面上再形成一由氧化銦錫(indium?tin?oxide，ITO)或氧化銦鋅(indium?zinc?oxide，IZO)所構(gòu)成的透明導(dǎo)電層24。最后在遮光圖案層18上方的透明導(dǎo)電層24上形成復(fù)數(shù)個間隙物26，進(jìn)而完成一彩色濾光基板10的結(jié)構(gòu)。值得注意的是，利用噴墨制程制作彩色濾光層22時，其遮光圖案層18的膜厚往往需高于彩色濾光層22的高度，以避免相鄰次畫素(sub-pixel)的彩色濾光層22的顏料墨滴互相污染。

然而，為了維持液晶面板的間隙(Cell?Gap)的均一性并符合特定的規(guī)格，遮光圖案層與間隙物(Photo?spacer)的總高度必須固定。但如前所述，由于利用噴墨制程制作彩色濾光層時，為了避免相鄰次畫素的顏料墨滴互相污染，因此必須提高遮光圖案層的厚度，至少為2微米(μm)以上，這將造成間隙物的高度因而縮短，使得間隙物的彈性變差，造成面板組裝(cell?assembly)制程的良率下降。

【發(fā)明內(nèi)容】

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題之一在于提供一種有助于提高間隙物的高度，避免面板組裝的良率降低的彩色濾光基板的制造方法。

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題之二在于提供一種使用上述制造方法制造的彩色濾光基板。

本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案解決上述技術(shù)問題之一的：一種彩色濾光基板的制造方法，包括下述步驟：

步驟1：提供一基板；

步驟2：在該基板上形成一遮光圖案層，該遮光圖案層具有復(fù)數(shù)個第一開口，并曝露出部份的該基板；

步驟3：在該遮光圖案層上形成一擋墻層，該擋墻層具有復(fù)數(shù)個第二開口，并曝露出部份該遮光圖案層；

步驟4：形成復(fù)數(shù)個彩色濾光層，以分別覆蓋于各第一開口所曝露出的該基板上。

在上述形成彩色濾光層的步驟4之后，還包括下述步驟：

步驟5：形成一透明電極層，該透明電極層覆蓋該遮光圖案層、該擋墻層以及該彩色濾光層。

在所述步驟5之后，還包括下述步驟：

步驟6：在形成該透明電極層之后，形成復(fù)數(shù)個間隙物，該復(fù)數(shù)個間隙物分別位于各第二開口內(nèi)的透明電極層上，且該擋墻層圍繞各間隙物。

作為另一實(shí)施例，在上述形成彩色濾光層的步驟4之后，還包括下述步驟：

步驟52：形成復(fù)數(shù)個間隙物，該復(fù)數(shù)個間隙物分別位于各第二開口內(nèi)，且該擋墻層圍繞各間隙物。

在所述步驟52之后，還包括下述步驟：

步驟62：在形成該間隙物之后，再形成一透明電極層，該透明電極層覆蓋該遮光圖案層、該擋墻層、該彩色濾光層以及該間隙物。

形成該遮光圖案層與該擋墻層的方法為一微影制程，形成該彩色濾光層的方法為一噴墨制程或一微影制程。

形成該遮光圖案層的材料選自負(fù)型光阻材料或者正型光阻材料，形成該擋墻層的材料選自下述材料之一：負(fù)型光阻材料、正型光阻材料，彩色光阻材料。

其中形成該彩色濾光層的步驟4與形成該擋墻層的步驟3在同一步驟中進(jìn)行，利用微影制程在基板上形成彩色濾光層時，部份的彩色濾光層設(shè)置在遮光圖案層上，當(dāng)作擋墻層。