[發明專利]一種等離子體處理設備及方法有效
| 申請號： | 200910093054.6 | 申請日： | 2009-09-22 |
| 公開（公告）號： | CN102024658A | 公開（公告）日： | 2011-04-20 |
| 發明（設計）人： | 韋剛 | 申請（專利權）人： | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 張天舒;陳源 |
| 地址： | 100016 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 等離子體 處理 設備 方法 | ||
1.一種等離子體處理設備，包括工藝腔室、設置工藝腔室內的上電極和下電極，其特征在于，在所述上電極和下電極之間設置有柵網，所述柵網連接有周期性變化的脈沖電壓和/或交流電壓，所述脈沖電壓和/或交流電壓的參數皆可被調節以改變等離子體參數。
2.根據權利要求1所述的等離子體處理設備，其特征在于，所述脈沖電壓的波形包括方波、三角波。
3.根據權利要求2所述的等離子體處理設備，其特征在于，所述脈沖電壓的參數包括脈沖幅度、上升時間、下降時間、脈沖周期、占空比、正脈沖寬度、負脈沖寬度。
4.根據權利要求1所述的等離子體處理設備，其特征在于，所述交流電壓的波形包括正弦波、余弦波。
5.根據權利要求4所述的等離子體處理設備，其特征在于，所述交流電壓的參數包括角頻率、幅值、有效值、平均值。
6.根據權利要求1所述的等離子體處理設備，其特征在于，所述柵網的網格尺寸根據等離子體空間的德拜長度而定。
7.一種等離子體處理方法，用以改善工藝腔室內的等離子體特性，其特征在于，包括下述步驟：
10)在工藝腔室內的上電極和下電極之間設置柵網；
20)將注入工藝腔室的工藝氣體激發為等離子體，同時，為所述柵網連接脈沖電壓和/或交流電壓；
30)借助所述等離子體進行相應加工工藝，調節所述脈沖電壓和/或交流電壓的參數以改變等離子體參數。
8.根據權利要求7所述的等離子體處理方法，其特征在于，所述脈沖電壓的波形包括方波、三角波。
9.根據權利要求8所述的等離子體處理方法，其特征在于，所述脈沖電壓的參數包括脈沖幅度、上升時間、下降時間、脈沖周期、占空比、正脈沖寬度、負脈沖寬度。
10.根據權利要求7所述的等離子體處理方法，其特征在于，所述交流電壓的波形包括正弦波、余弦波。
11.根據權利要求9所述的等離子體處理方法，其特征在于，所述交流電壓的參數包括角頻率、幅值、有效值、平均值。
12.根據權利要求7所述的等離子體處理方法，其特征在于，所述柵網的網格尺寸根據等離子體空間的德拜長度而定。
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