[發明專利]帶自支撐框架的全鏤空結構光調制熱成像焦平面陣列

無效

• 申請號: 200910080276.4
• 申請日: 2009-03-17
• 公開（公告）號: CN101498608A
• 公開（公告）日: 2009-08-05
• 發明（設計）人: 焦斌斌;陳大鵬;歐毅;葉甜春
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G01J5/02
• 分類號: G01J5/02;G01J5/38;B81B7/02
• 代理公司: 北京市德權律師事務所
• 代理人: 劉鐵生

1、一種光調制熱成像焦平面陣列，其特征在于包括陣列框架和微懸臂梁單元；

所述陣列框架由外框和內框構成，該內框為網格狀，設置在所述的外框內，形成多個鏤空單元；

每個鏤空單元內設置一個微懸臂梁單元，該微懸臂梁單元與構成鏤空結構的內框或外框相連接，所有的微懸臂梁單元與內框采用相同的材料且一體成型。

2、根據權利要求1所述的光調制熱成像平面陣列，其特征在于所述的微懸臂梁單元包括至少一組熱變形結構和一組紅外吸收結構，所述熱變形結構包括至少一根隔離梁和至少一根形變梁，所述形變梁連接紅外吸收結構和隔離梁，所述隔離梁與所述的陣列框架連接。

3、根據權利要求2所述的光調制熱成像焦平面陣列，其特征在于：所述的陣列外框為單晶硅材料，其晶向為<100>、<110>、<111>。

4、根據權利要求1所述的光調制熱成像焦平面陣列，其特征在于：所述的微懸臂梁單元的材料與內框的材料相同都為氧化硅或氮化硅或碳化硅。

5、根據權利要求2所述的光調制熱成像焦平面陣列，其特征在于：所述的形變梁上附著有0.1-1微米的金屬薄膜。

6、根據權利要求2所述的光調制熱成像焦平面陣列，其特征在于：所述的紅外吸收結構上附著有0.1-1微米的金屬薄膜。

7、根據權利要求5或6所述的光調制熱成像焦平面陣列，其特征在于：所述的金屬薄膜的材料為鋁、金、鉻、鈦、錫或鉛。

8、根據權利要求1所述的光調制熱成像焦平面陣列，其特征在于：所有所述的內框的梁寬度相等，所述的寬度在0.5微米到10微米之間；所有所述的內框的梁厚度相等，所述的厚度在0.5微米到100微米之間。

9、根據權利要求1所述的光調制熱成像焦平面陣列，其特征在于：所述的鏤空單元橫截面的形狀為正方形或者長方形，所有所述的鏤空單元均相同。

10、根據權利要求1所述的光調制熱成像焦平面陣列，其特征在于：所有所述的微懸臂梁單元排列方向一致。