[發明專利]一種拋光裝置

有效

• 申請號: 200910090327.1
• 申請日: 2009-08-05
• 公開（公告）號: CN101712133A
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發明（設計）人: 陳耀龍
• 申請（專利權）人: 陳耀龍
• 主分類號: B24B13/00
• 分類號: B24B13/00;B24B13/01
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 逯長明;王寶筠

技術領域

本發明涉及機械制造領域，具體是一種拋光裝置，其特別適于在光學元 件冷加工和模具制造中使用。

背景技術

光學表面拋光是一種去除光學元件表面損傷、同時提高表面光潔度的加 工過程，該加工過程主要是利用拋光工具與拋光液，使得在拋光液的化學作 用和拋光工具的物理作用下去除經過銑磨之后的光學元件表面上的損傷，以 達到提高光學元件表面光潔度的效果。

現有技術中，通過拋光裝置連接合適的拋光工具，利用拋光工具對光學 元件表面進行拋光處理，常用的拋光裝置主要有兩種：轉輪式拋光裝置和端 面式拋光裝置。上述兩種拋光裝置在使用過程中，待加工光學元件與拋光裝 置的相對運動比較單一。其中，轉輪式拋光裝置工作時靠拋光輪的轉動實現 同待加工光學元件之間的相對運動；端面式拋光裝置有偏心式和同心式之分， 工作時靠拋光工具的轉動產生同待加工光學元件之間的相對運動。

通過對現有技術的研究，發明人發現：在轉輪式拋光裝置的使用過程中， 拋光輪的材料去除函數呈不對稱形式，如圖1中所示。不對稱的材料去除函 數將導致拋光后的光學元件表面遺留明顯的有規律的紋理，不利于提高表面 光潔度。在端面式拋光裝置的使用過程中，當拋光工具偏心旋轉時，由于離 心力的限制，拋光工具的轉速不能太高，因此，限制了拋光時的材料去除率； 當拋光工具同心旋轉時，拋光工具的轉速雖可以提高，但是，拋光工具中心 的材料去除率為零。并且，在端面式拋光裝置的使用過程中，雖然材料去除 函數都是對稱的，但是在過拋光工具中心的截面上，材料去除函數是不均勻 的，如圖2及圖3所示，同樣不利于提高光學元件的表面光潔度。

由此可見，現有技術中的拋光裝置，由于拋光光潔度不高，容易產生次 品，導致生產效率較低，生產成本較高。

發明內容

本發明解決的問題是提供一種拋光裝置，以便提高光學元件表面 拋光的光潔度，進而降低次品生產率，提高生產效率，降低生產成本。

為解決上述問題，本發明采用以下技術方案：

一種拋光裝置，包括：拋光軸、驅動裝置、行星運動機構及拋光 工具連接裝置；

所述驅動裝置用于驅動所述拋光軸進行轉動；

所述拋光工具連接裝置用于連接拋光工具；

所述行星運動機構用于連接所述拋光工具連接裝置，當所述拋光 軸轉動時，所述行星運動機構帶動所述拋光工具繞所述拋光軸軸線公 轉，且帶動所述拋光工具自轉；

所述拋光工具具體為端面拋光盤，所述端面拋光盤的轉軸限定在 一個圓弧槽內移動，所述圓弧槽內其中一點經過所述拋光軸的中心。

優選的，所述拋光裝置進一步包括：壓力調節裝置，用于穩定拋 光壓力。

優選的，所述壓力調節裝置包括：

連接所述拋光軸且可選擇性地沿所述拋光軸軸向移動的拋光軸 外套、連接所述拋光軸外套的活塞及固定在所述拋光軸的外殼上的氣 缸，所述活塞置于所述氣缸內部，所述活塞的上下兩側單獨連接壓力 介質，用于調節作用在活塞上的壓力。

優選的，所述行星運動機構包括：

連接所述拋光軸外套的太陽輪；

與所述太陽輪嚙合且連接所述拋光軸的行星輪；

連接所述行星輪與拋光工具連接裝置的傳動裝置，用于帶動所述 拋光工具繞所述拋光軸軸線公轉。

優選的，所述拋光裝置還包括：繞所述拋光軸軸線旋轉的防護罩，

用于 封閉所述太陽輪、行星輪及傳動裝置。

優選的，所述拋光軸外套沿所述拋光軸軸向移動通過直線導向系 統實現。

優選的，所述直線導向系統包括：滾動支撐結構或滑動支撐結構 或靜壓支撐結構。

優選的，所述驅動裝置為電機驅動裝置。

優選的，所述電機驅動裝置包括：設置在連接所述活塞的活塞桿上的電 機定子和設置在所述拋光軸上的電機轉子。

優選的，所述拋光工具還包括套接在外周的軸承及固定所述軸承的軸承 座，所述軸承用于減小所述拋光工具轉動時的摩擦力。

優選的，所述軸承座包括中間剖開的對稱式結構或單側支撐的非對稱式 結構。

與現有技術相比，上述技術方案具有以下優點：