[發(fā)明專(zhuān)利]液晶顯示裝置及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910108396.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-06-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101697044A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-04-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李得俊;曾迎祥 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深超光電(深圳)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/1333 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/1333;G02F1/1339;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦;李慶波 |
| 地址: | 518100 廣東省深圳市寶安*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明是有關(guān)于一種能夠防止液晶顯示裝置影像殘留的裝置,且特別是有 關(guān)于一種用于制造液晶顯示裝置的制造方法。
【背景技術(shù)】
液晶顯示裝置中,扭轉(zhuǎn)向列(twist?nematic,TN)模式的液晶分子所形成的有 源元件陣列液晶顯示裝置具有視角狹窄與易產(chǎn)生影像殘留的缺點(diǎn)。其中,影像 殘留是影響畫(huà)面品質(zhì)的一個(gè)重要的因素。產(chǎn)生影像殘留的主要原因就是液晶層 或者框膠中混雜了帶電離子,致使在液晶顯示裝置的驅(qū)動(dòng)電壓進(jìn)行極性轉(zhuǎn)換 時(shí),會(huì)在液晶層中產(chǎn)生寄生電場(chǎng)。這樣的寄生電場(chǎng)使液晶分子發(fā)生不必要的偏 轉(zhuǎn),致使之前的圖像會(huì)殘留在顯示裝置上。因此,這就大大影響了液晶顯示裝 置的畫(huà)面品質(zhì),使液晶顯示裝置達(dá)不到出貨的標(biāo)準(zhǔn)。
圖1與圖2為現(xiàn)有的液晶顯示裝置的示意圖。請(qǐng)參照?qǐng)D1,液晶顯示裝置 10包括第一基板111、第二基板112。第一基板111與第二基板112基板之間 夾有液晶層115。框膠113將第一基板111與第二基板112進(jìn)行粘合,以達(dá)到 密封液晶層115的效果。第一基板111為彩色濾光片基板,而第二基板112為 陣列基板。在框膠113中往往夾雜有帶電離子100,且?guī)щ婋x子100會(huì)通過(guò)框 膠113進(jìn)入液晶層115,而使液晶層115受到污染。
液晶顯示裝置10進(jìn)行顯示時(shí)第一基板111與第二基板112會(huì)被施加電壓, 使液晶層115中的液晶產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),以顯示出所需要的圖像。此時(shí),帶電離子100 會(huì)因?yàn)楫愋噪姾上辔碾妼W(xué)原理,吸附在第一基板111與第二基板112的表 面上(如圖2所示)。但是,所施加的電壓發(fā)生極性轉(zhuǎn)換時(shí),貼附在第一基板 111與第二基板112上的帶電離子100會(huì)在液晶層115中形成寄生電場(chǎng),而影 響液晶分子的偏轉(zhuǎn)。如此一來(lái),之前的圖像將會(huì)殘留,亦即發(fā)生影像殘留的現(xiàn) 象。影像殘留現(xiàn)象的發(fā)生將大幅度的降低畫(huà)面顯示效果,使液晶顯示裝置10 的畫(huà)面品質(zhì)明顯降低。
為了解決這個(gè)問(wèn)題,美國(guó)待審查的專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)號(hào)為US2006/0055858的 發(fā)明中,提出在液晶層中摻雜可聚合化合物材料。可聚合化合物材料與液晶分 子一起設(shè)置在具有電極的一對(duì)基板之間,其中可聚合化合物材料可通過(guò)加熱或 者射線照射的方式進(jìn)行聚合。另外,具有電極的兩基板用于將電壓施加于液晶 層或用于使液晶分子垂直排列于控制薄膜上。通過(guò)射線照射或者加熱的方式聚 合可聚合化合物,同時(shí)在兩基板的電極之間施加電壓,可使液晶分子具有預(yù)傾 斜角度。如此一來(lái),液晶分子的排列不規(guī)則的情形可被防止,以提高對(duì)影像殘 留的顯示缺陷的抵抗能力。
但是,采用這種設(shè)置仍不能有效防止影像殘留的產(chǎn)生。因?yàn)榭删酆匣衔? 的設(shè)計(jì),雖使液晶分子產(chǎn)生一預(yù)傾斜角度,仍不能有效防止液晶層中的帶電離 子所產(chǎn)生的寄生電場(chǎng)影響液晶分子的傾斜角度。換言之,影像殘留的現(xiàn)象依然 得不到很好的防止。
因此,還需要更好的解決方案來(lái)完善、解決帶電離子產(chǎn)生電場(chǎng)而影響液晶 分子的偏轉(zhuǎn),產(chǎn)生影像殘留現(xiàn)象,使液晶顯示裝置畫(huà)面品質(zhì)降低的問(wèn)題。
【發(fā)明內(nèi)容】
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種提高顯示性能的液晶顯示裝置,其 可防止框膠中的帶電離子進(jìn)入液晶層而污染液晶層。
本發(fā)明所要解決的另一技術(shù)問(wèn)題是提供一種提高液晶顯示裝置的畫(huà)面顯 示能力的顯示裝置制作方法,以防止因?yàn)閹щ婋x子在兩基板之間形成一寄生電 場(chǎng),而使液晶分子發(fā)生不必要的偏轉(zhuǎn)。
本發(fā)明提供一種液晶顯示裝置,其包括第一基板、第二基板、液晶層、框 膠以及感光高分子層。液晶層置于第一基板與第二基板兩者之間。框膠設(shè)置在 第一基板與第二基板的周邊區(qū)域上并使第一基板、第二基板以及液晶層組立。 感光高分子層至少設(shè)置于框膠接近液晶層的內(nèi)側(cè),以阻隔框膠和液晶層間的直 接接觸。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中,上述的第一基板為彩色濾光片基板,而第二 基板為陣列基板。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中,上述的第一基板上設(shè)置有遮光層,且感光高 分子層設(shè)置于遮光層與框膠之間。舉例而言,遮光層為黑矩陣。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中,在對(duì)液晶層照射紫外(UV)光之前,液晶 層的材質(zhì)包括感光高分子與液晶分子,對(duì)液晶層照射紫外光硬化感光高分子形 成感光高分子層之后,液晶層中未被紫外光照射到的感光高分子則在靜置6小 時(shí)之后,感光高分子的感光活性將被消除。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于深超光電(深圳)有限公司,未經(jīng)深超光電(深圳)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910108396.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法





