[發明專利]一種MOEMS陀螺諧振腔及調節諧振腔的微鏡空間狀態的方法

有效

• 申請號: 200910091138.6
• 申請日: 2009-08-10
• 公開（公告）號: CN101625242A
• 公開（公告）日: 2010-01-13
• 發明（設計）人: 劉惠蘭;王勇;于懷勇;馮麗爽;周震
• 申請（專利權）人: 北京航空航天大學
• 主分類號: G01C19/66
• 分類號: G01C19/66;G01C25/00;B81B7/02
• 代理公司: 北京凱特來知識產權代理有限公司
• 代理人: 鄭立明

1.一種MOEMS陀螺諧振腔，其特征在于，包括：

諧振腔基板，所述諧振腔基板的中間區域固定設置，邊緣區域的上下兩端分別設置有微鏡和壓電陶瓷片，用于使設置有壓電陶瓷片的邊緣區域根據壓電陶瓷片產生的位移而產生形變；

壓電陶瓷片，設置在諧振腔基板的下端，用于根據施加的電壓產生位移，使諧振腔基板產生形變。

2.根據權利要求1所述的諧振腔，其特征在于，所述微鏡有四個，分別設置在以諧振腔基板的中間區域為中心的正方形的四個角上。

3.根據權利要求2所述的諧振腔，其特征在于，所述壓電陶瓷片有三組，每組有兩個，每兩個壓電陶瓷片分別并列設置在諧振腔基板的下端，并且與微鏡設置在同一條與水平面垂直的軸線上。

4.根據權利要求3所述的諧振腔，其特征在于，所述的三組壓電陶瓷片分別對應三個微鏡，并且在所述的三個微鏡中，第一個微鏡為平面反射鏡，第二個微鏡為反射鏡且鏡面為凹面，第三個微鏡為平面反射鏡。

5.根據權利要求4所述的諧振腔，其特征在于第四微鏡設置在諧振腔的入射端，并且第四微鏡為具有半透半反特性的透射鏡。

6.根據權利要求1至5任意一項所述的諧振腔，其特征在于，該諧振腔還包括：

一個或多個抗震壓電陶瓷片，分別設置在諧振腔基板下端的固定區域與設置有壓電陶瓷片的邊緣區域之間，用于提高所述MOEMS陀螺諧振腔的抗震效果。

7.一種調節權利要求1所述的MOEMS陀螺諧振腔的微鏡空間狀態的方法，其特征在于，包括：

對壓電陶瓷片施加電壓，使壓電陶瓷片產生位移，并使設置有壓電陶瓷片的諧振腔基板的邊緣區域產生形變；

根據檢測到的反射光斑和循環光斑的位置調整加在壓電陶瓷片上的電壓，使諧振腔基板的設置有壓電陶瓷片的邊緣區域產生與水平面呈一定角度的形變，直至反射光斑與循環光斑重合。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述根據檢測到的反射光斑和循環光斑調整加在壓電陶瓷片上的電壓包括：

同步調整施加在每組的兩個壓電陶瓷片上的電壓，使諧振腔基板的設置有壓電陶瓷片的邊緣區域產生與水平面呈一定角度的形變，以調整與這一組壓電陶瓷片設置在同一條與水平面垂直的軸線上的微鏡的俯仰角；

分別調整施加在每組的兩個壓電陶瓷片上的電壓，使諧振腔基板的設置有壓電陶瓷片的邊緣區域產生與微鏡面法矢量呈一定轉動角度的形變，以調整與這一組壓電陶瓷片設置在同一條與水平面垂直的軸線上的微鏡的偏轉角。

9.根據權利要求7至8任意一項所述的方法，其特征在于，該方法還包括：

將一個或多個抗震壓電陶瓷片設置在諧振腔基板下端的固定區域與設置有壓電陶瓷片的邊緣區域之間，以提高所述MOEMS陀螺諧振腔的抗震效果。