[發(fā)明專利]一種離子注入機(jī)雙法拉第杯測(cè)量比值校正系統(tǒng)及校正方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910090665.5 | 申請(qǐng)日: | 2009-09-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102005362A | 公開(公告)日: | 2011-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱小莎;伍三忠;龍會(huì)躍;鄧穎輝;李濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京中科信電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/00 | 分類號(hào): | H01L21/00;H01L21/66;C23C14/48;H01J37/317 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 101111 北京市通州中關(guān)村科技園通州園光*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 離子 注入 法拉第 測(cè)量 比值 校正 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種對(duì)雙法拉第杯測(cè)量比值進(jìn)行校正的裝置,包括移動(dòng)法拉第杯、劑量采樣法拉第杯、閉環(huán)控制法拉第杯、劑量檢測(cè)器、數(shù)控掃描發(fā)生器、電機(jī)運(yùn)動(dòng)控制器和控制計(jì)算機(jī),其特征在于:
所述的移動(dòng)法拉第杯輸出劑量檢測(cè)器連接;所述的劑量采樣法拉第杯輸出與劑量檢測(cè)器連接;所述的閉環(huán)控制法拉第杯輸出與劑量檢測(cè)器連接;所述的數(shù)控掃描發(fā)生器輸出與掃描偏轉(zhuǎn)器連接;所述的電機(jī)運(yùn)動(dòng)控制器輸出與移動(dòng)法拉第杯驅(qū)動(dòng)電機(jī)連接;所述的移動(dòng)法拉第杯、劑量采樣法拉第杯、閉環(huán)控制法拉第杯、劑量檢測(cè)器、數(shù)控掃描發(fā)生器、電機(jī)運(yùn)動(dòng)控制器與控制計(jì)算機(jī)連接,由計(jì)算機(jī)協(xié)調(diào)動(dòng)作并進(jìn)行工作。
2.如權(quán)利要求1所述的一種對(duì)雙法拉第杯測(cè)量比值進(jìn)行校正的裝置,其特征在于:所述的移動(dòng)法拉第杯與數(shù)控裝置連接,可以受控移動(dòng);所述的閉環(huán)控制法拉第杯位置固定,對(duì)離子束劑量進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。
3.一種實(shí)施如權(quán)利要求1所述的一種對(duì)雙法拉第杯測(cè)量比值進(jìn)行校正的系統(tǒng)裝置的雙法拉第杯之間劑量測(cè)量比值校準(zhǔn)的方法,包括移動(dòng)法拉第杯移動(dòng)到硅晶片的中心位置,啟動(dòng)數(shù)控掃描發(fā)生器均勻掃描,對(duì)掃描離子束進(jìn)行劑量積分采樣,算出平均劑量值再用閉環(huán)控制法拉第杯對(duì)掃描離子束進(jìn)行劑量采樣,算出第二個(gè)平均劑量值然后計(jì)算出劑量比值等過程,其特征在于:
所述的比例系數(shù)校正步驟如下:
1)控制計(jì)算機(jī)將雙向數(shù)字掃描發(fā)生器設(shè)置為“點(diǎn)模式”,控制離子束不掃描,此時(shí)離子束應(yīng)射入劑量采樣法拉第杯;
2)控制計(jì)算機(jī)將劑量檢測(cè)器設(shè)置為“束流檢測(cè)”模式,選擇劑量采樣法拉第杯對(duì)離子束流進(jìn)行采樣,確認(rèn)離子束流已達(dá)到設(shè)定的束流值;
3)控制計(jì)算機(jī)再選擇移動(dòng)法拉第杯對(duì)離子束流進(jìn)行檢測(cè),將移動(dòng)法拉第杯移到硅晶片的中心位置,劑量檢測(cè)器選定它來監(jiān)視離子束流;
4)計(jì)算機(jī)給數(shù)字掃描發(fā)生器裝載均勻性優(yōu)化過的W掃描波形,且啟動(dòng)離子束掃描;
5)移動(dòng)法拉第杯采樣1040次離子束水平掃描,劑量檢測(cè)器設(shè)置為“積分束流模式”,采樣得到存儲(chǔ)積分器的峰值和平均值。要保證所測(cè)量到的劑量值小于所選量程滿刻度的95%,防止超量程引起的測(cè)量失真;
6)控制計(jì)算機(jī)命令劑量檢測(cè)器停止采樣離子束流,并將移動(dòng)法拉第杯移到它的起始位置;
7)控制計(jì)算機(jī)對(duì)上述采樣得到的離子劑量數(shù)據(jù)進(jìn)行求平均值運(yùn)算,以得到硅晶片實(shí)際接收到的典型的劑量值,計(jì)算公式為:
8)控制計(jì)算機(jī)命令劑量檢測(cè)器選定閉環(huán)法拉第杯來監(jiān)測(cè)離子束流;
9)閉環(huán)法拉第杯采樣1040次離子束水平掃描,劑量檢測(cè)器仍保持“積分束流模式”,采樣得到存儲(chǔ)積分器的峰值和平均值,要保證所測(cè)量到的劑量值小于所選量程滿刻度的95%,防止超量程引起的測(cè)量失真;
10)控制計(jì)算機(jī)對(duì)采樣得到的離子劑量數(shù)據(jù)進(jìn)行求平均值運(yùn)算,以得到閉環(huán)控制法拉第杯可感知到的典型的劑量值,計(jì)算公式為:
11)控制計(jì)算機(jī)計(jì)算出“硅片中心劑量”與“硅片邊緣劑量”的比例值,且將該比值存儲(chǔ)。比值計(jì)算公式為:
12)在實(shí)際的離子注入過程中,根據(jù)閉環(huán)控制法拉第杯實(shí)時(shí)采集的劑量讀值,再應(yīng)用該比值計(jì)算出硅晶片接收到的標(biāo)準(zhǔn)劑量,計(jì)算公式為:ds=p×de。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京中科信電子裝備有限公司,未經(jīng)北京中科信電子裝備有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910090665.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備





