[發明專利]液晶面板母板及其制作方法

無效

• 申請號: 200910092365.0
• 申請日: 2009-09-07
• 公開（公告）號: CN102012576A
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發明（設計）人: 黃東升;趙凱
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/133
• 分類號: G02F1/133;G02F1/1362;G02F1/1368
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種液晶面板母板，包括彩膜基板和與其相對的陣列基板，以及形成在所述彩膜基板和陣列基板之間的主封框膠、輔助封框膠、主隔墊物和輔助隔墊物；在所述主封框膠包圍的區域填充有液晶；其特征在于，所述輔助隔墊物和主隔墊物的高度不同，且所述輔助隔墊物和主隔墊物分別與彩膜基板和陣列基板上的結構層抵頂后所維持的兩基板之間的距離相等。

2.根據權利要求1所述的液晶面板母板，其特征在于，所述輔助隔墊物為柱狀隔墊物。

3.根據權利要求2所述的液晶面板母板，其特征在于，所述輔助隔墊物的底部面積大于所述主隔墊物的底部面積。

4.根據權利要求2所述的液晶面板母板，其特征在于，所述輔助隔墊物的分布密度大于所述主隔墊物的分布密度。

5.根據權利要求1所述的液晶面板母板，其特征在于，所述輔助隔墊物為長條墻形隔墊物。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的液晶面板母板，其特征在于，所述輔助隔墊物形成在所述彩膜基板上或者所述陣列基板上。

7.一種制作液晶面板母板的方法，其特征在于，包括：

在基板上沉積隔墊物材料，然后進行掩膜曝光工藝，其中對輔助隔墊物區域不曝光、對主隔墊物區域半曝光、以及對其他區域全曝光，從而在基板上形成具有高度差的輔助隔墊物和主隔墊物。

8.根據權利要求7所述的制作液晶面板母板的方法，其特征在于，所述基板為彩膜基板或者陣列基板。

9.根據權利要求7所述的制作液晶面板母板的方法，其特征在于，所述對主隔墊物區域半曝光采用的是狹縫曝光或者半透膜曝光。

10.根據權利要求7所述的制作液晶面板母板的方法，其特征在于，所述在基板上沉積的隔墊物材料的厚度為6～7μm。

11.根據權利要求10所述的制作液晶面板母板的方法，其特征在于，在進行掩膜曝光工藝后，將所述主隔墊物的高度控制在3～4μm之間。