[發明專利]離子源腔體送氣時的真空沖擊保護方法無效
| 申請號： | 200910090663.6 | 申請日： | 2009-09-03 |
| 公開（公告）號： | CN102002676A | 公開（公告）日： | 2011-04-06 |
| 發明（設計）人： | 羅宏洋;孫勇;王迪平;謝均宇;周文龍 | 申請（專利權）人： | 北京中科信電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/48 | 分類號： | C23C14/48;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 101111 北京市中關村科技園通州園光機*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 離子源 送氣 真空 沖擊 保護 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種離子注入機用的向離子源真空腔體送入工藝氣體時的真空沖擊防護方法，使用了離子源真空高規、送氣管路壓力傳感器、送氣隔離閥、支路隔離閥、質量流量計等控制部件，方法如下：
(1)真空沖擊防護方法開始；
(2)選擇工藝菜單指定的工藝氣體對應的SDS低壓氣瓶，設置氣瓶對應的質量流量計(以下簡稱MFG)為零，打開氣瓶對應的支路隔離閥；
(3)打開離子源送氣隔離閥(以下簡稱Vs)一段時間；
(4)如果送氣管路壓力傳感器(以下簡稱Sp)的檢測值小于設定值(以對高真空形成沖擊破壞為要求)則防護方法結束否則繼續；
(5)關閉Vs一段時間，直到離子源恢復較高的真空值；
(6)重復多次，直到Sp檢測值滿足要求；
(7)將MFG設定為工藝菜單指定值；
(8)真空沖擊防護方法結束。
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