[發(fā)明專利]基于量子級聯(lián)激光器的紅外光腔衰蕩光譜痕量氣體檢測方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910092865.4 | 申請日: | 2009-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN101644673A | 公開(公告)日: | 2010-02-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 韓艷玲;李斌成;曲折超 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | G01N21/39 | 分類號: | G01N21/39 |
| 代理公司: | 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 成金玉;盧 紀(jì) |
| 地址: | 610209*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 量子 級聯(lián) 激光器 紅外光 腔衰蕩 光譜 痕量 氣體 檢測 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種痕量氣體的檢測方法,特別涉及一種基于量子級聯(lián)激光器的紅外光腔衰蕩光譜痕量氣體檢測方法。
背景技術(shù)
痕量氣體分析檢測技術(shù)在有毒氣體和爆炸物氣體檢測、大氣監(jiān)測、工業(yè)廢氣和汽車尾氣污染測量、農(nóng)業(yè)環(huán)境氣體監(jiān)測、疾病診斷以及各種工業(yè)制造過程監(jiān)控等諸多領(lǐng)域存在廣泛的應(yīng)用需求。氣體檢測方法主要分傳統(tǒng)的化學(xué)檢測法和新型的光譜檢測法兩大類。紅外光腔衰蕩光譜技術(shù)是一種基于光腔衰蕩技術(shù)(CRDS)的紅外吸收光譜技術(shù),光腔衰蕩技術(shù)測量的是光在衰蕩腔中的衰蕩時間,該時間僅與衰蕩腔反射鏡的反射率和腔內(nèi)介質(zhì)的吸收有關(guān),通過測量衰蕩時間可實現(xiàn)對腔內(nèi)介質(zhì)吸收的間接測量。由于衰蕩時間與入射光強的漂移無關(guān),因此測量結(jié)果不受脈沖激光強度漲落的影響,與傳統(tǒng)的化學(xué)檢測法相比,具有靈敏度高、信噪比高、抗干擾能力強等優(yōu)點。通常大多數(shù)需要監(jiān)測的氣體在3-14μm的紅外波動都具有大量的特征吸收譜線和吸收譜區(qū),利用紅外光腔衰蕩光譜技術(shù),選取合適的激光器和檢測譜線可實現(xiàn)多種痕量氣體同步分析檢測。
目前,安徽光學(xué)與精密機械研究所、大連理工大學(xué)和華東師范大學(xué)正在開展光腔衰蕩光譜技術(shù)測量痕量氣體(CO2、C2H6、I2、O2等)組分的研究,使用的光源分別為近紅外的半導(dǎo)體激光器、光參量振蕩器(Optical?Parametric?Oscillator,簡稱OPO)和染料激光器。中遠(yuǎn)紅外波段使用的脈沖OPO光源體積龐大,價格昂貴,維護困難,不利于儀器化。隨著量子級聯(lián)激光技術(shù)的發(fā)展和中遠(yuǎn)紅外量子級聯(lián)激光器的市場化,由量子級聯(lián)激光器為光源代替OPO成為可能,本發(fā)明提出一種基于紅外光腔衰蕩光譜技術(shù)并利用量子級聯(lián)激光器的痕量氣體分析檢測方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是:針對現(xiàn)有技術(shù)不足,提供一種基于量子級聯(lián)激光器的紅外光腔衰蕩光譜痕量氣體分析檢測方法,具有測量靈敏度高,抗干擾能力強,易于實現(xiàn)多種痕量氣體的快速、準(zhǔn)確的在線分析檢測。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:基于量子級聯(lián)激光器紅外光腔衰蕩光譜痕量氣體檢測方法,包括以下步驟:
(1)基于光腔衰蕩技術(shù),由兩塊相同的、凹面鍍高反膜的平凹高反鏡凹面相對構(gòu)成衰蕩腔;衰蕩腔鏡安裝于樣品池兩端,衰蕩腔與樣品池組成密封的測量腔;以可調(diào)諧量子級聯(lián)激光器為光源,針對所測氣體的譜線特征選取測量波段及波長掃描步長;
(2)在腔內(nèi)無吸收條件下,按選定測量波段及波長掃描步長調(diào)諧激光器輸出波長,在各波長λ下,探測光腔輸出的衰蕩信號,按照單指數(shù)衰減函數(shù)擬合計算空腔衰蕩時間τempty(λ);然后向腔內(nèi)充入痕量待測氣體,重復(fù)上述過程測得各波長λ下的衰蕩時間τ(λ);依關(guān)系式
(3)將所得吸收光譜圖與已知的HITRAN數(shù)據(jù)庫(HITRAN,High-resolutionTransmission?Database,通常直譯為HITRAN數(shù)據(jù)庫,為一個氣體物質(zhì)高分辨光譜的大型國際通用數(shù)據(jù)庫)中相應(yīng)氣體的譜線特征對比,確定所測氣體是否含有預(yù)期氣體成分;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910092865.4/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





