[發(fā)明專利]熱法煉磷的還原氧化爐有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910087961.X | 申請日： | 2009-06-25 |
| 公開（公告）號： | CN101650120A | 公開（公告）日： | 2010-02-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 馮曉梅;李進;李棟;李光明;張振民;王佳才;鄒建;馬永強;候雋 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國恩菲工程技術(shù)有限公司;四川川恒化工股份有限公司 |
| 主分類號： | F27B1/00 | 分類號： | F27B1/00;F27B1/10;F27B1/21;F27B1/20;F27B1/12;F27D3/16;C01B25/02 |
| 代理公司： | 北京市立方律師事務(wù)所 | 代理人： | 張 磊 |
| 地址： | 100038北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 熱法煉磷 還原 氧化 | ||
1.一種熱法煉磷的還原氧化爐，其特征在于，包括：爐體和噴槍，其中所述爐體具有出渣口、煙氣出口、和用于將熔融的磷礦石熔體加入到爐體內(nèi)的熔體進口，其中所述噴槍的一端插入到爐體內(nèi)，所述噴槍包括頂吹噴槍和側(cè)吹噴槍，所述頂吹噴槍的下端從爐體的頂部插入到爐體內(nèi)且始終位于爐體內(nèi)的渣液面上方，所述側(cè)吹噴槍的一端從爐體的側(cè)面插入到爐體內(nèi)且位于熔體進口下方,所述熔體進口位于爐體內(nèi)的渣液面之下，所述爐體的外側(cè)壁上設(shè)有突出部，所述突出部的上表面設(shè)有凹槽，所述熔體經(jīng)由所述凹槽進入所述熔體進口。?
2.如權(quán)利要求1所述的熱法煉磷的還原氧化爐，其特征在于，所述出渣口包括上出渣口和位于上出渣口下面的下出渣口，其中下出渣口的位置低于所述側(cè)吹噴槍插入到爐體內(nèi)的一端。?
3.如權(quán)利要求1所述的熱法煉磷的還原氧化爐，其特征在于，爐體上方設(shè)有限制頂吹噴槍下端插入爐體內(nèi)的深度的限位部件。?
4.如權(quán)利要求1所述的熱法煉磷的還原氧化爐，其特征在于，所述熔體進口通過傾斜的通道與所述凹槽連通。?
5.如權(quán)利要求1所述的熱法煉磷的還原氧化爐，其特征在于，所述凹槽上方設(shè)有保溫?zé)臁?
6.如權(quán)利要求1所述的熱法煉磷的還原氧化爐，其特征在于，所述熔體進口與溜槽相連以通過溜槽經(jīng)由熔體進口將熔體加入到爐體內(nèi)。?
7.如權(quán)利要求1所述的熱法煉磷的還原氧化爐，其特征在于，所述爐體進一步設(shè)有位于出渣口下面的磷鐵出口。?
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