[發(fā)明專利]一種精密拋光布及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910092219.8
• 申請(qǐng)日: 2009-09-07
• 公開（公告）號(hào): CN101648368A
• 公開（公告）日: 2010-02-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張?jiān)雒?/a>;葛丙恒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京國瑞升科技有限公司
• 主分類號(hào): B24D11/00
• 分類號(hào): B24D11/00;B24D11/02;B24D18/00;C09K3/14;B24D3/28
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 吳小燦

1.一種精密拋光布，包括布基，其特征在于，所述布基采用編織布料，所述布基表面具有 由經(jīng)向紗線和緯向紗線編織形成的凹坑，在所述布基表面上具有通過涂布帶有研磨微粉 的研磨漿料所形成的研磨涂層，所述研磨涂層具有容屑坑，所述容屑坑與所述布基表面 的凹坑相對(duì)應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精密拋光布，其特征在于，所述涂布采用刮涂或輥涂或噴涂；所 述研磨漿料是包括所述研磨微粉與膠粘劑、溶劑和固化劑的混合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精密拋光布，其特征在于，所述研磨微粉為金剛石或碳化硅或氧 化鋁或氧化鈰或二氧化硅，粒徑為0.1-30微米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精密拋光布，其特征在于，所述布基的纖維直徑為3～20微米。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精密拋光布，其特征在于，所述布基的紗線密度為23～49根/厘 米²。

6.一種如權(quán)利要求1至5之一所述的精密拋光布的制備方法，其特征在于包括以下步驟： 將研磨微粉與膠粘劑、溶劑混合均勻，再加入固化劑，制得研磨漿料；將研磨漿料涂布 于布基表面；再經(jīng)固化處理而形成研磨涂層，所述研磨涂層具有容屑坑，所述容屑坑與 所述布基表面的凹坑相對(duì)應(yīng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的精密拋光布的制備方法，其特征在于所述研磨微粉的中值粒徑為 0.1～20微米。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的精密拋光布的制備方法，其特征在于所述膠粘劑指的是：酚醛樹 脂、聚氨酯樹脂、醇酸樹脂、環(huán)氧樹脂、丙烯酸酯樹脂、聚乙烯醇、羧甲基纖維素、尿 素-甲醛樹脂、聚醚樹脂、聚酯樹脂中的一種或幾種的混合物；所述的溶劑指的是：乙 酸乙酯、乙醚、石油醚、甲苯、甲醇、乙醇、異丙醇、丁酮、環(huán)己酮、氯仿、四氫呋喃 中的一種或幾種的混合物或者是水。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的精密拋光布的制備方法，其特征在于所述固化劑指的是聚異氰酸 酯、聚酰胺、酸酐、多元胺中的一種或幾種的混合物。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的精密拋光布的制備方法，其特征在于所述的固化處理是指將拋 光布經(jīng)涂布機(jī)的干燥道干燥后，在40～150℃下放置5～60小時(shí)。