[發明專利]激光脈沖沉積法制備白光光電導效應的摻鐵碳薄膜材料

無效

• 申請號: 200910081398.5
• 申請日: 2009-04-03
• 公開（公告）號: CN101550530A
• 公開（公告）日: 2009-10-07
• 發明（設計）人: 章曉中;萬蔡華;高熙禮;張歆;吳利華
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/28;H01L31/0288;H01L31/18
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司
• 代理人: 童曉琳

1.激光脈沖沉積法制備白光光電導效應的摻鐵的碳薄膜材料，其特征在于，將Si(100)基片、純度為99.9％的C靶以及純度為99.99％的Fe靶放入激光脈沖沉積設備的真空鍍膜室內，將鍍膜室內的背底真空抽至小于8×10^-4Pa后，加熱Si基片至350℃～450℃，再用KrF激光器脈沖轟擊Fe靶，并同時啟動旋轉Fe靶和Si基片的馬達，開始沉積Fe層薄膜，脈沖激光的頻率為1～10Hz，沉積時間為2～8min，之后用KrF激光器脈沖轟擊高純C靶，并同時啟動旋轉C靶和Si基片的馬達，開始沉積C層薄膜，脈沖激光的頻率為1～10Hz，沉積時間為4～15min，沉積結束后，保溫退火10min～30min，讓Fe原子擴散至C層中，自然冷卻至室溫，得到具有白光光電導效應的摻鐵的碳薄膜材料。