[發(fā)明專利]一種舉升裝置及應(yīng)用該舉升裝置的等離子體處理設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910082619.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-04-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101872731A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于巖 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/677 | 分類號(hào): | H01L21/677;H01L21/00;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 張?zhí)焓?陳源 |
| 地址: | 100016 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 裝置 應(yīng)用 等離子體 處理 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及微電子技術(shù)領(lǐng)域,具體地,涉及一種舉升裝置以及應(yīng)用該舉升裝置的等離子體處理設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著科技進(jìn)步,等離子體處理企業(yè)面臨著新的技術(shù)挑戰(zhàn),因此,企業(yè)必須不斷進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新以適應(yīng)新的市場(chǎng)需求。
等離子體刻蝕技術(shù)是一種在諸如晶片等的半導(dǎo)體器件表面制造出精細(xì)圖案的等離子體處理技術(shù)。在刻蝕工藝中,在傳輸平臺(tái)和工藝平臺(tái)之間保持晶片傳輸?shù)姆€(wěn)定性是保證產(chǎn)品批量生產(chǎn)的基礎(chǔ)。為此,技術(shù)人員借助一種由晶片舉升裝置和機(jī)械手組成的傳輸系統(tǒng)完成對(duì)晶片的裝載和卸載。圖1所示即為一種晶片舉升裝置的結(jié)構(gòu)。該舉升裝置包括自上而下依次連接并保持相對(duì)水平的四針1、波紋管組件2、氣缸架3、升降柱4、氣缸固定板5以及氣缸8。其中,氣缸架3和氣缸8借助氣缸固定板5、螺栓6和螺栓7而固定連接在一起。波紋管組件2包括波紋管內(nèi)部軸(圖未示)和波紋管法蘭,波紋管內(nèi)部軸的上端連接四針1,下端通過(guò)升降柱4和氣缸8的內(nèi)部軸(圖未示)相連。這樣,通過(guò)控制氣缸8即可帶動(dòng)四針1完成相應(yīng)的舉升動(dòng)作。
在實(shí)際應(yīng)用中,舉升裝置常被設(shè)置于等離子體處理設(shè)備中靜電卡持裝置下面的電極屏蔽盒中,而四針的長(zhǎng)度一般設(shè)置為大于靜電卡持裝置的厚度,以使其可穿過(guò)靜電夾持裝置上所開(kāi)設(shè)的通孔。其工作過(guò)程如下:機(jī)械手承載晶片進(jìn)入等離子體處理設(shè)備的工藝腔室內(nèi),同時(shí)舉升裝置的四針上升使其頂端高于靜電夾持裝置上表面,機(jī)械手將晶片放置在四針頂端,四針退回原位,將晶片放置在靜電卡盤上而完成入座過(guò)程,以進(jìn)行相應(yīng)的加工工藝;當(dāng)工藝完成后,四針上升將晶片頂起并由機(jī)械手將其取出,而完成離座過(guò)程。
上述傳輸過(guò)程中,如果舉升裝置和機(jī)械手之間的水平度不一致,將導(dǎo)致取片失敗或出現(xiàn)掉片等的問(wèn)題,這不但造成原料浪費(fèi)而使成本增加,而且還將嚴(yán)重影響生產(chǎn)效率。因此,舉升裝置的水平度是等離子體處理工藝中的一個(gè)重要指標(biāo),并且要求在實(shí)際工藝中能夠?qū)嶋H需要而對(duì)其進(jìn)行調(diào)整。然而,在圖1所示的舉升裝置中,各組件通過(guò)螺栓來(lái)固定相對(duì)位置,這樣雖然能夠使各組件保持相對(duì)水平,但是對(duì)于因基座不平或其他原因而導(dǎo)致四針頂部不夠水平時(shí),將無(wú)法快速便捷地調(diào)整四針頂部的水平度,從而給維護(hù)工作帶來(lái)不便。
因此,技術(shù)人員對(duì)圖1所示的舉升裝置進(jìn)行了若干改進(jìn),并得到圖2所示的舉升裝置。圖2中,在氣缸固定板5上面設(shè)置有水平調(diào)節(jié)板9,并通過(guò)緊固螺栓10而將二者固定在一起。氣缸架3通過(guò)螺栓6與水平調(diào)節(jié)板9固定連接。在水平調(diào)節(jié)板9四邊的中間位置,均設(shè)置有用于進(jìn)行水平調(diào)節(jié)的包含有調(diào)節(jié)螺栓和鎖緊螺母的調(diào)平組件12。通過(guò)旋緊或旋松調(diào)節(jié)螺栓而使氣缸固定板5和水平調(diào)節(jié)板9之間的相對(duì)距離發(fā)生變化,從而實(shí)現(xiàn)了舉升裝置及其頂部四針?biāo)蕉鹊恼{(diào)節(jié)。
在實(shí)際應(yīng)用中,盡管圖2所示的舉升裝置可在一定范圍內(nèi)調(diào)整其水平度,但是其依然存在以下不足:
其一,在該舉升裝置中,水平調(diào)節(jié)板9與氣缸固定板5通過(guò)緊固螺栓10而保持相對(duì)位置關(guān)系并固定在一起,這就使得調(diào)平組件12的有效調(diào)節(jié)范圍很小,調(diào)節(jié)效果不明顯。而如果在實(shí)際操作時(shí),先將緊固螺栓10擰松,然后對(duì)調(diào)平組件12進(jìn)行調(diào)節(jié)使之達(dá)到適當(dāng)位置,最后再將緊固螺栓10擰緊以進(jìn)行固定,這樣勢(shì)必導(dǎo)致操作較為復(fù)雜,而且,最后擰緊緊固螺栓10時(shí)往往會(huì)對(duì)已調(diào)好的水平度產(chǎn)生影響,以致再需要進(jìn)行二次或多次地反復(fù)調(diào)節(jié)才能達(dá)到期望的水平度。因此,該舉升裝置單次水平調(diào)節(jié)的精度較低,而多次調(diào)節(jié)又會(huì)浪費(fèi)大量時(shí)間,進(jìn)而影響生產(chǎn)效率。
其二,該舉升裝置的水平調(diào)節(jié)板9和氣缸固定板5之間不但設(shè)置有起固定連接作用的緊固螺栓10,而且還要設(shè)置調(diào)平組件12。這就需要在水平調(diào)節(jié)板9和氣缸固定板5上相應(yīng)地加工出多個(gè)通孔或螺紋孔,用以安裝上述緊固螺栓10和調(diào)平組件12,因而增大了加工的復(fù)雜程度。
其三,上述調(diào)平組件12的調(diào)節(jié)端設(shè)置在水平調(diào)節(jié)板9的上部,也就是說(shuō),上述調(diào)平組件12的調(diào)節(jié)端位于氣缸固定板5和靜電夾持裝置之間,然而在實(shí)際應(yīng)用中,靜電夾持裝置下方用于安裝舉升裝置的空間非常狹小,這樣便使得調(diào)節(jié)上述調(diào)平組件12時(shí)的操作空間較小,從而給調(diào)節(jié)工作帶來(lái)不便,增大了調(diào)節(jié)難度。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種舉升裝置及應(yīng)用該舉升裝置的等離子體處理設(shè)備,其能夠方便快捷地進(jìn)行水平調(diào)節(jié),并且還具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、便于加工等特點(diǎn)。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
- 在線應(yīng)用平臺(tái)上應(yīng)用間通信的回調(diào)應(yīng)答方法、應(yīng)用及在線應(yīng)用平臺(tái)
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