[發明專利]用于等離子顯示屏的燒結裝置

無效

• 申請號: 200910082489.0
• 申請日: 2009-04-21
• 公開（公告）號: CN101719442A
• 公開（公告）日: 2010-06-02
• 發明（設計）人: 徐進
• 申請（專利權）人: 四川虹歐顯示器件有限公司
• 主分類號: H01J9/00
• 分類號: H01J9/00;H01J9/02;H01J9/24;H01J9/20;F27B9/02;F27B9/20;F27B9/38;F27B9/39
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 余剛

技術領域

本發明涉及等離子顯示屏領域，具體而言，涉及一種用于等離 子顯示屏的燒結裝置。

背景技術

在等離子顯示屏的制造工藝過程中，需要對附著有各種功能性 薄膜材料的等離子顯示屏(PDP)用前、后玻璃基板進行燒結。各 種功能性薄膜材料通常通過絲網印刷、平面涂敷、噴涂、蒸發、濺 射、貼膜等方式形成在玻璃基板的表面。絲網印刷、平面涂敷、局 部噴涂方式是目前廣泛的形成薄膜方法，薄膜材料先以粉體與有機 載體混合形成漿料，再涂敷在玻璃基板表面。干燥涂敷好漿料的玻 璃基板，揮發其中的溶劑(通常含有松油醇、BCA等)，然后，加 熱保溫再緩慢冷卻涂敷漿料的玻璃基板，使漿料中粘接劑如有機高 分子聚合物(例如乙基纖維素)揮發氧化，使粒子相互粘結并固化 附著。對于附著有電極漿料的玻璃基板而言，首先將前電極、后電 極漿料印刷在玻璃基板上，經過干燥后，再對涂敷有電極漿料的玻 璃基板加熱、保溫、然后冷卻，使漿料中的粘接劑如有機高分子聚 合物(例如乙基纖維素)揮發氧化，進而使銀粒子相互粘結并固化 附著在玻璃基板上，形成導電的電極；對于涂敷了前絕緣介質、后 絕緣介質、障壁層的玻璃基板而言，同樣需要使漿料中的粘接劑如 有機高分子聚合物(例如乙基纖維素)揮發氧化，進而使玻璃粒子 軟化相互粘結并固化附著在玻璃基板上，形成絕緣保護層或者隔離 的障壁；對于噴涂了熒光粉的玻璃基板而言，也要使漿料中的粘接 劑如有機高分子聚合物(例如乙基纖維素)揮發氧化，使紅色或者 藍色或者綠色熒光粉粒子軟化相互粘結并固化附著在障壁層上。

由于燒結的玻璃基板表面涂敷有前述漿料，燒結中玻璃基板表 面會沉積以及附著雜質或塵埃，所以在燒結時就會產生例如電極開 路等各種缺陷，只有保證燒結爐內部的塵埃粒子數量較少尺寸較小 (一般要求到達每立方英尺中大于0.5微米直徑塵埃粒子數量少于 1000個)，才不會有過量的塵埃粒子落在玻璃基板表面，造成產品 不良，進而導致等離子顯示屏的合格率降低。

通常，等離子顯示屏的前后基板需要分別經過六次燒結(前基板 電極、后基板電極、前基板絕緣介質、后基板絕緣介質、障壁、熒 光粉)，每次燒結均需要一臺專用的燒結爐。為了提供無塵環境，相 關技術中的一種方案是將燒結爐設置于10萬級的潔凈間中。

圖1示出了根據相關技術的燒結爐的結構和布局形式。如圖1 所示，燒結爐被完全放置在潔凈室102中，被燒結的已涂敷的玻璃 基板114放置在載板110上(通常把載板110和載板上的玻璃基板 114稱為玻璃基板組件)，該玻璃基板組件被置于滾柱112上。電機 帶動滾柱112旋轉進而驅動載板110連續運動，因此這種燒結爐被 稱為滾柱連續式隧道爐。由于每次燒結過程經過加熱、保溫、緩慢 冷卻、快速冷卻階段，為避免玻璃基板114因快熱快冷而變形翹曲， 加熱和冷卻速度不能太快，因此燒結爐104必須長度很長，占用很 大面積。通常燒結爐104被設計成重疊形式，加熱層106疊在返回 層108上，圖1所示是兩層燒結爐的示意圖，上層是加熱層106， 下層是返回層108。實際使用中燒結爐104的層數會根據廠房的高 度和生產節拍來確定，較佳的層數為三層，上面有兩層加熱層106， 下面有一層返回層108。在燒結爐104前部是一個入口提升機118， 該入口提升機118將從物流線上傳送來的玻璃基板組件提升到加熱 層106的入口高度，使載板110和玻璃基板114可輸送到加熱層106 的入口室112中，入口室112還可以在此安裝測量爐溫的表面熱電 偶。在燒結爐104的尾部，也布置有一個提升機120，把經過加熱 并緩慢冷卻后的玻璃基板組件下降到返回層108入口的高度，使玻 璃基板組件進入返回層108，在返回層108中快速冷卻，并在燒結 爐104的出口以低于80℃的溫度從提升機118的下層傳送到外部的 物流線中。燒結爐總數量多達六臺，每臺燒結爐都占用很大的凈化 廠房空間，而凈化廠房空間的制造費用和凈化使用費用都很高，因 此該方案導致成本較高。

另一種方案是只把燒結爐的入口和出口放置在凈化間中，把燒 結爐的其它部分放置在普通的非凈化間中。該方案可以解決上述的 燒結爐占用很大的凈化廠房空間帶來的成本較高的問題。圖2示出 了根據相關技術的一種改進的燒結爐的結構和布局，如圖2所示， 將燒結爐的入口提升機218放置在潔凈室202中，把燒結爐的其它 部分放置在普通的非凈化室224中。