[發(fā)明專利]電子束輻照加工的方法和裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910088626.1
• 申請(qǐng)日: 2009-06-30
• 公開（公告）號(hào): CN101937729A
• 公開（公告）日: 2011-01-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉耀紅;唐華平;張化一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 同方威視技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): G21H5/00
• 分類號(hào): G21H5/00;G01B15/00;G01B15/02;G01N23/04
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王新華

1.一種電子束輻照加工的方法，包括：

(a)提供輻射透視檢測裝置；

(b)利用輻射透視檢測裝置進(jìn)行檢測獲得關(guān)于受輻照加工對(duì)象的質(zhì)量厚度(dρ)的信息的檢測步驟；

(c)提供電子束輻照加工裝置；以及

(d)通過控制裝置調(diào)節(jié)電子束輻照加工裝置的電子束的能量(E)，以使電子束的能量(E)與輻照加工對(duì)象的質(zhì)量厚度(dρ)相匹配的調(diào)節(jié)步驟；以及

(e)利用調(diào)節(jié)后的電子束輻照加工裝置執(zhí)行電子束輻照加工的加工步驟。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束輻照加工的方法，其特征在于：

所述檢測步驟(b)還包括利用輻射透視檢測裝置獲得關(guān)于受輻照加工對(duì)象的長度(L)的信息的步驟；

所述調(diào)節(jié)步驟(d)還包括通過控制裝置調(diào)節(jié)電子束輻照加工裝置的電子束的掃描寬度(W)，以使電子束的掃描寬度(W)與輻照加工對(duì)象的長度(L)的相匹配的步驟。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子束輻照加工的方法，其特征在于：

在所述調(diào)節(jié)步驟(d)中，通過調(diào)節(jié)所述電子束的能量(E)，以使所述電子束的能量(E)與輻照加工對(duì)象的質(zhì)量厚度(dρ)滿足一定的函數(shù)關(guān)系(f)，即E＝f(dρ)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子束輻照加工的方法，其特征在于：

所述電子束輻照加工的電子束的能量(E)具有最小值Emin和最大值Emax，如果所述調(diào)節(jié)步驟(d)中調(diào)節(jié)后的電子束的能量(E)不滿足Emin≤E≤Emax，則進(jìn)一步包括通過控制裝置給出報(bào)警的步驟。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子束輻照加工的方法，其特征在于：

如需要調(diào)整的電子束的能量(E)大于Emax，則控制裝置給出受輻照對(duì)象質(zhì)量厚度過大，并且要求將受輻照對(duì)象的厚度降低到可接受的范圍的提示信息的步驟。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電子束輻照加工的方法，其特征在于：

如果需要調(diào)整的電子束的能量(E)小于Emin，則控制裝置控制電子束輻照加工裝置將其輸出電子束能量調(diào)整到Emin，并且給出要求將對(duì)受輻照對(duì)象的厚度增加到適當(dāng)范圍的提示信息。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電子束輻照加工的方法，其特征在于所述檢測步驟(b)還包括：

利用輻射透射檢測裝置獲得有關(guān)受輻照加工對(duì)象的透視圖像的步驟。

8.一種電子束輻照加工系統(tǒng)，包括：

電子束輻照加工裝置，其包括電子加速器(1)，以提供電子束(8)對(duì)受輻照加工對(duì)象進(jìn)行掃描；

輻射透視檢測裝置，其包括輻射源(2)；探測器陣列(3)；信號(hào)分析處理裝置(4)，用于獲得關(guān)于受輻照加工對(duì)象的質(zhì)量厚度(dρ)和/或長度(L)的信息；以及

控制裝置(5)，其用于控制所述電子束輻照加工裝置和所述輻射透視檢測裝置的操作，并且對(duì)所述電子加速器(1)的電子束的能量(E)和/或掃描寬度(W)進(jìn)行調(diào)節(jié)，以使所述電子加速器(1)的電子束的能量(E)和/或掃描寬度(W)與受輻照加工對(duì)象的質(zhì)量厚度(dρ)和/或長度(L)相匹配。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電子束輻照加工系統(tǒng)，其特征在于還包括：

傳輸裝置(6)，其用于輸送受輻照加工對(duì)象沿第一方向先后經(jīng)過輻射透視檢測裝置和電子束輻照加工裝置，以進(jìn)行輻射透視檢測和電子束輻照加工操作。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的電子束輻照加工系統(tǒng)，其特征在于：

所述電子束輻照加工裝置和輻射透視檢測裝置分別由輻射防護(hù)裝置(7)圍繞，以防止其相互之間產(chǎn)生信號(hào)干擾。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的電子束輻照加工系統(tǒng)，其特征在于：

所述電子束輻照加工裝置和輻射透視檢測裝置的中心出束方向沿第二方向延伸并且大體平行，所述第二方向與所述傳輸裝置輸送受輻照加工對(duì)象的第一方向大體垂直。