[發(fā)明專利]一種復(fù)合相位掩模板

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910097178.1
• 申請日: 2009-03-26
• 公開（公告）號: CN101510011A
• 公開（公告）日: 2009-08-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李奇;趙惠;馮華君;徐之海
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江大學(xué)
• 主分類號: G02B27/46
• 分類號: G02B27/46;H04N5/225
• 代理公司: 杭州天勤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 胡紅娟

1.一種復(fù)合相位掩模板，其特征在于：所述的復(fù)合相位掩模板的相位分布函數(shù)包含指數(shù)型和一次方型兩種函數(shù)，相位分布函數(shù)θ(x，y)的函數(shù)式如下：

θ(x，y)＝α·x·exp(β·x²)+α·y·exp(β·y²)+κ·(x+y)

式中，α·x·exp(β·x²)+α·y·exp(β·y²)為指數(shù)型函數(shù)，κ·(x+y)為一次方型函數(shù)；其中，α、β為指數(shù)函數(shù)調(diào)制因子，κ為相位調(diào)制因子，x，y為孔徑平面歸一化的空間坐標。

2.一種成像系統(tǒng)，由成像鏡頭、復(fù)合相位掩模板、圖像探測器、圖像處理單元組成，其特征在于：所述的復(fù)合相位掩模板的相位分布函數(shù)包含指數(shù)型和一次方型兩種函數(shù)，相位分布函數(shù)θ(x，y)函數(shù)式如下：

θ(x，y)＝α·x·exp(β·x²)+α·y·exp(β·y²)+κ·(x+y)

式中，α、β為指數(shù)函數(shù)調(diào)制因子，κ為相位調(diào)制因子，x，y為孔徑平面歸一化的空間坐標；

在成像系統(tǒng)中，成像目標通過成像鏡頭和相位掩模板后，在圖像探測器上形成模糊的中間像，然后圖像處理單元對中間像進行去卷積處理，最終得到聚焦清晰的圖像。