[發(fā)明專利]一種太陽(yáng)能硅單晶的制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910098437.2 | 申請(qǐng)日: | 2009-05-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101565851A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-10-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐國(guó)六 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江金西園科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B15/20 | 分類號(hào): | C30B15/20;C30B29/06 |
| 代理公司: | 杭州九洲專利事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 王洪新 |
| 地址: | 324300*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 太陽(yáng)能 硅單晶 制作方法 | ||
1.一種太陽(yáng)能硅單晶的制作方法,其特征在于:利用廢棄的多晶硅下腳料作為主要原料 來(lái)制備太陽(yáng)能硅單晶,其制作方法包括以下步驟:
第一步:首先對(duì)多晶硅下腳料進(jìn)行分類:
(1)將多晶硅下腳料的頭尾料、堝底料、廢片料分別放置,
(2)將分置好的多晶硅下腳料按檢測(cè)類別及電阻率高低進(jìn)行分類,分為:
N型??電阻率:0.5Ω.cm以下,0.5~1.6Ω.cm,1.6~6Ω.cm及>6Ω.cm四檔;
P型??電阻率:0.5Ω.cm以下,0.5~1.6Ω.cm,1.6~6Ω.cm及>6Ω.cm四檔;
(3)清洗:將分類好的多晶硅下腳料用酸性溶液清洗浸泡一段時(shí)間后,去掉表面雜質(zhì), 再用大于15兆的去離子水漂洗10~15分鐘;
(4)干燥:將完成表面清洗的多晶硅下腳料進(jìn)行表面干燥;
第二步:將多晶硅下腳料投入坩堝內(nèi)進(jìn)行拉制:
(1)將上述完成表面清洗、干燥的頭尾料、堝底料、廢片料進(jìn)行合理的配比后投入單晶 爐的石英坩堝中,頭尾料、堝底料、廢片料之間的重量配比為:6∶5∶1;
(2)將多晶硅下腳料裝入單晶爐后,抽真空、加氬氣后,分3~4次升溫到1600℃,硅 料完全熔化后,靜置揮發(fā)1.5~2.5h,啟動(dòng)堝轉(zhuǎn)0.5~1h,停止堝轉(zhuǎn),再揮發(fā)0.5~1h后,進(jìn) 行試?yán)疲?
(3)a、若試?yán)瞥晒Γ葴y(cè)量試?yán)频玫降男《螁尉О舻碾娮杪剩娮杪史弦螅? 進(jìn)行正常的拉制,得到最終的太陽(yáng)能硅單晶;
b、若由于雜質(zhì)過(guò)多、引晶不成功,先拉制一小段多晶棒,粘掉雜質(zhì),重新靜置揮發(fā)0.5~ 2小時(shí)后,再進(jìn)行正常拉制;若再次引晶不成功,直接將拉制得到的多晶棒敲碎后重新酸洗、 配比,重新投爐;
所述的酸性溶液由濃度為40%~47%的氫氟酸和濃度65%~68%硝酸混合而成,其中氫氟酸 和硝酸的重量比為1∶5~6;
所述的頭尾料先在酸性溶液中浸潤(rùn)2~5分鐘,并翻動(dòng);取出硅料,在純水中翻動(dòng)漂洗 10~15分鐘;用水沖洗酸洗籃里的硅料,待PH值回復(fù)到7,取出硅料烘干;
所述堝底料先在酸性溶液中浸潤(rùn)5~12分鐘,并翻動(dòng);取出硅料,在純水中翻動(dòng)漂洗10~ 15分鐘;用水沖洗酸洗籃里的硅料,待PH值回復(fù)到7,取出硅料烘干;
所述的片料先用水充分沖洗,去除固體雜質(zhì);再將清洗過(guò)的片料在酸性溶液中翻動(dòng)1~3 分鐘后取出,用清水漂洗、沖洗后烘干。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種太陽(yáng)能硅單晶的制作方法,其特征在于:經(jīng)靜置揮發(fā)后的 多晶硅下腳料堝轉(zhuǎn),坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)速度為5~7rad/s。
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