[發明專利]一種常壓等離子體裝置無效
| 申請號： | 200910080140.3 | 申請日： | 2009-03-24 |
| 公開（公告）號： | CN101583233A | 公開（公告）日： | 2009-11-18 |
| 發明（設計）人： | 何艾華;趙鳳剛;陳光羽;王建強 | 申請（專利權）人： | 新奧光伏能源有限公司 |
| 主分類號： | H05H1/46 | 分類號： | H05H1/46;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京市德權律師事務所 | 代理人： | 李維真;王建國 |
| 地址： | 065001河北*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 常壓 等離子體 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種常壓等離子體裝置，該裝置包括：電源(1)、平行放電電極(2)、介質阻擋層(3)、前驅物等離子體區(4)、廢氣排放處理系統(5)。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，電源(1)采用頻率范圍在1KHz～1GHz的高頻電源。
3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，平行放電電極(2)后端加載冷卻系統控制極板溫度。
4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，平行放電電極(2)為任意一種平行相對的形式。
5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，平行電極組成陣列，同時每對電極能夠獨立控制，以滿足鍍膜或表面處理的各種需求。
6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，平行電極與基板同時移動或僅某一個移動，以實現靈活的大面積化高效處理。
7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，介質阻擋保護層(3)采用絕緣耐高溫的含氧化硅、氧化鋁的陶瓷或玻璃類材料。
8.根據權利要求1～7所述的任意一種裝置，其特征在于，前驅物等離子體區(4)所用的氣體來自于壓縮氣源或液體與固體的蒸發及升華后的氣體形態物質。
9.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，液態前驅體采用載氣鼓泡、超音速噴嘴霧化蒸發、薄膜蒸發器蒸發的形式獲得氣態前驅體。
10.根據權利要求1～9所述的任意一種裝置在薄膜沉積生長、表面清洗、表面改性中的應用。
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