[發明專利]基于光子篩的激光直寫光刻系統

無效

• 申請號: 200910084295.4
• 申請日: 2009-05-15
• 公開（公告）號: CN101561637A
• 公開（公告）日: 2009-10-21
• 發明（設計）人: 蔣文波;胡松;趙立新;邢薇;楊勇;嚴偉;周紹林;陳旺富;徐鋒;張博
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電技術研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/004
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司
• 代理人: 成金玉;盧 紀

1、基于光子篩的激光直寫光刻系統，其特征在于包括：曝光光源(1)、透鏡(2)、空間濾波裝置(3)、均勻準直透鏡組(4)、反射鏡(5)、光子篩(6)、光刻膠(7)、基片(8)和掃描工件臺(9)組成；曝光光源(1)經透鏡(2)聚焦后，經過空間濾波裝置(3)、均勻準直透鏡組(4)后成為均勻準直的平行光，然后由反射鏡(5)反射到光子篩(6)上，光子篩良好的聚焦能力，在放置在掃描工件臺(9)上并涂有光刻膠(7)的基片(8)上聚焦，利用光子篩與基片之間的相對運動來實現所需的光刻圖形。

2、根據權利要求1中所述的基于光子篩的激光直寫光刻系統，其特征在于：所述的均勻準直透鏡組(4)由準直透鏡(41)、濾波片(42)、積分鏡(43)和場鏡(44)組成，由激光光源發出的光經準直透鏡(41)后，變成均勻準直的平行光，再經濾光片(42)、積分鏡(43)和場鏡(44)作用后變成準均勻準直平行光。

3、根據權利要求1中所述的基于光子篩的激光直寫光刻系統，其特征在于：所述的光子篩(6)的結構為：由透明的基底(61)和不透明的金屬層(62)組成，在不透明的金屬層(62)上刻蝕有直徑不同的多個小孔(63)。

4、根據權利要求1中所述的基于光子篩的激光直寫光刻系統，其特征在于：所述的光子篩(6)是振幅型光子篩，或位相型光子篩。

5、根據權利要求1中所述的基于光子篩的激光直寫光刻系統，其特征在于：所述的曝光光源(1)為i線、或g線，或更短波長的EUV和X射線。

6、根據權利要求1中所述的基于光子篩的激光直寫光刻系統，其特征在于：所述的光刻膠是根據曝光光源的波長范圍進行選取的，對于i線曝光光源，選擇薄膠ARP-3170、厚膠SU-8或AZ5214。