[發明專利]微弱光檢測裝置有效
| 申請號: | 200910082317.3 | 申請日: | 2009-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN101865849A | 公開(公告)日: | 2010-10-20 |
| 發明(設計)人: | 趙作永 | 申請(專利權)人: | 北京量質科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/76 | 分類號: | G01N21/76;G01N33/53 |
| 代理公司: | 北京海虹嘉誠知識產權代理有限公司 11129 | 代理人: | 胡敬紅 |
| 地址: | 101116 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 微弱 檢測 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及醫療器械檢測技術領域,特別涉及一種用于化學發光免疫分析儀的微弱光檢測裝置。
背景技術
近年來,隨著社會發展和生物醫學技術的進步,每年進行的化學發光免疫分析檢測數量都在大幅度增加,不但對個性化快速檢測的要求日益迫切,而且對質量檢測數據的準確性和精度要求也很高。化學發光免疫分析儀檢測原理是利用抗原和抗體的特異反應,該生物化學反應釋放的自由能激發中間體,從基態回到激發態,能量以光子的形式釋放,光電轉換器將微弱光信號轉換成可識別的電信號,再由相應的裝置進行信號標定處理最終轉換成發光粒子數。顯然,做好避光措施是保證檢測質量的關鍵環節。在現有技術中,應用于化學發光免疫檢測設備的檢測裝置多采用全封閉式避光措施,不易實現自動化,不能滿足批量大規模檢測項目的需要,若避光方法不當,則自然光會干擾樣品檢測過程中檢測數據的準確性和精密度。因此,市場急需的是抗干擾能力強、靈敏度高、精確度高、處理效率高的微弱光檢測裝置。
發明內容
針對上述領域,本發明提供一種采用迷宮曲折面避光原理設計的微弱光檢測裝置,不但操作起來靈活方便,而且這種檢測裝置具備結構簡單、避光可靠、處理效率高,幾乎沒有自然光干擾,能達到很高的精確度。
微弱光檢測裝置,包括測量罩和光電傳感器,測量罩的壁上開有反應杯進口和反應杯出口,其特征在于:所述測量罩內有一個緊貼測量罩內壁的測量轉盤,所述所述測量轉盤上有一個通過其轉動能與反應杯進口和出口貫通的反應杯容孔,所述測量罩的壁上有一個測量口,所述測量口一端正對容孔內反應杯杯口轉動軌跡,測量口的另一端安裝有光電傳感器,測量口、容孔與反應杯進口或反應杯出口不貫通。
所述測量罩內壁與測量轉盤之間的間隙為0.3-1mm。
所述容孔、反應杯進口和反應杯出口相互貫通。
所述測量口正對測量轉盤轉180°時的容孔內反應杯杯口位置。
所述反應杯進口和反應杯出口為上、下貫通,或是前后貫通。
所述測量轉盤的轉軸為豎直方向,所述測量口位于測量罩的上壁。
所述測量罩為方形,所述測量轉盤為方形,所述反應杯容孔位于轉軸的一側。
所述反應杯進口和反應杯出口為上、下貫通,所述測量罩下正對反應杯進口的位置設置有頂桿,所述容孔內有可卡住反應杯的彈片。
本裝置還設置有棄杯導管,所述棄杯導管與反應杯出口連通。
所述光電傳感器的外面有測量套管。
本發明的思路在于將反應杯能以自動排序形式進入測量罩內,進行檢測,但由于進出口的光線作用會對測量產生影響,因此本發明設計了一個測量轉盤,當反應杯從進口進入測量罩時,其實際上是進入了測量轉盤上的容孔位置,通過旋轉離開進口而到達測量口的位置,測量完成后通過旋轉到達出口位置,由于測量轉盤是靠近測量罩內壁的,旋轉角度可以任一設定,只要測量口與出口或/和進口位置不貫通就可以實現避光,然而測量過程中自然光會不可避免的從測量罩上下裸露處——反應杯入口和出口處射入,微弱光測量條件要求在避光條件下進行的(測量環境光源本底要求小于100),基于光的波粒二象性的粒子性原理,我們采用了上述迷宮曲折面式的避光結構設計見圖2所示,射入測量罩內的自然光在迷宮曲折面內通過多次反射與折射主要是反射情況下,依次遞級逐步減弱,到達測量室另一端的光電傳感器處幾乎完全消失。
測量罩與其內的測量轉盤之間間隙較小(0.3-1mm之間),設計的該避光結構為非接觸式,密性面無貼死接觸配合。
從測量轉盤來看,進口、出口和測量口可以是位于轉盤的不同角度,為方便設備操作,進、出口與容孔可以設計成貫通的通道,反應杯從這邊進,那邊出,更優選測量口正對測量轉盤轉180°時的容孔內反應杯杯口位置。當反應杯從進口進入容孔,測量轉盤帶動容孔轉動180°,反應杯杯口正對測檢口,試劑杯中發光底物發出的微弱光經過測量室內的被高敏度光電傳感器捕捉,進行一系列光電轉換,A/D轉換,每一定間隔時間測量其數據,并將數據發送到上位機。當測量任務完成時,測量轉盤沿軸心反向旋轉,回到初始原位,反應杯從出口退出。
反應杯可以從水平方向的前后進出,或是從豎直方向的上、下出入。
測量轉盤的轉軸如設計為豎直方向,則測量口可位于測量罩的上壁。
對于測量罩和測量轉盤的形狀沒有特別的要求,只要求兩個主體相互靠近,保證轉動自如,同時縫隙要盡量小,使光線透入的少。優選測量罩為方形,測量轉盤為圓形,容孔位于轉軸偏心一側。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京量質科技有限公司,未經北京量質科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910082317.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:閃存盤
- 下一篇:用于可視化計算機屏幕上顯示的對象的方法、程序和產品編輯系統





