[發明專利]一種甘蔗土壤地膜多層覆蓋栽培方法

無效

• 申請號: 200910094878.5
• 申請日: 2009-08-26
• 公開（公告）號: CN101637088A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發明（設計）人: 吳才文;夏紅明;楊昆;楊洪昌;尹興祥;劉家勇;趙俊;趙培方
• 申請（專利權）人: 云南省農業科學院甘蔗研究所
• 主分類號: A01G1/00
• 分類號: A01G1/00;A01G13/02
• 代理公司: 昆明正原專利代理有限責任公司
• 代理人: 陳 左

技術領域

本發明屬于作物栽培技術，具體是一種甘蔗土壤地膜多層覆蓋栽培方法。

背景技術

我國大部分蔗區受季風氣候的影響，春季少雨干燥，氣溫回升快，土壤含水量低，天然降雨和人工灌溉所給予的水分容易蒸發，旱坡地水份難于滿足甘蔗出苗和生長的需要，造成出苗慢、出苗少。目前已經實施的旱地地膜覆蓋栽培技術采用地膜覆蓋甘蔗種植行，對保持蔗溝的保濕、促進春季甘蔗出苗等方面起到了良好的作用。但甘蔗出苗后易于把地膜抬起，難于破膜，由于春季光照強，氣溫回升快，膜內溫度高，常造成甘蔗出苗后被灼傷，甚至被灼死，是造成旱地甘蔗產量低的原因之一；同時，由于膜內濕度大、光照好而導致雜草叢生。如何預防蔗苗抬膜難于破膜，春季蔗苗被高溫灼傷或灼死，以及膜后蔗溝田間雜草叢生的問題，一直是困擾春季甘蔗高產高糖高效益栽培的一項重大技術問題。

發明內容

本發明的目的是提出一種簡單而有效的甘蔗土壤地膜多層覆蓋栽培方法，實施該方法的成本低廉，并且能夠有效解決現有技術的不足。

本發明的目的是這樣實現的：

一種甘蔗土壤地膜多層覆蓋栽培方法，甘蔗苗栽種后在保持一定土壤濕度的植蔗溝內蓋光解地膜，然后在地膜表面再覆蓋細土，具體步驟為：

(1)開蔗溝：挖植蔗溝，溝底土堆放于蔗壟；

(2)栽種：甘蔗種莖苗種于蔗溝底，并蓋上一層薄土，在潮濕地塊栽種甘蔗；

(3)澆水：栽種后保持一定土壤濕度，若土壤干燥，則需用水澆濕土表層，甘蔗栽種后下雨則不用澆水；

(4)蓋膜：選用厚度0.008～0.012cm、寬幅0.4～0.5m的光解地膜，對種植溝進行覆蓋，應根據種植溝的寬度選擇適當的寬幅；

(5)蓋土：用細土壓緊壓實蓋膜后的植蔗溝上表面及光解地膜的邊緣，增加地膜的重量，以利于有效保持水分和蔗苗破膜。

所述植蔗溝與蔗壟之間的植蔗溝深度為30～40cm。

本發明具有的有益效果如下：

本發明提出的甘蔗土壤地膜多層覆蓋栽培技術，操作簡單，方便易行，地膜表面再蓋一層土，用工成本僅少量增加，但不會造成蔗苗被灼傷、田間雜草大量減少，灌溉次數減少甚至不灌溉，除草和破膜成本大幅下降。

密封的地膜易保持種莖苗周圍土壤濕潤，促進種莖苗萌芽，出苗快、出苗齊，蔗苗生長快，保證苗齊苗壯，根系發達，植株健壯，甘蔗增產顯著。

地膜上表面蓋土后膜內光照弱，雜草種子不易萌發，避免雜草叢生，能夠影響蔗苗的萌發和生長。

地膜上表面蓋土后有一定重量，甘蔗出苗葉片未展開前呈劍形蔗苗，易于穿破地膜，形成膜孔，劍形蔗苗突破地膜將免于被膜內高溫灼傷或灼死。

附圖說明：

圖1為本發明提出的栽培方法縱剖示意圖。

圖中：1、植蔗溝，2、蔗壟，3、甘蔗種莖苗，4、光解地膜，5、細土，6、蔗苗，7、膜孔。

具體實施方式：

以下結合實施例和附圖對本發明作進一步說明：

從圖1可以看出，蔗田呈波浪形，光解地膜蓋于植蔗溝1表面，細土壓實溝底地膜，像給蔗田表面裝上了一道閘：甘蔗種莖苗栽后先蓋一層薄土，再在土表蓋光解地膜，蓋膜后再在光解地膜表面蓋上一層細土，蔗芽萌發后易穿過地膜，可免遭高溫灼傷。本發明具有多重作用：

1、預防植蔗溝1水分向外蒸發，使種莖苗保持濕潤狀態，有利于促進種莖苗萌發，形成蔗苗6，蔗苗自然破膜，形成膜孔7。

2、地膜4上表面所蓋細土5使膜內光照弱，有利于預防膜內雜草種子的萌發和生長。

3、地膜4上表面所蓋細土5較薄，膜上表面土層薄雜草種子不易萌發或萌發之后常處于干濕交替狀態、根系不能深扎吸收地下水份，難于成活。

4、所使用的地膜為光解地膜4，不需要揭膜，雨季可有效儲水，旱季防水分快速流失，保持根系的濕度，促進甘蔗生長。

5、甘蔗砍收后，蔗蔸處于地膜覆蓋之下濕度增大，有利于宿根蔗發株，延長宿根年限。

6、蔗地翻耕時，光解地膜受光照自然分解，不會造成任何環境污染。植蔗溝1與蔗壟2高度之差，即植蔗溝深度約為30～40cm。

本方法主要適用于干旱少雨、氣溫回升后春季新植蔗，能大大延長蔗田保墑抗旱周期，減少蔗田水分蒸發流失，避免膜內外雜草的大量生長和蔗苗萌芽后難于破膜而造成灼傷或灼死等不必要的損失，促進蔗苗萌發和生長，提高植蔗效益。