[發(fā)明專利]一種實現(xiàn)多值電阻存儲器的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910089595.1 | 申請日: | 2009-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN101964395A | 公開(公告)日: | 2011-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉明;張森;劉琦;龍世兵 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號: | H01L45/00 | 分類號: | H01L45/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 周國城 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 實現(xiàn) 電阻 存儲器 方法 | ||
1.一種實現(xiàn)多值電阻存儲器的方法,其特征在于,該方法包括:
制作電極層/電阻轉(zhuǎn)變層/電極層這樣三明治結(jié)構(gòu)的電阻存儲器單元,并在電極層與電阻轉(zhuǎn)變層交界的電極層表面上制作多個突起的導(dǎo)電尖端,該導(dǎo)電尖端的高度不等;
在兩邊電極層加大小不等的電壓,在導(dǎo)電尖端處形成電場,該電場誘導(dǎo)導(dǎo)電細絲在尖端處形成并最終連通兩電極層,實現(xiàn)多值電阻存儲器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實現(xiàn)多值電阻存儲器的方法,其特征在于,所述電極層采用的材料是金屬、低電阻率的高摻雜硅或者TiN。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實現(xiàn)多值電阻存儲器的方法,其特征在于,所述電阻轉(zhuǎn)變層是摻雜或不摻雜的過渡族金屬氧化物,或者是固態(tài)電解質(zhì)材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實現(xiàn)多值電阻存儲器的方法,其特征在于,所述導(dǎo)電尖端采用的材料與電極采用的材料相同或者不同,且具有較好的導(dǎo)電性。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實現(xiàn)多值電阻存儲器的方法,其特征在于,所述電極層表面的導(dǎo)電尖端是在制作電極/電阻轉(zhuǎn)變層/電極這一結(jié)構(gòu)之前或制作的過程中進行制作的。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實現(xiàn)多值電阻存儲器的方法,其特征在于,所述在兩邊電極層加大小不等的電壓,電阻轉(zhuǎn)變層內(nèi)部能夠生成連接兩邊電極層的導(dǎo)電細絲,使整個三明治結(jié)構(gòu)的存儲器變?yōu)榈碗娮瑁辉谶m當?shù)拇箅娏髯饔孟拢瑢?dǎo)電細絲將會斷裂,驅(qū)動存儲器變回為高電阻狀態(tài)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的實現(xiàn)多值電阻存儲器的方法,其特征在于,無論存儲器處于高電阻態(tài)或低電阻態(tài),在較低電壓作用下或是無電壓作用時,電阻都不會改變。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的實現(xiàn)多值電阻存儲器的方法,其特征在于,所述在兩邊電極層加大小不等的電壓,在導(dǎo)電尖端處形成電場,具體包括:
在較小電壓V1作用時,高度最大的導(dǎo)電尖端因為距另一電極最近,其尖端處電場較其它尖端為大,從而最容易在該處形成導(dǎo)電細絲,此時器件變化到電阻R1;
若施加一較大電壓V2,高度稍小一些的尖端處也能夠誘導(dǎo)形成導(dǎo)電細絲,電阻變化到R2,并且R1>R2;
依此類推,制做n個高度不等的導(dǎo)電尖端,n為自然數(shù),則器件將處于n+1個電阻狀態(tài)中,從而實現(xiàn)了多值存儲。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院微電子研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院微電子研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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