[發(fā)明專利]一種電鍍集控區(qū)混流廢水的資源化回收處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910101689.6
• 申請(qǐng)日: 2009-08-24
• 公開（公告）號(hào): CN101633538A
• 公開（公告）日: 2010-01-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樓洪海;許海亮;張世新;周杰;應(yīng)安定;周旭盛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 杭州海拓環(huán)境工程有限公司
• 主分類號(hào): C02F9/04
• 分類號(hào): C02F9/04;C02F1/70;C02F1/66;C02F1/72;C02F1/24;C02F1/52;C02F103/16
• 代理公司: 杭州之江專利事務(wù)所
• 代理人: 朱 楓

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及廢水的處理方法，特別涉及一種電鍍集控區(qū)混流廢水的資源化回收 處理方法。

背景技術(shù)

隨著我國(guó)對(duì)環(huán)保要求的提高，電鍍行業(yè)越來(lái)越多的采用電鍍集控區(qū)的生產(chǎn)方 式。電鍍集控區(qū)是一種新型電鍍生產(chǎn)組織模式，采用“集中生產(chǎn)、集中管理、集中 治理、集中監(jiān)控”的產(chǎn)業(yè)集控區(qū)模式。創(chuàng)建電鍍集控區(qū)可以實(shí)現(xiàn)廢水集中處理的市 場(chǎng)化運(yùn)行，確保入?yún)^(qū)電鍍企業(yè)污染物達(dá)標(biāo)排放，以最大程度減少對(duì)周圍環(huán)境的影響， 建立電鍍集控區(qū)不但方便對(duì)電鍍企業(yè)的管理，更有利于污染治理和資源回收，符合 循環(huán)經(jīng)濟(jì)的要求，是對(duì)電鍍行業(yè)進(jìn)行環(huán)境綜合治理、實(shí)施電鍍行業(yè)清潔生產(chǎn)、減污 降耗增效的最佳途徑。

在電鍍集控區(qū)，因企業(yè)多、鍍種多而導(dǎo)致電鍍生產(chǎn)排放水污染物雜，無(wú)法對(duì)各 種廢水徹底分流，廢水處理能達(dá)標(biāo)的難度大。此外，在電鍍廠排放出的廢水中又存 在大量有價(jià)值的金屬資源，這些金屬以絡(luò)合物、有毒離子價(jià)態(tài)存在，在解決這些重 金屬離子污染的同時(shí)，要實(shí)現(xiàn)最大化的金屬資源回收。

目前，在電鍍集控區(qū)混流廢水處理的實(shí)際生產(chǎn)中，主要采用化學(xué)法對(duì)綜合廢水 進(jìn)行處理，化學(xué)法在破氰和破絡(luò)的過(guò)程中，需要耗費(fèi)過(guò)量的次鈉等氧化劑，藥劑成 本高，并且過(guò)量次鈉等氧化劑的投加，使得處理后的水余氯超標(biāo)。還有使用電化學(xué) 法對(duì)混流水進(jìn)行處理，此方法在耗費(fèi)了大量電能的同時(shí)，還需要消耗鐵、鋁等金屬 資源，并且產(chǎn)生的污泥量大。

發(fā)明內(nèi)容

為了克服電鍍集控區(qū)無(wú)法完全分水清楚的現(xiàn)狀，解決處理成本高、污泥成為危 廢、排水無(wú)法穩(wěn)定達(dá)標(biāo)等問題，本發(fā)明的目的是提供一種電鍍集控區(qū)混流廢水的資 源化回收處理方法，該方法不但能穩(wěn)定達(dá)到電鍍新標(biāo)準(zhǔn)要求，而且還能對(duì)廢水中的 有價(jià)資源以最低的成本進(jìn)行最大化的回收，大大減少二次污染，實(shí)現(xiàn)電鍍廢水治理 的清潔生產(chǎn)與電鍍集控區(qū)的環(huán)保要求。

為實(shí)現(xiàn)該發(fā)明目的，采用的技術(shù)方案如下：

一種電鍍集控區(qū)混流廢水的資源化回收處理方法，其特征在于包括如下步驟：

(a)收集電鍍各工藝槽槽液，形成電鍍混流廢水，在pH為1.5-2.5的混流廢水 中加入過(guò)量的以H₂O₂為主要成份的藥劑，利用酸性條件下六價(jià)鉻氧化性強(qiáng)于雙氧水， 六價(jià)鉻被還原成三價(jià)鉻，并對(duì)銅與鎳的絡(luò)合物進(jìn)行破除，同時(shí)水中含有的鐵離子 在酸性條件下對(duì)銅與鎳的絡(luò)合物也進(jìn)行破除；

所述工藝槽槽液主要分為含氰廢水、含鉻廢水、含重金屬?gòu)U水、含酸堿廢水等， 電鍍混流廢水中含有六價(jià)鉻，總鉻，氰化物，銅、鎳、鋅、錫、鐵離子，其中還含 有銅與鎳的多種絡(luò)合物，電鍍混流廢水的pH值一般為1.52.5。

(b)用石灰水調(diào)整電鍍混流廢水的pH值到3.8-4.0，氣浮分離生成的污泥，并 在氣浮的溶氣高壓釋放過(guò)程中，有部分氰化物被雙氧水氧化，實(shí)現(xiàn)了部分破氰，所 述污泥的主要成份為氫氧化鐵、氫氧化鋅、氫氧化錫沉淀；

(c)用石灰水和液堿的混合液調(diào)整電鍍混流廢水的pH到5.7-5.9進(jìn)行完全破 氰，氣浮分離生成的污泥，所述污泥的主要成份為氫氧化銅和氫氧化鉻沉淀；

(d)用液堿和硫化堿調(diào)整電鍍混流廢水的pH至9.7-9.9，氣浮分離生成的污泥， 所述污泥的主要成份為氫氧化鎳和氫氧化銅沉淀，在此pH值下銅離子能完全生產(chǎn) 沉淀，保證了最終排出水中銅離子的達(dá)標(biāo)；

(e)再通過(guò)投加混凝劑，采用多介質(zhì)吸附劑進(jìn)行混凝吸附過(guò)濾，同時(shí)降低pH 值至7.8~9.0，實(shí)現(xiàn)出水達(dá)標(biāo)排放或回用。

所述多介質(zhì)吸附劑是以粉煤灰和活性炭為主要成分；所述混疑劑可以是硫酸亞 鐵。

步驟(b)中石灰水的添加、步驟(c)中石灰水和液堿的混合液的添加、步驟 (d)中液堿和硫化堿的添加、步驟(e)中混凝劑的添加都采用PLC(可編程控制 器)自動(dòng)化控制。

所述以H₂O₂為主要成份的藥劑的成份為(重量份)：雙氧水62％、次氯酸鈉10％、 石灰38％。

步驟(a)中所述的過(guò)量的以H₂O₂為主要成份的藥劑，“過(guò)量”指H₂O₂除了在(a) 中使用外，還要經(jīng)過(guò)(b)、(c)到步驟(d)時(shí)還含有雙氧水。