[發(fā)明專利]一種改善高鎢含量Ni-W合金基帶立方織構(gòu)的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910091893.4 | 申請(qǐng)日: | 2009-08-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101635187A | 公開(公告)日: | 2010-01-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高忙忙;索紅莉;趙躍;高培闊;祝永華;王建宏;劉敏;馬麟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01B13/00 | 分類號(hào): | H01B13/00;H01B12/06;C22C19/03;C22C1/04;C22F1/10 |
| 代理公司: | 北京思海天達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 沈 波 |
| 地址: | 100124*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 改善 含量 ni 合金 基帶 立方 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于高溫超導(dǎo)涂層導(dǎo)體織構(gòu)金屬基帶領(lǐng)域,具體涉及立方織構(gòu)鎳鎢(Ni-W)金屬基帶的制備方法。
背景技術(shù)
以YBCO為代表的第二代高溫涂層導(dǎo)體自發(fā)現(xiàn)以來受到了人們廣泛的關(guān)注。到目前為止,通過壓延輔助雙軸織構(gòu)技術(shù)可以低成本的獲得106A/cm2以上的臨界電流密度值,使其大規(guī)模應(yīng)用迫在眉睫。壓延輔助雙軸織構(gòu)技術(shù)的關(guān)鍵之一就是制備織構(gòu)的金屬基帶,鎳及鎳合金基帶由于比較容易獲得強(qiáng)的立方織構(gòu)是人們研究比較多的基帶材料。如今,Ni-5at.%W(Ni5W)織構(gòu)金屬基帶已經(jīng)可以商業(yè)化生產(chǎn),但在YBCO超導(dǎo)線帶材的實(shí)際應(yīng)用溫度為液氮溫區(qū)(77K左右),而由于Ni5W合金的居里轉(zhuǎn)變溫度較高,使其在輸送交變電流時(shí)產(chǎn)生交流損耗,而且為了進(jìn)一步提高涂層導(dǎo)體的工程電流密度,對(duì)其機(jī)械性能提出了更高的要求。研究表明,增加W含量能夠改善NiW合金的磁性能,當(dāng)W含量達(dá)到9.3%時(shí),其居里轉(zhuǎn)變溫度降到77K以下,同時(shí)其機(jī)械性能得到了極大地提升。但由于W含量的增加,NiW合金的層錯(cuò)能大大降低,當(dāng)W含量大于5%后,通過傳統(tǒng)的軋制以及再結(jié)晶熱處理手段很難獲得較高的立方織構(gòu)含量。因此,如何獲得銳利立方織構(gòu)的高W含量NiW合金基帶是面臨的一個(gè)新挑戰(zhàn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種制備銳利立方織構(gòu)的高W含量NiW合金基帶的方法。
本發(fā)明通過在NiW合金中添加微量的Ag元素,通過Ag的微合金化抑制NiW合金中S元素對(duì)立方織構(gòu)的破壞,從而改善高W含量NiW合金基帶的立方織構(gòu)含量,具體包括以下步驟:
1)在保護(hù)氣氛中,將純度為99.99%的Ag粉高能球磨,球磨方式為濕磨,每球磨15min后停5min,有效球磨時(shí)間為3~6h,獲得粒度小于1um的Ag粉末(粒度較小的Ag粉末能有效地在晶界處抑制S元素對(duì)立方織構(gòu)形成的有害影響);
2)將Ni粉和W粉按照W原子占Ni和W原子總數(shù)的7~9.3%進(jìn)行混合后,加入步驟1)中球磨后的Ag粉末,并于保護(hù)氣氛中球磨時(shí)間1~4h,得到Ni-W-Ag混合粉末;Ni-W-Ag混合粉末中Ag粉末的含量為100~1000ppm;
3)在N2氣保護(hù)條件下,將Ni-W-Ag混合粉末熱等靜壓燒結(jié)制備初始坯錠,燒結(jié)溫度為1000~1400℃,燒結(jié)時(shí)間為1~4h,壓強(qiáng)為50~200MPa;
4)將初始坯錠進(jìn)行冷軋,道次變形量3~6%,總變形量大于95%,獲得冷軋帶材;
5)在保護(hù)氣氛中將冷軋帶材進(jìn)行兩步退火:首先于600~800℃保溫30~60min(即再結(jié)晶形核退火,使基帶獲得具有擇優(yōu)長大優(yōu)勢(shì)的立方晶核)后,升溫至1100~1400℃保溫0.5~3h(即立方晶粒長大退火),得到高鎢含量Ni-W合金基帶。
其中,所述的保護(hù)氣氛為Ar與H2的混合氣體,混合氣體中,H2的體積百分比為4%。
本發(fā)明的技術(shù)核心是在步驟1)中獲得納米級(jí)的高純Ag粉末,經(jīng)步驟2)使其與NiW粉末充分混合,經(jīng)3)中熱等靜壓燒結(jié)制備獲得Ag均勻分布的初始坯錠,使其在后續(xù)的再結(jié)晶退火中能在基帶整體范圍內(nèi)抑制有害元素S對(duì)立方織構(gòu)形成的不利影響。
本發(fā)明技術(shù)的關(guān)鍵是由于在W含量較高的NiW合金中不可避免的存在有害元素S,在再結(jié)晶過程中S元素在晶界處釘扎抑制了位錯(cuò)的滑移從而形成大量的孿晶損害立方晶粒的形成,通過添加微量Ag元素,使Ag在晶界處與S元素競(jìng)爭(zhēng)消除S元素在晶界的釘扎影響,從而提高位錯(cuò)的滑移能力減少孿晶的形成,能夠有效的提高立方織構(gòu)的含量。
另外,由于Ag元素的加入,使再結(jié)晶微觀組織呈現(xiàn)“長條狀”有利于后續(xù)超導(dǎo)層電流的傳輸從而提高涂層導(dǎo)體的臨界電流密度。
本發(fā)明具有以下有益效果:
與現(xiàn)有的制備高W含量(7~9.3at.%)Ni-W合金基帶的技術(shù)相比,本發(fā)明采用在初始合金粉末中加入納米級(jí)的高純Ag粉,使其在后續(xù)的再結(jié)晶退火過程中抑制S元素對(duì)立方織構(gòu)的有害影響,通過此方法制備的Ni-W合金基帶具有銳利的立方織構(gòu)和良好的表面質(zhì)量,可以直接外延生長過渡層和超導(dǎo)層。同時(shí)由于此種Ni-W合金基帶再鍍制YBCO超導(dǎo)膜厚晶粒具有“長條狀”分布,有利于電流的傳輸,從而整體提高YBCO涂層導(dǎo)體的輸流能力。
附圖說明
圖1、實(shí)施例1中制備的基帶的(111)及(100)面極圖。
圖2、實(shí)施例2中制備的基帶的(111)及(100)面極圖。
圖3、實(shí)施例3中制備的基帶的(111)及(100)面極圖。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京工業(yè)大學(xué),未經(jīng)北京工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910091893.4/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種跌落式熔斷器更換熔管專用操作工具
- 下一篇:野外通信用電纜





