[發明專利]具有中空結構及貼合結構的顱頜面植入體及制造方法

無效

• 申請號: 200910091847.4
• 申請日: 2009-08-27
• 公開（公告）號: CN101637415A
• 公開（公告）日: 2010-02-03
• 發明（設計）人: 李曉峰;姜謙;劉燦;武星
• 申請（專利權）人: 北京吉馬飛科技發展有限公司
• 主分類號: A61F2/28
• 分類號: A61F2/28;A61L27/04;A61L27/06;A61L27/56
• 代理公司: 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 吳小燦

技術領域

本發明涉及臨床醫學顱頜面修復手術中使用的植入結構體物件，特別是一種具有中空結構及貼合結構的顱頜面植入體及制造方法。所述顱頜面植入體是顱頜面修復體或顱頜面填充體。所述顱頜面修復體能夠同時滿足骨缺損修復和形態修復的需要，主要針對創傷和腫瘤患者。所述顱頜面填充體能夠單純滿足形態修復需要，主要針對純整形美容患者。

背景技術

臨床醫學顱頜面骨修復，最常用的修復手段就是使用各種型號的微型接骨板及鈦網。對于顱骨缺損，使用常規鈦網修復一般也可滿足臨床基本要求，只是形態及強度上比較差；對于簡單的頜面部骨折，使用微型接骨板或重建鈦板等修復可滿足臨床基本需求；對于一些先天或后天造成的顱頜面部骨發育不良或骨塌陷等嚴重影響面部形態的案例以及復雜的大面積頜面部骨缺損或粉碎性骨折，上述兩種方法則完全達不到臨床所需。因此具有這些特殊修復功能的修復體為目前臨床極其需要的。本發明中涉及的顱頜面部修復體及填充體即可滿足上述第三種案例的需求，實現顱頜面骨的修復或整形。

發明內容

本發明針對現有技術中存在的缺陷或不足，提供一種具有中空結構及貼合結構的顱頜面植入體及制造方法。所述顱頜面植入體是顱頜面修復體或顱頜面填充體。所述顱頜面修復體能夠同時滿足骨缺損修復和形態修復的需要，主要針對創傷和腫瘤患者。所述顱頜面填充體能夠單純滿足形態修復需要，主要針對純整形美容患者。所述顱頜面植入體能夠適用先天或后天造成的顱頜面部骨發育不良或骨塌陷等嚴重影響面部形態的情形以及復雜的大面積頜面部骨缺損或粉碎性骨折等情形。

本發明的技術方案如下：

具有中空結構及貼合結構的顱頜面植入體，其特征在于，包括植入體本體，所述植入體本體的外側是形態修復面，所述植入體本體的內側分布有中空減重結構槽，槽與槽之間的槽梗表面是骨面貼合面；所述植入體本體分布有沉孔陣列結構。

所述植入體本體分布有通孔陣列結構。

所述沉孔陣列結構中的沉孔直徑范圍為1.0mm～5.0mm，所述通孔陣列結構中的通孔直徑范圍為1.0mm～5.0mm。

所述中空減重結構槽的槽寬為2～15mm，槽深為1～20mm，槽梗寬為1～3mm。

所述植入體本體采用永久性植入顱頜面骨修復的金屬或非金屬材料。

所述植入體本體采用滿足13810標準的外科植入物用純鈦或鈦合金材料，或者采用滿足ISO或ASTM標準的六鋁七鈮鈦合金材料。

所述顱頜面植入體是顱頜面修復體或顱頜面填充體。

所述具有中空結構及貼合結構的顱頜面植入體的制造方法，其特征在于包括以下步驟：

A.采集患者包括顱頜面區域的CT或MRI圖像，獲取DICOM格式的圖像數據；

B.利用所述DICOM格式的圖像數據結合三維重建軟件進行三維重建，然后在重建圖像的基礎上進行顱頜面植入體的設計；

C.所述顱頜面植入體的設計要求內表面要和所重疊的骨面貼合，外表面要符合修復所需的形態；

D.根據所述顱頜面植入體的設計完成的數據轉換為可加工數據，然后采用數控中心或數控銑床進行數字化加工，加工出顱頜面植入體的雛形；

E.對顱頜面植入體進行后期加工處理，其中包括打孔，打磨工序，以及中空減重結構槽的加工。

醫學中的CT全稱：computed?tomography，CT是一種功能齊全的病情探測儀器，它是電子計算機X射線斷層掃描技術簡稱。

MRI是Magnetic?Resnane?Iamging的簡稱，中文為磁共振成像。cad-ComputerAided?Design的縮寫，即計算機輔助設計。

DICOM是Digital?Imaging?and?Communications?in?Medicine的英文縮寫，即醫學數字成像和通信標準。在DICOM標準中詳細定義了影像及其相關信息的組成格式和交換方法，利用這個標準，人們可以在影像設備上建立一個接口來完成影像數據的輸入/輸出工作。

本發明的技術效果如下：

本發明的具有中空結構及貼合結構的顱頜面植入體，能夠適用先天或后天造成的顱頜面部骨發育不良或骨塌陷等嚴重影響面部形態的情形以及復雜的大面積頜面部骨缺損或粉碎性骨折等情形，從而滿足臨床醫學顱頜面修復手術的需求。

附圖說明

圖1是本發明具有中空結構及貼合結構的顱頜面植入體的結構示意圖。

圖2是本發明具有中空結構及貼合結構的顱頜面植入體的另一結構示意圖。

圖3是本發明具有中空結構及貼合結構的顱頜面植入體的使用狀態圖。