[發明專利]電壓調制型中長波雙色量子阱紅外探測器及其制作方法無效
| 申請號: | 200910081984.X | 申請日: | 2009-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN101866932A | 公開(公告)日: | 2010-10-20 |
| 發明(設計)人: | 霍永恒;馬文全;種明;張艷華;陳良惠 | 申請(專利權)人: | 中國科學院半導體研究所 |
| 主分類號: | H01L27/144 | 分類號: | H01L27/144;H01L31/101;H01L31/0304;H01L21/8252 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 湯保平 |
| 地址: | 100083 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電壓 調制 長波 量子 紅外探測器 及其 制作方法 | ||
1.一種電壓調制型中長波雙色量子阱紅外探測器,包括:
一半絕緣半導體GaAs襯底,作為整個器件的承載體;
一第一半導體GaAs接觸層,制作在半絕緣半導體GaAs襯底上,其中摻雜n型雜質,起到緩沖襯底和其它層之間應力的作用,又充當了器件的下接觸層,用來連接外部偏置電壓,傳導電流;
一第一多量子阱紅外探測器,制作在第一半導體GaAs接觸層上,其量子阱內摻雜n型雜質,用于探測位于長波大氣窗口的紅外輻射,該第一多量子阱紅外探測器的面積小于第一半導體GaAs接觸層的面積,而位于第一半導體GaAs接觸層一側,該第一半導體GaAs接觸層的另一側形成有一臺面;
一第二半導體GaAs接觸層,制作在第一多量子阱紅外探測器上,其中摻雜n型雜質,起到將上下兩個探測器在電學上串聯起來的作用;
一第二多量子阱紅外探測器,制作在第二半導體GaAs接觸層上,其量子阱內摻雜n型雜質,用于探測位于中波大氣窗口的紅外輻射;
一第三半導體GaAs接觸層,制作在第二多量子阱紅外探測器上,其中摻雜n型雜質,起到保護整個器件的作用,并作為上接觸層,用來連接外部偏置電壓,傳導電流;
一上接觸電極和下接觸電極,分別制作在第三半導體GaAs接觸上和第一半導體GaAs接觸層形成的臺面上。
2.根據權利要求1所述的電壓調制型中長波雙色量子阱紅外探測器,其中第一、第二和第三半導體GaAs接觸層的層厚為300-700納米。
3.根據權利要求1所述的電壓調制型中長波雙色量子阱紅外探測器,其中第一和第二多量子阱紅外探測器,其各自內部由多個相同的重復單元構成。
4.根據權利要求3所述的電壓調制型中長波雙色量子阱紅外探測器,其中該第一多量子阱紅外探測器的每一個重復單元包括:
一第一AlXGa1-XAs勢壘層,用來限制電子;
一GaAs量子阱層,制作在第一AlXGa1-XAs勢壘層上,其中摻雜n型雜質,提供載流子;
一第二AlXGa1-XAs勢壘層,制作在GaAs量子阱層上,用來限制電子。
5.根據權利要求3所述的電壓調制型中長波雙色量子阱紅外探測器,其中該第二多量子阱紅外探測器的每一個重復單元包括:
一第一AlXGa1-XAs勢壘層,用來限制電子;
一第一GaAs層,制作在第一AlXGa1-XAs勢壘層上,改善量子阱的界面質量;
一InXGa1-XAs量子阱層,制作在第一GaAs層上,其中摻雜n型雜質,提供載流子;
一第二GaAs層,制作在InXGa1-XAs量子阱層上,改善量子阱的界面質量;
一第二AlXGa1-XAs勢壘層,制作在第二GaAs層上,用來限制電子;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





