[發明專利]液晶屏配向膜碎屑的清洗方法

有效

• 申請號: 200910080565.4
• 申請日: 2009-03-20
• 公開（公告）號: CN101840108A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發明（設計）人: 陳東
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;B08B3/04;H05F1/02
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

技術領域

本發明涉及液晶顯示領域，特別是涉及一種液晶屏配向膜碎屑的清洗方法。

背景技術

液晶顯示器(Liquid?Cristal?Display，簡稱LCD)是目前計算機顯示器和高端電視等顯示領域的主流產品。在LCD的制造和使用過程中，液晶屏的“壞點”影響圖像的正常顯示，該不良是困擾LCD廠家和消費者的主要質量問題之一。液晶屏“壞點”形成的原因有很多，其中最主要的原因是在LCD的制造過程中有雜物進入液晶屏中。

在液晶屏制造的過程中，需要使用用于對液晶進行取向的配向膜，且多數配向膜需要進行摩擦(Rubbing)工序處理之后，才可對液晶進行配向。摩擦工序需要使用一種表面裹有摩擦布的輥子，在輥子高速旋轉的同時，對涂在基板(如：陣列基板或彩膜基板)上的配向膜進行摩擦，其中，摩擦布一般由纖維、絲或棉制成，配向膜由一種有機物溶液經烘烤制成。在對涂在基板上的配向膜進行摩擦時，通過在配向膜表面形成溝槽，對配向膜分子進行取向，使得配向膜分子對液晶分子有取向作用。

在摩擦布摩擦配向膜之后，基板上經摩擦后的配向膜表面會產生碎屑(包括配向膜碎屑和摩擦布纖維碎屑等)，這些碎屑需通過清洗工序去除，如果基板上配向膜表面的碎屑沒有清洗徹底，殘留的碎屑會成為液晶屏制造過程中引入的雜質，即是形成液晶屏“壞點”的原因之一。在摩擦工序產生的碎屑中，摩擦布纖維碎屑體積較大且和配向膜的結合力很小，清洗很容易；但配向膜碎屑的尺寸小且和與配向膜之間的結合力很強，使得配向膜碎屑的清洗較為困難。

現有技術在摩擦工序后的清洗工序中，通常使用去離子水或異丙醇(IPA)溶液對基板上的配向膜表面進行清洗。由于去離子水或IPA溶液等液體內部含有的離子很少，在從成分是有機物的配向膜表面清洗帶有強靜電的配向膜碎屑時，效率很低。由于配向膜碎屑清洗不徹底而導致液晶屏異物不良，成為生產線內的多發問題。目前很多廠家使用各種方法致力于摩擦后的清洗工序的改善，但是收效甚微。

發明內容

本發明的目的是提供一種液晶屏配向膜碎屑的清洗方法，用以提高液晶屏基板上經摩擦后的配向膜表面的配向膜碎屑的清洗效率。

為實現上述目的，本發明提供了一種液晶屏配向膜碎屑的清洗方法，其特征在于，包括：利用清洗液清洗經摩擦后的配向膜表面，所述清洗液為揮發性電解質溶液，所述電解質溶液用于去除所述配向膜表面和配向膜碎屑上的靜電。在上述技術方案的基礎上，揮發性電解質溶液可為碳酸溶液(H₂CO₃)、甲酸銨溶液(HCOONH₄)或醋酸銨溶液(CH₃COONH₄)；揮發性電解質溶液的揮發溫度可小于250℃；可根據需要清洗的配向膜表面的面積或所述配向膜碎屑的數量，確定所述電解質溶液的濃度和/或用量；采用所述揮發性電解質溶液清洗所述配向膜表面的時間優選為：1min～5min。在配向膜表面清洗后，可對清洗后的配向膜表面進行干燥處理，以使配向膜表面的電解質溶液揮發；干燥處理的方式可包括：加熱清洗后的所述配向膜表面，以使配向膜表面的電解質溶液揮發。

在上述技術方案的基礎上，還可使用去離子水或異丙醇溶液清洗所述揮發性電解質溶液清洗后的所述配向膜表面或干燥處理后的所述配向膜表面；并干燥所述使用去離子水或異丙醇溶液清洗后的配向膜表面。

本發明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法使用揮發溫度低的揮發性電解質溶液，清洗基板上經摩擦后的配向膜表面的碎屑，可有效提高配向膜碎屑的清洗效率；在配向膜碎屑清洗之后，采用加熱等方法，即可將配向膜表面殘余的電解質完全蒸發，因此，不會對液晶屏內部造成污染，有利于為液晶屏的品質提供保證。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法實施例一流程圖；

圖2為本發明液晶屏配向膜碎屑的清洗方法實施例二流程圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。