[發明專利]觸摸屏、彩膜基板及其制造方法

有效

• 申請號: 200910092943.0
• 申請日: 2009-09-11
• 公開（公告）號: CN102023733A
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發明（設計）人: 謝振宇;劉翔;陳旭
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G06F3/045;G03F7/00;G02F1/133
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 曲鵬

1.一種觸摸屏，包括基板，其特征在于，所述基板上形成有相互交叉的第一信號線和第二信號線，所述第一信號線與第二信號線之間連接有感應電極，所述感應電極用于在被觸摸受壓時產生電荷，并在所述第一信號線和第二信號線中形成確定觸摸點位置坐標的電流信號。

2.根據權利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一信號線為整體連續結構，所述第二信號線為分體間斷結構，感應電極位于第一信號線與第二信號線的交疊區域，所述第二信號線分別形成在相鄰的兩個第一信號線之間和感應電極上，分體間斷結構的第二信號線通過連接條連接成整體結構。

3.根據權利要求2所述的觸摸屏，其特征在于，所述第二信號線上形成有絕緣層，所述絕緣層上開設有第一過孔、第二過孔和第三過孔，所述第一過孔和第二過孔分別位于相鄰兩個第一信號線之間的第二信號線的兩端，所述第三過孔位于感應電極上方的第二信號線上，所述連接條形成在絕緣層上，通過第一過孔、第二過孔和第三過孔使分體間斷結構的第二信號線連接成整體結構。

4.根據權利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一信號線和第二信號線為整體連續結構，感應電極位于第一信號線與第二信號線的交疊區域，所述感應電極的寬度大于第一信號線的寬度。

5.根據權利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述第一信號線和第二信號線為整體連續結構，感應電極位于第一信號線上，所述感應電極的寬度大于第一信號線的寬度。

6.一種包括權利要求1～5中任一權利要求所述觸摸屏的彩膜基板，其特征在于，還包括彩膜結構層。

7.一種觸摸屏制造方法，其特征在于，包括：

步驟1、在基板上形成包括第一信號線和感應電極的圖形，所述感應電極位于第一信號線上；

步驟2、形成包括第二信號線的圖形，所述第二信號線壓設在所述感應電極上。

8.根據權利要求7所述的觸摸屏制造方法，其特征在于，所述步驟1包括：

在基板上依次沉積第一金屬薄膜和壓電薄膜；

在所述壓電薄膜上涂覆一層光刻膠；

采用半色調或灰色調掩模板對光刻膠進行曝光處理，顯影后使光刻膠形成光刻膠完全保留區域、光刻膠完全去除區域和光刻膠部分保留區域，光刻膠完全保留區域對應于感應電極圖形所在區域，光刻膠部分保留區域對應于第一信號線上感應電極圖形以外的區域，光刻膠完全去除區域對應于上述圖形以外區域；

通過第一次刻蝕工藝完全刻蝕掉光刻膠完全去除區域的壓電薄膜和第一金屬薄膜，形成包括第一信號線的圖形；

通過灰化工藝完全去除光刻膠部分保留區域的光刻膠，暴露出壓電薄膜；

通過第二次刻蝕工藝完全刻蝕掉光刻膠部分保留區域的壓電薄膜，形成包括感應電極的圖形；

剝離剩余的光刻膠。

9.根據權利要求8所述的觸摸屏制造方法，其特征在于，所述步驟2包括：

沉積第二金屬薄膜，采用普通掩模板通過構圖工藝，形成包括第二信號線的圖形，所述第二信號線為分體間斷結構，分別形成在相鄰的兩個第一信號線之間和感應電極上；

沉積絕緣層，采用普通掩模板通過構圖工藝，形成包括第一過孔、第二過孔和第三過孔的圖形，所述第一過孔和第二過孔分別位于相鄰兩個第一信號線之間的第二信號線的兩端，所述第三過孔位于感應電極上方的第二信號線上；

沉積第三金屬薄膜，采用普通掩模板通過構圖工藝，形成包括連接條的圖形，所述連接條通過第一過孔、第二過孔和第三過孔使分體間斷結構的第二信號線連接成整體結構。

10.根據權利要求9所述的觸摸屏制造方法，其特征在于，在形成第二信號線的同時，第一信號線上方還形成有工藝線圖形，所述工藝線為水平設置的分體間斷結構，位于第一信號線上，且端部搭設在感應電極上。

11.根據權利要求7所述的觸摸屏制造方法，其特征在于，所述步驟1包括：

在基板上沉積第一金屬薄膜，采用普通掩模板通過構圖工藝，形成包括第一信號線的圖形；

沉積壓電薄膜，采用普通掩模板通過構圖工藝，形成包括感應電極的圖形，所述感應電極位于第一信號線上，其寬度大于其下方的第一信號線的寬度。