[發明專利]一種復合材料及其制備方法

有效

• 申請號: 200910104942.3
• 申請日: 2009-01-06
• 公開（公告）號: CN101768770A
• 公開（公告）日: 2010-07-07
• 發明（設計）人: 高春楠;陸平;李愛華;陳梁
• 申請（專利權）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號: C25D11/04
• 分類號: C25D11/04;C25D11/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種復合材料及其制備方法，尤其涉及一種鋁合金復合材料及其制備方法。

背景技術

鋁或鋁合金等基材表面的彩色氧化物膜層的制備方法是將鋁或鋁合金等基材在硫酸中陽極氧化形成陽極氧化膜層，然后在含有有機染料的溶液中進行染色處理，通過吸附作用，使得染料進入到氧化物膜層的孔隙中，再經過封孔處理，使鋁或鋁合金等基材表面具有各種各樣的顏色。但是這種方法只能形成單一的顏色，不能滿足人們對于多色彩的需求。目前鋁或鋁合金表面漸變色的氧化物膜層的制備主要通過噴涂或者印刷來實現，對于高檔數碼外殼的漸變色裝飾，又以噴涂最為常見。通過使用漸變色噴涂設備，得到一種或幾種顏色的漸變。單色漸變過程的實現，可以通過控制油墨的厚薄來控制，但是這樣會使表面膜層不均勻，多色的漸變也會有類似情況的發生。噴涂或印刷油墨處理后的表面，喪失了金屬光澤和手感的同時，在使用的過程中，很容易刮傷，磨損，使其表面失去光澤不能長久保持其精致外觀。

發明內容

本發明的目的在于克服上述現有技術中鋁或鋁合金的氧化物膜層的漸變的多色彩效果存在的表面膜層不均勻、沒有金屬光澤、容易刮傷、容易磨損的缺陷，從而提供一種表面膜層均勻、具有金屬光澤、不易刮傷和不易磨損的表面具有漸變的多色彩效果的復合材料及其制備方法。

一種復合材料，該復合材料包括基材，該基材的表面為多孔的陽極氧化膜層，所述基材為鋁或鋁合金，所述多孔的陽極氧化膜層的孔隙中填充有至少一種染料，至少部分所述多孔的陽極氧化膜層的孔隙中同種染料的含量呈梯度分布。

本發明還提供一種復合材料的制備方法，該方法包括：采用陽極氧化的方法在鋁或鋁合金基材表面形成多孔的氧化物膜層；對所述多孔的氧化物膜層進行染色，所述染色的方法是通過控制多孔的氧化物膜層不同區域進入染料中的時間，使多孔的陽極氧化膜層的孔隙中填充的染料的含量呈梯度分布。

本發明的復合材料的顏色具有深淺漸變的效果。可以是單色的深淺漸變也可以是多色的漸變，過程的重復進行也可以得到幻彩的效果。豐富了鋁合金的表面色彩，滿足人們對個性的追求。同時還保留了金屬本來的光澤和質感，耐刮傷和耐磨損。本發明的制備的方法是利用對膜不同位置染色時間不同來控制其表面顏色的深淺，從而達到漸變的效果，因為此過程的實施過程對陽極氧化膜沒有任何的破壞作用，不會影響最終產品的性能。且過程原理簡單、成本較低、外觀漂亮、量產性強，在高檔電子產品外殼裝飾領域，比如手機、相機、筆記本等的裝飾上都具有非常廣闊的市場開發前景。

附圖說明

圖1是實施例1的單色漸變的產品的示意圖。

具體實施方式

一種復合材料，該復合材料包括基材，該基材的表面為多孔的陽極氧化膜層，所述基材為鋁或鋁合金，所述多孔的陽極氧化膜層的孔隙中填充有至少一種染料，至少部分所述多孔的陽極氧化膜層的孔隙中同種染料的含量呈梯度分布。

所述梯度是指多孔陽極氧化膜層空隙中中染料含量的變化率，該多孔陽極氧化膜層中y處的染料含量為w，在與其垂直距離的dy處該參數為w+dw，則dw稱為該含量的梯度，也即含量的變化率。

所述多孔的陽極氧化膜層的孔隙中填充有兩種染料，所述多孔的陽極氧化膜層的孔隙中一種染料的含量沿著一個方向呈梯度分布，另一種染料的含量沿著與所述方向相反的方向呈梯度分布。所述多孔陽極氧化膜層中也可以含有兩種以上的染料，只要所述多孔的陽極氧化膜層的孔隙中一種染料的含量沿著一個方向呈梯度分布，另一種染料的含量沿著和所述方向不同的方向呈梯度分布，第三種染料沿著第三個方向呈梯度分布，依次類推即可。

所述多孔陽極氧化膜層隨著孔隙中同種染料含量的不同形成漸變色，所述漸變色是指一種顏色由深到淺或有淺到深的連續變化所形成的顏色。例如黃色的漸變色是由淺黃到深黃的漸變。如圖1所示，是單色漸變的復合材料。

本發明所述的復合材料，可以是整個多孔陽極氧化膜層的表面都形成漸變色，可以是部分形成漸變色，其余部分就是一般的陽極氧化后的染單一顏色，優選為整個多孔陽極氧化膜層的表面都形成漸變色。

沿著多孔的陽極氧化膜層的一個方向上同種染料的梯度可以相同也可以不同，只要能形成漸變色就可以，為了得到的漸變色效果好，優選為梯度相同。

所述陽極氧化膜層的厚度是5-15微米。較薄的陽極氧化膜層不宜進行染色處理尤其是深顏色且表面的性能達不到要求，而過厚的陽極氧化膜所需要的氧化時間過長不利于生產的進行。對于本工藝選取的最佳工藝，膜厚優選為11-14微米。